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最新专利技术
  • 一种基于半导体团簇光刻胶的设计与合成方法
    一种基于半导体团簇光刻胶的设计与合成方法_南京大学_202511016541.8
    本发明公开了一种基于半导体团簇光刻胶的设计与合成方法，涉及半导体团簇光刻胶设计技术领域，包括合成半导体团簇光刻胶材料；将所述半导体团簇材料溶解于有机溶剂中，形成光刻胶溶液；将所述光刻胶溶液涂布于基底上，形成均质薄膜；通过紫外光或电子束对所述...
    2026-02-05
  • 抗蚀剂底层组合物和使用组合物形成图案的方法
    抗蚀剂底层组合物和使用组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510581995.3
    公开了一种抗蚀剂底层组合物和使用该抗蚀剂底层组合物形成光致抗蚀剂、光刻胶图案的方法。抗蚀剂底层组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包括由化学式1或化学式2表示的结构单元、由化学式3或化学式4表示的化合物或其组合。
    2026-02-05
  • 感光性着色树脂组合物、彩色滤光片、及图像显示设备
    感光性着色树脂组合物、彩色滤光片、及图像显示设备_奇美实业股份有限公司_202510515037.6
    本发明提供一种感光性着色树脂组合物、彩色滤光片、图像显示设备，其能够在同时兼顾高固体成分、以及感光性着色树脂组合物形成彩色滤光片的生产工艺中相对总VOC减少率提高的前提下，感光性着色树脂组合物所制得的着色层(图案)具有良好的亮度与图案性质。...
    2026-02-05
  • 半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510254352.8
    公开一种半导体光刻胶组合物和使用所述半导体光刻胶组合物形成或提供图案的方法。所述半导体光刻胶组合物可包括有机金属化合物；包含由化学式1表示的结构单元的聚合物添加剂；以及溶剂。
    2026-02-05
  • 一种光致抗蚀剂单体、其聚合物及光致抗蚀剂组合物
    一种光致抗蚀剂单体、其聚合物及光致抗蚀剂组合物_江门市和盈新材料科技有限公司_202410120037.1
    本发明涉及感光材料领域，公开了一种光致抗蚀剂单体、其聚合物和光致抗蚀剂组合物。一种光致抗蚀剂组合物，包括光致抗蚀剂聚合物40％～60％，光致酸产生剂0.5％～10％；有机溶剂为：20～40％。其中光致抗蚀剂聚合物是由甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸羟...
    2026-02-05
  • 一种新型的晶圆级压印工艺
    一种新型的晶圆级压印工艺_绍兴燃腾光电科技股份有限公司_202510860892.0
    本发明公开了一种新型的晶圆级压印工艺，包括如下压印步骤：S1、图形制作；S2、图形转移；S3、点胶；S4、对位压印；S5、UV固化；S6、开模；S7、烘烤；S8、剥离；本发明结构合理，其中晶圆上微结构的区域大小由图形化掩膜决定，可不再受压印...
    2026-02-05
  • 一种基于计算机视觉对准的自动化微转印系统
    一种基于计算机视觉对准的自动化微转印系统_上海大学_202510833942.6
    本发明公开了一种基于计算机视觉对准的自动化微转印系统，包括PDMS薄膜印章、运动控制系统和视觉对准系统，运动控制系统包括控制模块、一个大行程的三轴运动滑台和两个高精度的三自由度电动滑台，在三轴运动滑台上安装一个U形支架，两个三自由度电动滑台...
    2026-02-05
  • 晶圆曝光排版方法
    晶圆曝光排版方法_台亚半导体股份有限公司_202411039621.0
    本发明提供一种晶圆曝光排版方法，首先针对晶圆规划多个直线曝光路径，每一直线曝光路径包括沿直线并排的多个矩形曝光场区域，且任一矩形曝光场区域部分重叠相邻的另一矩形曝光场区域；接着提供由多个完整正六边形单元构成的蜂巢状结构的光罩，再利用光罩沿着...
    2026-02-05
  • 一种基于角分辨散射仪的套刻误差测量系统和方法
    一种基于角分辨散射仪的套刻误差测量系统和方法_奈米科学仪器装备(杭州)有限公司_202410551226.4
    本发明公开了一种基于角分辨散射仪的套刻误差测量系统和方法，包括计算机控制和处理系统、光源与待测样品，所述光源的轴线与待测样品轴线垂直设置，沿所述光源照射方向依次设置有准直透镜、偏振片、一号光阑、一号中继透镜组和一号分光棱镜，一号光阑放置于显...
    2026-02-05
  • 一种掩模版缺陷检测系统
    一种掩模版缺陷检测系统_苏州奥特兰恩自动化设备有限公司_202511346432.2
    本发明公开了一种掩模版缺陷检测系统，涉及掩模版缺陷检测技术领域，包括用于放置待检测掩模版的载物台，还包括自动对焦模块、激光扫描模块、信号收集及成像模块以及信号处理模块；自动对焦模块包括第一光源、第一接收器、第一透镜组、第一机械外壳、第一信号...
    2026-02-05
  • 监测光罩返厂清洗异常的方法及相移掩模版版图
    监测光罩返厂清洗异常的方法及相移掩模版版图_华虹半导体(无锡)有限公司_202511159028.4
    本申请提供一种监测光罩返厂清洗异常的方法及相移掩模版版图，其中，在监测光罩返厂清洗异常的方法中，利用二元强度掩模(BIM)图形和相移掩模(PSM)图形材质耐清洗强度的差异，在相移掩模版上设计一组BIM图形和一组PSM图形，以耐清洗的BIM图...
    2026-02-05
  • 掩模版图的掩模工艺校正方法及芯片
    掩模版图的掩模工艺校正方法及芯片_中国科学院光电技术研究所_202511110727.X
    本公开提供一种掩模版图的掩模工艺校正方法及芯片，涉及集成电路制造技术领域，方法包括：对掩模设计版图进行网格化处理，得到第一网格图；获取第一网格图中掩模设计版图的图形边缘对应的第一边缘网格，组成第一图形边缘轮廓线；获取以掩模设计版图为掩模图形...
    2026-02-05
  • 用于光学邻近修正的图案与光掩模图案的设计方法
    用于光学邻近修正的图案与光掩模图案的设计方法_力晶积成电子制造股份有限公司_202410609231.6
    本发明公开一种用于光学邻近修正的图案与光掩模图案的设计方法。所述用于光学邻近修正的图案包括主体部与T型部。所述主体部具有至少一个直角角落，其中所述直角角落由第一侧边与第二侧边构成。所述T型部包括头部与延伸部，其中所述延伸部与所述直角角落连接...
    2026-02-05
  • 一种基于隐式扩散模型的SRAF图形生成方法及系统
    一种基于隐式扩散模型的SRAF图形生成方法及系统_深圳国微芯科技有限公司_202511228932.6
    本发明公开了一种基于隐式扩散模型的SRAF图形生成方法及系统，所述方法包括：采集训练样本数据，所述训练样本数据包括目标布局的图形、目标布局的SRAF图形和目标布局的光刻仿真强度图，其中，目标布局的SRAF图形采用矩形表示，并采用中心点坐标(...
    2026-02-05
  • 一种多维全息影像展示平台
    一种多维全息影像展示平台_东漫(上海)电子科技有限公司_202511167870.2
    本发明提供一种多维全息影像展示平台，包括数字化展示平台和支撑架，所述支撑架位于所述数字化展示平台的顶部，所述支撑架的四个侧面中部均安装有透明玻璃。本发明具有如下的有益效果，本发明在装置使用时可以驱动保护壳上升和回形板下降，同时，将竖直遮挡在...
    2026-02-05
  • 一种投影屏幕及投影系统
    一种投影屏幕及投影系统_四川菲斯特科技有限公司_202511056960.4
    本发明属于投影显示领域，公开了一种投影屏幕及投影系统，投影屏幕包含：成像层、反射微结构层和复合反射层；所述反射微结构层位于所述成像层的一侧；所述复合反射层位于所述反射微结构层上远离所述成像层的一侧；所述复合反射层由金属薄膜和空气孔隙组成，所...
    2026-02-05
  • 一种投影幕布装置
    一种投影幕布装置_深圳市长锦成科技有限公司_202511348201.5
    本发明公开一种投影幕布装置，包括盒体、收卷机构、幕布及支撑机构；收卷机构设置在盒体内；幕布的一端与收卷机构连接；支撑机构包括连接板、驱动组件及两个支撑链条；连接板与幕布的另一端连接；驱动组件设置在盒体内；两个支撑链条的一端均位于盒体内，两个...
    2026-02-05
  • 一种投影机器人投影画面调节系统
    一种投影机器人投影画面调节系统_金大智能创新科技(河北)有限公司_202511077395.X
    本发明公开了一种投影机器人投影画面调节系统，包括有用于放置在支撑体上的机器人，所述的机器人包括有机壳，所述的机壳上设有用于将画面向前方投影到被投射体上的投影装置，所述的机壳底部设有能够使其水平移动以及水平转动的驱动机构，所述的机壳前部至少设...
    2026-02-05
  • 一种基于调光膜的图案可变投影灯及车辆
    一种基于调光膜的图案可变投影灯及车辆_福尔达(宁波)智能光电有限公司_202510981417.9
    本发明提供了一种基于调光膜的图案可变投影灯及车辆，属于投影设备技术领域，包括电路板与投影模组，投影模组包括沿光轴方向依次设置的光源、照明透镜组、调光菲林片和成像透镜组，光源设在电路板上，光源的光线通过照明透镜组后照射在调光菲林片上形成光斑；...
    2026-02-05
  • 一种光学引擎及投影装置
    一种光学引擎及投影装置_苏州佳世达光电有限公司_202410555791.8
    本发明提供的光学引擎及使用该光学引擎的投影装置，该光学引擎包括壳体、合光棱镜以及挡光件，其中，该挡光件安装于该壳体，并位于该合光棱镜的杂散光的出光路径上。其中，该挡光件用于阻挡该杂散光照射至该壳体；该挡光件具有第一开口，该第一开口对应于该壳...
    2026-02-05
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