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最新专利技术
  • 定影用旋转构件、定影装置、电子照相图像形成设备、定影用旋转构件的制造方法和导电构件
    定影用旋转构件、定影装置、电子照相图像形成设备、定影用旋转构件的制造方法和导电构件_佳能株式会社_202510508174.7
    本发明涉及定影用旋转构件、定影装置、电子照相图像形成设备、定影用旋转构件的制造方法和导电构件。一种定影用旋转构件， 其包括：包含树脂的基材；基材上的发热层；和在发热层的表面上的树脂层， 该发热层的表面与发热层的面向基材的另一表面相反， 其中...
    2025-12-05
  • 加热装置和图像形成装置
    加热装置和图像形成装置_佳能株式会社_202510480318.2
    本公开涉及一种加热装置， 其包括调节从AC电源供应到加热部件的电力的第一开关和设置在供电路径中的第二开关。第一开关相对于来自AC电源的外来干扰的抗干扰性低于第二开关的抗干扰性。在第一旋转部件和第二旋转部件处于非旋转状态的时段中， 当温度大于...
    2025-12-05
  • 成像装置
    成像装置_佳能株式会社_202510518155.2
    本公开涉及一种成像装置， 容纳显影剂的盒能够附接至成像装置且能够从成像装置拆卸。成像装置具有容纳所述盒的旋转体；以及控制驱动单元以使旋转体旋转的控制单元。控制单元将旋转体旋转到第一旋转相位以便更换所述盒；在显影图像时将旋转体旋转到第二旋转相...
    2025-12-05
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510495359.9
    一种成像设备包括感光鼓、曝光装置、旋转体和调色剂盒， 该旋转体包括显影辊和包含容置部的容置框架， 该调色剂盒可拆卸地附接至旋转体。曝光装置包括外壳和通道部， 该通道部设置在该外壳中并且布置在旋转体的旋转轴线下方， 并且朝向感光鼓发射的光穿过...
    2025-12-05
  • 感光构件单元、盒和电子照相成像设备
    感光构件单元、盒和电子照相成像设备_佳能株式会社_202510990888.6
    本公开提供了一种感光构件单元， 成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分， 感光构件单元包括：能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件；第一单元侧斜齿轮部分；以及第二单元侧斜齿轮部分， 第二单元侧斜齿轮部分的齿的扭转...
    2025-12-05
  • 显影液、及使用其的彩色滤光片的制造方法
    显影液、及使用其的彩色滤光片的制造方法_化药化工(无锡)有限公司_202410446436.7
    提供显影性优异且不发生残渣和底切的显影液、及使用其的彩色滤光片的制造方法。该显影液含有(A)聚氧乙烯苯基醚和(D)聚氧乙烯三苯乙烯基化苯基醚， 且任选含有(B)聚氧乙烯单苯乙烯基化苯基醚和/或(C)聚氧乙烯二苯乙烯基化苯基醚。
    2025-12-05
  • 一种液处理装置
    一种液处理装置_沈阳芯源微电子设备股份有限公司_202410492959.5
    本发明公开了一种液处理装置， 包括：底座；多个供液机构， 分布于所述底座上， 所述供液机构包括升降部、摆臂部和喷嘴部， 所述摆臂部用于驱动所述喷嘴部从待机位置运动至工作位置， 以使所述喷嘴部向基板供给液体， 所述摆臂部包括第一摆臂和第二摆臂...
    2025-12-05
  • 基于图形诱导的轮廓图案形成工艺及微观轮廓图案结构
    基于图形诱导的轮廓图案形成工艺及微观轮廓图案结构_苏州美图半导体技术有限公司_202410471149.1
    本发明涉及一种基于图形诱导的轮廓图案形成工艺， 其包括以下步骤：S1、提供衬底， 对所述衬底进行预处理以提升其光刻胶黏附性；S2、在S1中预处理后的所述衬底上涂覆光刻胶， 然后进行前烘；S3、提供指定图形的掩膜版， 对S2中前烘后的光刻胶进...
    2025-12-05
  • 一种正视与透射测量兼容且光路焦距自动可调适应不同厚度的双面套刻测量系统及方法
    一种正视与透射测量兼容且光路焦距自动可调适应不同厚度的双面套刻测量系统及方法_奈米科学仪器装备(杭州)有限公司_202511317368.5
    本发明提出了一种正视与透射测量兼容且光路焦距自动可调适应不同厚度的双面套刻测量系统及方法， 该方法包括：步骤1、布置光源和晶圆：步骤2、判断晶圆的厚度， 如其厚度小于设定值， 则执行步骤3， 否则执行步骤4至步骤5；步骤3、开启透射光源， ...
    2025-12-05
  • 信息处理装置、信息处理方法、非暂时性计算机可读存储介质、程序产品、图案形成装置、以及物品制造方法
    信息处理装置、信息处理方法、非暂时性计算机可读存储介质、程序产品、图案形成装置、以及物品制造方法_佳能株式会社_202510480280.9
    本发明涉及信息处理装置、信息处理方法、非暂时性计算机可读存储介质、程序产品、图案形成装置、以及物品制造方法。信息处理装置包括：获得单元， 被配置为获得图案形成的性能指标的目标值；估计单元， 被配置为对多个回归模型中的每一个估计在通过校正基板...
    2025-12-05
  • 原版支架、曝光装置以及物品制造方法
    原版支架、曝光装置以及物品制造方法_佳能株式会社_202510465785.8
    本发明提供原版支架、曝光装置以及物品制造方法。原版支架保持原版， 其中， 上述原版支架具有：支架部， 该支架部保持上述原版的下表面的至少一部分；以及密封构件， 该密封构件将在上述原版与上述支架部之间流动的气体密封， 与未设置上述密封构件的场...
    2025-12-05
  • 决定曝光机台的曝光位置的方法及其计算机装置
    决定曝光机台的曝光位置的方法及其计算机装置_华邦电子股份有限公司_202410595404.3
    本申请实施例提供一种决定曝光机台的曝光位置的方法及其计算机装置， 由计算机装置所实施。方法包含基于曝光机台的原始数据， 以影响曝光机台的实际偏移值的多个关键变因训练回归模型。方法更包含基于原始数据， 使用已训练的回归模型计算预测偏移值。方法...
    2025-12-05
  • 基于逐片水平向参数的套刻方法、装置、设备及介质
    基于逐片水平向参数的套刻方法、装置、设备及介质_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202410502407.8
    本发明涉及晶片套刻领域， 特别是涉及一种基于逐片水平向参数的套刻方法、装置、设备及介质， 通过获取目标批次的抽样晶片的测量套刻值及显著性相关参数， 及所述目标批次的剩余晶片的显著性相关参数；所述显著性相关参数为预设的逐片水平向参数；根据所述...
    2025-12-05
  • 刻蚀补偿偏差的获取方法、光学邻近修正方法、存储介质及终端
    刻蚀补偿偏差的获取方法、光学邻近修正方法、存储介质及终端_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410490412.1
    一种刻蚀补偿偏差的获取方法、光学邻近修正方法、存储介质及终端， 其中刻蚀补偿偏差的获取方法包括：提供测试衬底， 测试衬底包括主测试鳍部， 测试鳍部切断图层中具有主测试切断目标图形；形成测试栅极， 测试栅极在测试栅极图层中具有测试栅极目标图形...
    2025-12-05
  • 刻蚀补偿偏差的获取方法、光学邻近修正方法、存储介质及终端
    刻蚀补偿偏差的获取方法、光学邻近修正方法、存储介质及终端_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410490310.X
    一种刻蚀补偿偏差的获取方法、光学邻近修正方法、存储介质及终端， 其中刻蚀补偿偏差的获取方法包括：提供测试衬底， 测试衬底包括测试基底、以及位于测试基底上的初始主测试鳍部；对初始主测试鳍部进行切断处理形成主测试鳍部， 切断处理形成的主切断开口...
    2025-12-05
  • 模型的建立方法及系统、位置偏差补偿方法、设备及存储介质
    模型的建立方法及系统、位置偏差补偿方法、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410482637.2
    一种模型的建立方法及系统、位置偏差补偿方法、设备及存储介质， 建立方法包括：获取多个相对位置参数， 相对位置参数表征版图图形中的目标图形与其相邻版图图形的相对位置关系；获取目标图形对应在晶圆上的图形结构与目标图形的位置偏差参数；结合多个目标...
    2025-12-05
  • 一种提高PHS树脂体系光刻胶的抗离子注入性方法及光刻胶
    一种提高PHS树脂体系光刻胶的抗离子注入性方法及光刻胶_徐州博康信息化学品有限公司_202511011442.0
    本发明提供了一种提高PHS树脂体系光刻胶的抗离子注入性方法， 在光刻胶配方中使用苯环结构单体含量大的PHS树脂。本发明还提供了一种化学放大型光刻胶， 所述光刻胶包括PHS树脂、光酸、碱、吸收剂、流平剂、溶剂。本发明的化学放大型正性光刻胶在离...
    2025-12-05
  • 多层结构型的光敏干膜、图案形成方法、显示装置、及Micro-LED显示器
    多层结构型的光敏干膜、图案形成方法、显示装置、及Micro-LED显示器_信越化学工业株式会社_202510487487.9
    本发明的技术问题在于提供可以不分开进行而是一并进行含量子点的光致抗蚀剂的工艺与吸收蓝色LED的光的抗蚀剂材料的工艺的材料、及使用了该材料的图案形成方法及显示装置。其解决手段为一种多层结构型的光敏干膜， 其特征在于， 其具备：支撑膜；形成在所...
    2025-12-05
  • 光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜、图案形成方法、显示装置及Micro-LED显示器
    光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜、图案形成方法、显示装置及Micro-LED显示器_信越化学工业株式会社_202510487334.4
    本发明的目的在于提供光敏树脂组合物、使用该光敏树脂组合物得到的光敏树脂覆膜、光敏干膜及使用该光敏树脂组合物和光敏干膜的图案形成方法以及使用所述光敏树脂组合物得到的显示装置， 所述光敏树脂组合物能够容易地形成光刻分辨率高、具有良好的发光特性的...
    2025-12-05
  • 光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜、图案形成方法、显示装置及micro-LED显示器
    光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜、图案形成方法、显示装置及micro-LED显示器_信越化学工业株式会社_202510487133.4
    本发明的目的在于提供一种光敏树脂组合物、使用该光敏树脂组合物得到的光敏树脂覆膜、光敏干膜、及使用它们的图案形成方法以及使用所述光敏树脂组合物得到的显示装置， 所述光敏树脂组合物能够容易地形成光刻分辨率高、具有良好的蓝色光吸收特性的覆膜。本发...
    2025-12-05
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