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最新专利技术
  • 一种光源控制电路、投影仪
    一种光源控制电路、投影仪_宜宾市极米光电有限公司_202410575536.X
    本发明公开了一种光源控制电路、投影仪，涉及投影技术领域。该光源控制电路中，逻辑处理电路的输入端与调制控制器连接，输出端用于根据调制控制器输出的用于控制蓝激光的点亮/关闭信号和用于控制绿光的点亮/关闭信号确定出荧光点亮时段；选择开关控制电路的...
    2026-02-07
  • 激光光源装置和投影设备
    激光光源装置和投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202511383577.X
    本申请公开了一种激光光源装置和投影设备，属于激光显示领域。激光光源装置包括：多个激光器、光传导组件、复眼透镜以及扩散组件，其中光传导组件用于对多个激光器发出的激光合光输出三色激光，复眼透镜包括阵列排布的多个矩形透镜，以及平行排列的第一复眼透...
    2026-02-07
  • 一种人力资源智能绩效展台装置
    一种人力资源智能绩效展台装置_苏州杰赛人才科技发展有限公司_202511126476.4
    本发明涉及人力绩效展示领域，具体的说是指一种人力资源智能绩效展台装置，包括移动货架及固定安装在移动货架底部两侧边缘位置上的限位套壳，所述移动货架的内侧壁面上固定安装有防护套筒，所述防护套筒的内侧壁面上设置有展示投影布，所述移动货架的顶部外侧...
    2026-02-07
  • 一种透明投影器件
    一种透明投影器件_苏州政道光电材料有限公司_202511357682.6
    本申请提供一种透明投影器件，包括透明投影器件本体以及设置于所述透明投影器件本体至少一侧的增透膜，影像光以倾斜角度入射至增透膜和透明投影器件本体，所述增透膜用于降低所述影像光以倾斜角度通过透明投影器件本体表面的镜面反射而入射至最佳观看区内的反...
    2026-02-07
  • 一种最优化像差数字补偿的光学相干层析装置及成像方法
    一种最优化像差数字补偿的光学相干层析装置及成像方法_南京理工大学_202511008286.2
    本发明公开了一种最优化像差数字补偿的光学相干层析装置及成像方法，该装置包括光学相干层析装置和图像处理模块，光学相干层析装置包括照明模块、干涉模块、面阵探测模块和同步控制模块。成像方法为：依据相干门控设定装置光源参数，依据采样定理确定面阵探测...
    2026-02-07
  • 光学邻近效应矫正方法、掩膜版及可读存储介质
    光学邻近效应矫正方法、掩膜版及可读存储介质_无锡华润上华科技有限公司_202410565286.1
    本发明涉及一种光学邻近效应矫正方法、掩膜版及可读存储介质，所述方法包括：获取掩膜版设计图形；根据OPC模型对所述掩膜版设计图形进行模拟，得到模拟曝光图形；计算所述模拟曝光图形与所述掩膜版设计图形在各目标点的边缘放置误差；根据所述边缘放置误差...
    2026-02-07
  • 光学邻近修正方法及系统、掩膜版及设备、存储介质、计算机程序
    光学邻近修正方法及系统、掩膜版及设备、存储介质、计算机程序_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410566281.0
    一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版及设备、存储介质、计算机程序，方法包括：对多个原始图形进行全局光学邻近修正处理，形成多个初始修正图形，以及与多个初始修正图形相对应的多个第一模拟图形；获取边缘放置误差不满足修正标准的第一模拟图形，以及与其对...
    2026-02-07
  • 光学邻近修正方法和系统、设备及存储介质
    光学邻近修正方法和系统、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410573342.6
    一种光学邻近修正方法和系统、设备及存储介质，修正方法包括：提供设计版图，包括多个设计图形；在多个所述设计图形中选择具有互连端部的设计图形作为目标图形，其中，所述互连端部用于实现设计图形在晶圆上的对应结构的互连；对所述目标图形的互连端部进行端...
    2026-02-07
  • 光学邻近校正方法、电子设备和计算机可读存储介质
    光学邻近校正方法、电子设备和计算机可读存储介质_全芯智造技术有限公司_202511453379.6
    本公开涉及一种光学邻近校正方法、电子设备和计算机可读存储介质。光学邻近校正方法包括：将初始版图图形的轮廓切割为多个线段；将在轮廓的预设区域的线段切割为多个第一点；针对多个线段以及多个第一点中的每个第一点分别确定相应的光强误差，其中光强误差指...
    2026-02-07
  • 一种光掩模版及其形成方法
    一种光掩模版及其形成方法_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410580573.X
    本申请提供一种光掩模版及其形成方法，所述光掩模版包括：透明基板，所述透明基板包括图形区和空白区，所述图形区包括主图形区和标记区；阻断层，所述阻断层位于所述空白区表面，环绕所述标记区设置，所述阻断层的透光率为0％，对光的反射率为100％。所述...
    2026-02-07
  • 基于压电陶瓷驱动的缺陷标记方法、系统、介质和设备
    基于压电陶瓷驱动的缺陷标记方法、系统、介质和设备_三代光学科技(天津)有限公司_202511457745.5
    本申请提供了一种基于压电陶瓷驱动的缺陷标记方法、系统、介质和设备，涉及精密微纳加工技术领域，包括：获取待处理板材每一缺陷点的坐标；控制XY移动平台根据当前缺陷点的坐标将当前缺陷点移动至缺陷标记装置的压头的正下方；获取当前缺陷点与压头尖端的距...
    2026-02-07
  • 钙钛矿光刻胶纳米复合材料的制备方法以及激光直写方法
    钙钛矿光刻胶纳米复合材料的制备方法以及激光直写方法_上海理工大学_202510393809.3
    本发明公开了一种钙钛矿光刻胶纳米复合材料的制备方法以及激光直写方法。制备方法包括以下步骤：形成双光子光刻胶基底；形成CsPbBr₃前驱体溶液；融合CsPbBr₃前驱体溶液与双光子光刻胶基底，形成掺杂CsPbBr₃前驱体的双光子光刻胶纳米复合...
    2026-02-07
  • 抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法
    抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法_三星电子株式会社_202510511798.4
    公开抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法。所述抗蚀剂组合物可包括由式1‑1至1‑4的任一个表示的有机金属化合物、由式2表示的添加剂、和溶剂。所述溶剂可包括非极性溶剂、极性非质子溶剂、或其组合。对于式1‑1至1‑4和2中的M11、L11至L14...
    2026-02-07
  • 感光性着色组合物、固化物、有机电致发光元件和图像显示装置
    感光性着色组合物、固化物、有机电致发光元件和图像显示装置_三菱化学株式会社_202511024194.3
    提供加热处理后较少产生电极的表面粗糙的感光性着色组合物、固化物、有机电致发光元件和图像显示装置。感光性着色组合物的特征在于，其含有(a)着色剂、(b)碱溶性树脂、(c)光聚合引发剂、(d)烯属不饱和化合物、(e)溶剂和(f)分散剂，上述(a...
    2026-02-07
  • 一种光刻胶溶液及其制备方法与应用
    一种光刻胶溶液及其制备方法与应用_苏州大学_202511451381.X
    本发明公开了一种光刻胶溶液及其制备方法与应用，包含含氟化合物、负载阳离子的偶氮苯类化合物及光引发剂；所述含氟化合物为含氟树脂单体和/或含氟共聚物，所述负载阳离子的偶氮苯类化合物由偶氮苯类化合物经有机胺和/或有机铵盐修饰后，再负载阳离子得到。...
    2026-02-07
  • 感光性树脂组合物、感光性固化膜及其制备方法以及电子元件
    感光性树脂组合物、感光性固化膜及其制备方法以及电子元件_深圳先进电子材料国际创新研究院_202510845459.X
    本申请提供一种感光性树脂组合物、感光性固化膜及其制备方法以及电子元件，该感光性树脂组合物包括聚酰亚胺前体树脂、光引发剂、热产碱剂、具有酰胺酸结构的聚合性化合物和架桥剂。本申请通过在感光性树脂组合物中加入热产碱剂、具有酰胺酸结构的聚合性化合物...
    2026-02-07
  • 一种ArF光刻用双层树脂膜、其制备方法及应用
    一种ArF光刻用双层树脂膜、其制备方法及应用_上海新阳半导体材料股份有限公司_202410557303.7
    本发明公开了一种ArF光刻用双层树脂膜、其制备方法及应用。本发明的双层树脂膜包括一抗蚀剂层和涂覆于抗蚀剂层的一顶层涂层膜层。本发明的双层树脂膜运用在ArF浸没式光刻中，能够减少光刻胶性能下降和缺陷增多的问题。
    2026-02-07
  • 晶圆涂胶装置
    晶圆涂胶装置_上海光通信有限公司_202410587220.2
    本申请提供一种晶圆涂胶装置，涉及半导体设备技术领域，旨在解决现有技术中晶圆涂胶装置对晶圆进行涂胶及冲洗后，存在清洗液容易导致晶圆污染，降低了晶圆良率的技术问题，该晶圆涂胶装置包括承载台、收集杯及吸附结构；承载台用于承载晶圆，收集杯环设于承载...
    2026-02-07
  • 用于数字光刻的图像稳定化
    用于数字光刻的图像稳定化_应用材料公司_202511235227.9
    本公开内容提供当存在包括子像素交叉扫描振动的交叉扫描振动时，用于校正从空间光调制器(SLM)到基板的图像的投射的方法和系统。这些方法和系统包括：偏移相对于基板上的横向扫描行进方向旋转的SLM上的掩模图案，沿着SLM的轴偏移以对交叉扫描振动进...
    2026-02-07
  • 用于光刻的晶圆分配方法、APC系统
    用于光刻的晶圆分配方法、APC系统_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202511263193.4
    本发明提供了一种用于光刻的晶圆分配方法、APC系统，所述方法包括：获取待执行光刻的晶圆的第一批次号、ID号及历史信息；根据所述晶圆的第一批次号的尾号及ID号的尾号的奇偶性，将所述晶圆分配于所述第一载台或所述第二载台用于曝光；根据所述晶圆分配...
    2026-02-07
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