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环形摆陀和包括该摆陀的钟表
本发明涉及一种用于自动上弦钟表的摆陀(1),所述摆陀(1)包括驱动环(2)和配重部分(3),所述驱动环(2)包括第一环形传动部分(20)和第二环形支承部分(22),所述第一环形传动部分(20)设有同轴齿部(21)以驱动钟表上弦,所述配重部分...
一种钟表的上条机构
本发明公开了一种钟表的上条机构,包括钟表外壳、第一蓄能器和第二蓄能器,所述钟表外壳内按距离计时盘距离由近及远分别安装有一层隔板、二层隔板和三层隔板、并且所述钟表外壳内还设置有报时机构、和用于转化第一蓄能器和第二蓄能器动力转环的传动机构,本发...
一种计算全息图高效压缩编码方法、校验方法及文件生成方法
一种计算全息图高效压缩编码方法、校验方法及文件生成方法,属于光学检测领域,解决了现有技术存在由于编码前的误差估计不合理,导致计算速度慢,对编码精度和编码文件大小的可控性低,并且压缩效率低的技术问题。基于CGH的相位分布函数,得到条纹线分布示...
图像形成装置及显影装置
一种图像形成装置,具备:图像保持体;及显影装置,使用流动性不同的显影剂对各图像保持体上的图像进行显影,且具备:容纳部,容纳显影剂,且包括沿一方向延伸的第1输送路径、配置于其下且沿该方向延伸的第2输送路径、分别连接第1与第2输送路径的一端与连...
导电性部件、带电装置、处理盒及图像形成装置
一种导电性部件、带电装置、处理盒及图像形成装置,所述导电性部件,其具备:基材;弹性层,设置于所述基材上;及表面层,设置于所述弹性层上,所述表面层具有由包含第1树脂而构成的海部和包含第2树脂而构成的岛部组成的海岛结构,并且导电剂偏在于所述海部...
基于状态监测的硒鼓寿命评估方法、装置、设备及介质
本发明涉及LED控制电路板制造技术领域,解决现有技术中上位机难以准确地获悉硒鼓实际健康状态,导致硒鼓寿命评估不准确影响LED电路控制板的可靠性问题,提供了一种基于状态监测的硒鼓寿命评估方法、装置、设备及介质。该方法包括进行测试打印获取打印数...
一种滴管组件和喷头装置及显影机
本发明公开了一种滴管组件、喷头装置和显影机,该滴管组件包括连接有驱动组件的滴管本体;滴管本体的顶端和驱动组件铰接连接;滴管本体包括用于容置液态材料的柱状管;柱状管的顶端和输送管道连通,底端连接有滴嘴;柱状管的上区段设置有排气口,排气口上设置...
套刻标记以及校正套刻精度量测准确性的方法
本发明提供一种套刻标记以及校正套刻精度量测准确性的方法,所述套刻标记包括:前层套刻标记与当层套刻标记;前层套刻标记包括沿第一方向排列的第一对前层标记、沿第二方向排列的第二对前层标记以及沿第三方向排列的第三对前层标记;当层套刻标记包括第一对当...
自由照明系统及方法
本公开提供了一种自由照明系统,可应用于微纳光刻技术领域,该系统包括沿光路依次设置的:照明光源,用于提供入射光束;数字微镜器件,包括呈阵列排布的多个微反射镜单元,用于根据输入的照明模式的控制图形控制微反射镜单元的角度,以将入射光束中与照明模式...
结合局域光热效应的超分辨光刻方法及其应用
本公开提供了一种结合局域光热效应的超分辨光刻方法,可应用于微纳加工与先进光刻技术领域,该方法包括:在基底上制备包括光刻胶层和至少一层金属层的超透镜膜层结构,光刻胶层包括具有热交联反应特性的光刻胶;提供具有纳米衍射结构的掩模,纳米衍射结构被配...
光刻工艺优化方法、装置、终端及介质
本申请提供一种光刻工艺优化方法、装置、终端及介质,其中,光刻工艺优化方法,包括:构建掩膜图形数据组、光源数据组和光刻胶数据组,并基于掩膜图形数据组、光源数据组和光刻胶数据组随机生成父代种群;父代种群包括多个父代个体;基于预设的迭代次数,对父...
光刻胶三维形貌的坏点检测方法、介质、产品及设备
本发明提供了一种光刻胶三维形貌的坏点检测方法、介质、产品及设备。其中上述方法包括:在待检测设计版图的版图图形中筛选得到训练图形;利用预先建立的物理仿真模型对训练图形进行仿真,得到光刻胶三维形貌;从光刻胶三维形貌中提取光刻胶顶部仿真轮廓;使用...
基于分段多项式非线性拟合的掩膜版关键尺寸补偿方法
本发明涉及掩膜版制造,具体涉及基于分段多项式非线性拟合的掩膜版关键尺寸补偿方法,设计不同孔径大小的孔层,并进行光刻形成整版的孔层,计算每种孔径的孔层对应的CD偏差值;预设分界点,将不同孔径划分为多个区间;采用基于误差梯度的动态分界算法对分界...
用于光刻的晶圆分配方法、APC系统
本发明提供了一种用于光刻的晶圆分配方法、APC系统,所述方法包括:获取待执行光刻的晶圆的第一批次号、ID号及历史信息;根据所述晶圆的第一批次号的尾号及ID号的尾号的奇偶性,将所述晶圆分配于所述第一载台或所述第二载台用于曝光;根据所述晶圆分配...
用于数字光刻的图像稳定化
本公开内容提供当存在包括子像素交叉扫描振动的交叉扫描振动时,用于校正从空间光调制器(SLM)到基板的图像的投射的方法和系统。这些方法和系统包括:偏移相对于基板上的横向扫描行进方向旋转的SLM上的掩模图案,沿着SLM的轴偏移以对交叉扫描振动进...
晶圆涂胶装置
本申请提供一种晶圆涂胶装置,涉及半导体设备技术领域,旨在解决现有技术中晶圆涂胶装置对晶圆进行涂胶及冲洗后,存在清洗液容易导致晶圆污染,降低了晶圆良率的技术问题,该晶圆涂胶装置包括承载台、收集杯及吸附结构;承载台用于承载晶圆,收集杯环设于承载...
一种ArF光刻用双层树脂膜、其制备方法及应用
本发明公开了一种ArF光刻用双层树脂膜、其制备方法及应用。本发明的双层树脂膜包括一抗蚀剂层和涂覆于抗蚀剂层的一顶层涂层膜层。本发明的双层树脂膜运用在ArF浸没式光刻中,能够减少光刻胶性能下降和缺陷增多的问题。
感光性树脂组合物、感光性固化膜及其制备方法以及电子元件
本申请提供一种感光性树脂组合物、感光性固化膜及其制备方法以及电子元件,该感光性树脂组合物包括聚酰亚胺前体树脂、光引发剂、热产碱剂、具有酰胺酸结构的聚合性化合物和架桥剂。本申请通过在感光性树脂组合物中加入热产碱剂、具有酰胺酸结构的聚合性化合物...
一种光刻胶溶液及其制备方法与应用
本发明公开了一种光刻胶溶液及其制备方法与应用,包含含氟化合物、负载阳离子的偶氮苯类化合物及光引发剂;所述含氟化合物为含氟树脂单体和/或含氟共聚物,所述负载阳离子的偶氮苯类化合物由偶氮苯类化合物经有机胺和/或有机铵盐修饰后,再负载阳离子得到。...
感光性着色组合物、固化物、有机电致发光元件和图像显示装置
提供加热处理后较少产生电极的表面粗糙的感光性着色组合物、固化物、有机电致发光元件和图像显示装置。感光性着色组合物的特征在于,其含有(a)着色剂、(b)碱溶性树脂、(c)光聚合引发剂、(d)烯属不饱和化合物、(e)溶剂和(f)分散剂,上述(a...
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