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最新专利技术
  • 一种无介质全息成像设备及其控制方法
    一种无介质全息成像设备及其控制方法_江西像航科技有限公司_202511357829.1
    本公开提供了一种无介质全息成像设备及其控制方法。无介质全息成像设备包括无介质全息成像组件， 用于在预设成像区域生成悬浮的无介质全息图像， 无介质全息图像包括多个用户可操作的交互区域；以及传感器组件， 包括多个第一传感器， 用于在用户通过执行...
    2026-02-21
  • 一种用于生成高鲁棒性平顶光斑的全息图方法及系统
    一种用于生成高鲁棒性平顶光斑的全息图方法及系统_湖北光谷实验室_202511177804.3
    本发明公开了一种用于生成高鲁棒性平顶光斑的全息图方法和系统， 方法包括：先完成仿真参数配置及输入光场初始化， 指定以原焦平面为中心的优化区域， 沿光轴等间距选个平面作为附加优化目标。对输入光场做傅里叶变换得原焦平面光场， 同步计算额外优化平...
    2026-02-21
  • 一种确定数字全息衍射距离的方法及系统
    一种确定数字全息衍射距离的方法及系统_哈尔滨电气动力装备有限公司_202511035741.8
    本发明公开了一种确定数字全息衍射距离的方法及系统， 涉及光学测量技术领域。方案包括：利用点阵光斑在焦点处亮度达到峰值的物理原理， 通过分析点阵光斑的亮度峰值来确定焦点位置， 将数字全息的衍射距离确定问题， 转化为点阵投影下的多光斑焦点物理定...
    2026-02-21
  • 一种显影盒
    一种显影盒_珠海纳思达信息技术有限公司_202510366342.3
    一种显影盒， 可拆卸地安装于包括鼓组件的图像形成装置中， 显影盒包括：盒体， 其长度方向的两端分别为驱动端和导电端， 盒体的导电端上设有导电端端盖；显影辊， 可旋转地设置在盒体上；芯片， 设置在盒体的导电端， 芯片具有用于与图像形成装置的电...
    2026-02-21
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510503400.2
    本公开涉及一种成像设备， 包括：调色剂盒， 所述调色剂盒包括调色剂存储部分、排出开口和信息保持部分；旋转体， 所述旋转体包括显影辊、显影侧存储部分和附接部分；以及读取部分， 所述读取部分被构造成从所述信息保持部分读取信息。当所述调色剂盒以所...
    2026-02-21
  • 曝光头和成像设备
    曝光头和成像设备_佳能株式会社_202510503382.8
    本申请涉及曝光头和成像设备。提供了一种曝光头， 包括：保持器；基板， 多个发光元件沿着图像承载部件的旋转轴线方向安装在基板上；透镜阵列， 包括多个透镜， 透镜配置为透射从所述多个发光元件发射的光并将光会聚在图像承载部件上；和粘合剂， 在所述...
    2026-02-21
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202510526228.2
    一种图像形成装置， 包括：多个功能模块， 包括被配置为将调色剂图像定影至片材的第一功能模块和用于在片材上形成调色剂图像的第二功能模块。该装置分别获取第一功能模块的功耗值和第二功能模块的功耗值， 通过沿时间轴方向累计第一功能模块的功耗值来获取...
    2026-02-21
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202510526121.8
    一种图像形成装置接受用于在片材上形成图像的打印作业信息， 并根据多种打印模式中由打印作业信息指定的打印模式在片材上形成图像。该装置获取功耗值， 该功耗值指示以在片材上形成一个图像的操作为单位形成图像时估计消耗的功率。该装置基于指示以从多种打...
    2026-02-21
  • 调色剂用外部添加剂和调色剂
    调色剂用外部添加剂和调色剂_佳能株式会社_202510516020.2
    本发明涉及调色剂用外部添加剂和调色剂。调色剂用外部添加剂包括具有硅氧烷键的有机硅聚合物。X射线光电子能谱测量中， 硅原子、氧原子和碳原子的原子浓度分别为dSi、dO和dC并且其合计为100原子％时， 与硅原子键合的碳原子的原子浓度的比例为3...
    2026-02-21
  • 一种曝光设备及曝光设备的曝光方法
    一种曝光设备及曝光设备的曝光方法_迪盛微(江苏)装备科技有限公司_202511141714.9
    本发明提供了一种曝光设备及曝光设备的曝光方法， 属于曝光设备技术领域。曝光设备包括至少一个相机， 设置于龙门架上， 相机用于在龙门架或工作台移动时拍摄各个位置标记点的多个原始图片， 相机的拍摄范围在第二方向上具有预设尺寸， 一个相机至少覆盖...
    2026-02-21
  • 一种光刻胶去胶液回收方法
    一种光刻胶去胶液回收方法_苏州皓申智能科技有限公司_202511152853.1
    本发明属于种光刻胶去胶液回收领域， 具体涉及一种光刻胶去胶液回收方法。本发明以正性酚醛系列光刻胶为例。在经过正性酚醛系列光刻胶的涂布、烘烤、曝光、显影、离子注入/蚀刻/电镀等环工艺环节后， 对去胶液采取LED光照、pH调节等处理工艺， 将去...
    2026-02-21
  • 一种电路板高效率显影设备及其方法
    一种电路板高效率显影设备及其方法_扬宣电子(苏州)有限公司_202510901479.4
    本发明公开了一种电路板高效率显影设备及其方法， 属于电路板加工技术领域， 包括机台和料架， 还包括输送机构、显影机构和自动码垛下料机构；机台的左侧安装有输送机构和显影机构， 机台的右侧安装有用于带动料架竖直移动的自动码垛下料机构；输送机构包...
    2026-02-21
  • 激光直写成像用的图像数据修正方法、系统及相关设备
    激光直写成像用的图像数据修正方法、系统及相关设备_深圳市先地图像科技有限公司_202511380981.1
    本发明实施例提供了激光直写成像用的图像数据修正方法、系统及相关设备， 用于提高激光直写曝光成像的精度。本发明实施例方法包括：获取存在偏移的待校准激光源在扫描方向的垂直方向的误差Di， 其中i是待校准激光源的标号；根据所述原始图像中的斜线段L...
    2026-02-21
  • 激光直写成像用的图像数据处理方法、系统及相关设备
    激光直写成像用的图像数据处理方法、系统及相关设备_深圳市先地图像科技有限公司_202511359849.2
    本发明实施例提供了激光直写成像用的图像数据处理方法、系统及相关设备， 用于提高激光直写曝光图像的精度， 减少重复曝光。本发明实施例方法包括：获取目标激光源的光斑的框选范围， 所述框选范围包括光斑覆盖的像素行的行数和列数；根据目标激光源的光斑...
    2026-02-21
  • 一种逆光刻反演方法、装置、设备及存储介质
    一种逆光刻反演方法、装置、设备及存储介质_华芯程(杭州)科技有限公司_202511349913.9
    本发明涉及集成电路制造领域， 特别是涉及一种逆光刻反演方法、装置、设备及存储介质， 通过接收待处理芯片图案；确定所述待处理芯片图案的角点；根据预设的圆角化参数， 对所述角点进行圆角化处理， 在所述待处理芯片图案的内部生成圆角变换图案；对包括...
    2026-02-21
  • 一种曲线OPC验证方法、装置、设备及存储介质
    一种曲线OPC验证方法、装置、设备及存储介质_华芯程(杭州)科技有限公司_202511349911.X
    本发明涉及计算光刻技术领域， 特别是涉及一种曲线OPC验证方法、装置、设备及存储介质， 通过接收目标曲线图形及待查模拟曲线图形；确定所述目标曲线图形上的目标曲线段；确定所述目标曲线段上的采样点， 并获取各个所述采样点沿对应的切线的法线方向到...
    2026-02-21
  • 一种光刻机物镜的焦点寻找方法、装置、设备及介质
    一种光刻机物镜的焦点寻找方法、装置、设备及介质_上海新毅东半导体科技有限公司_202511282489.0
    本发明公开了一种光刻机物镜的焦点寻找方法、装置、设备及介质。该方法包括：控制晶圆在光刻机物镜的光轴方向上进行位移， 并在每次位移后记录晶圆位移量并对所述晶圆进行曝光；统计所述晶圆上因曝光而形成的互相存在一定间隔的各曝光图案的线宽测量值和晶圆...
    2026-02-21
  • 用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品
    用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品_全智芯(上海)技术有限公司_202511250152.1
    本公开的实施例提供了用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品。该方法包括接收一组掩模图形。该方法还包括获取多个光源图形， 以分别作为多个初始光源图形， 其中该多个光源图形基于该组掩模图形生成。该方法还包括针对多个光源图形中的每个光源...
    2026-02-21
  • 图形偏移的监测结构
    图形偏移的监测结构_上海华力集成电路制造有限公司_202511232166.0
    本发明公开了一种图形偏移的监测结构， 包括监测主体单元。监测主体单元包括：平行排列的第一至第三图形， 第一图形位于第二图形的第一侧， 第三图形位于第二图形的第二侧。第二图形连接到第一测试垫。第一图形连接到第二测试垫。第三图形连接到第三测试垫...
    2026-02-21
  • 改善产品套刻精度的系统和方法
    改善产品套刻精度的系统和方法_上海华力集成电路制造有限公司_202511232133.6
    本发明公开了一种改善产品套刻精度的系统， 包括：APC系统， 和光刻机相连， 用于接收光刻机的信息并控制光刻机的光刻工艺。APC系统还和至少前一层工艺的前层机台相连并接收前层机台的信息。APC系统还对光刻机信息和前层机台信息进行整合并形成多...
    2026-02-21
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