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  • 本发明提供一种内容提供装置,其提供基于在规定空间中的人的个人信息而选择的内容,作为在该空间播放的内容,具备:个人信息获取部,其分别获取空间中的多个人的个人信息;个人信息排除部,其排除空间中的至少一个人的个人信息;第一列表创建部,其基于未被个...
  • 一种用于在应用编程子系统(APSS)中执行峰值电流缓解的系统至少部分地基于在启动时间获得的功率轨电压和漏泄电流来动态地执行缓解。在启动时间获得的该电压和该漏泄电流用于估计峰值电流。在启动时间之前生成的映射将估计峰值电流映射到限流水平,并且规...
  • 在实施例中,一种电子装置可包括铰链组装件。所述铰链组装件可包括:铰链支架;轴,可旋转地连接到所述铰链支架;臂构件,连接到所述轴;凸轮构件,插入所述轴中;按压构件,朝向所述臂构件按压所述凸轮构件;以及臂支架,可滑动地连接到所述臂构件。所述臂构...
  • 根据各种实施例,一种电子装置包括:第一壳体;第二壳体,耦接为可从所述第一壳体滑动;柔性显示器,被布置为由所述第一壳体和所述第二壳体支撑;驱动电机,被布置在所述第一壳体中并且包括小齿轮;齿条齿轮,被布置在所述第二壳体中并且被齿轮耦接到所述小齿...
  • 本发明涉及一种用于气态燃料,尤其是氢气的压力调节器,包括:用于处于入口压力的气态燃料的入口;用于气态燃料的出口;主阀,该主阀包括主阀入口、主阀出口、主阀辅助入口以及壳体中的调节活塞,所述调节活塞调节从入口通过主阀到出口的燃料流;和电子可控阀...
  • 一种用于可流动固体的容积式流量测量和计量装置,具有直立的流道,散装物料流可从中通过。一速度传感器,测量流体的速度。一致动器,控制一闭塞装置可操作地相对于流道的底端。一控制器,从速度传感器接收速度数据,并至少部分基于速度数据中所含信息操作致动...
  • 本公开的目的在于提供一种控制系统、控制方法和控制程序,即使在操作者不能视觉地观察移动体的位置,实现移动体的安全飞行也是可能的。根据本公开的控制系统包括移动信息采集单元、环境信息采集单元、推荐动作选择单元和输出单元。移动信息采集单元采集包括移...
  • 本发明涉及自主工作机器的控制方法、自主工作机器和存储介质。所述自主工作机器被配置为在工作区域中工作,所述工作区域包括至少两个子工作区域,所述至少两个子工作区域分别设置有不同的工作频率,自主工作机器的控制方法包括:分别获取所述自主工作机器在所...
  • 提供了一种用于确定资产的清洁计划表的系统。在一些方面,该系统可包括:多个传感器,该多个传感器被布置为监测资产;和计算系统,该计算系统包括至少一个数据处理器和存储指令的存储器,该指令在由该至少一个数据处理器执行时使该至少一个数据处理器执行操作...
  • 提出了设备故障预测诊断装置和方法,所述装置包括收集部、预处理部和诊断部,收集部接收被诊断设备的运行状态信息;预处理部基于被诊断设备是在恒速模式下运行还是在变速模式下运行来提取有效信息;诊断部学习被诊断设备的正常运行标准,预测被诊断设备的故障...
  • 描述了与包括添加的环境信号的信号自动聚类相关联的系统、方法和其他实施例。在一个实施例中,方法包括接收与测量多个机器的物理属性的多个传感器相关联的时间序列信号(TSS)。TSS被自动分离成对应于该多个机器的多个簇。识别重叠多于一个簇的环境TT...
  • 异常判定装置具有:操作者输入部(11),其从操作者接收针对刀具的动作设定的校正值作为当前校正值,刀具的动作是由工作机械所使用的加工程序规定的;设定信息比较部(33),其进行设定于工作机械的当前校正值与过去恰当地执行了加工时针对刀具的动作设定...
  • 信息处理系统具备:一个以上的可视化模块,其对表示PLC的控制状态的可视化对象的变量值进行可视化;以及再现模块,其基于在对象期间由PLC记录的时间序列数据集,依次再现出对象期间的PLC的每个第一控制周期内的PLC所保持的变量值。一个以上的可视...
  • 再现模块基于在对象期间由PLC记录的时间序列数据集,依次再现出对象期间的PLC的每个控制周期内的PLC所保持的变量值。一个以上的可视化模块将再现出的变量值可视化为表示PLC的控制状态的可视化对象的变量值。时间序列数据集表示对象期间的每个控制...
  • 一种成像设备,包括:包含显影室的旋转件;盒,该盒设置成向显影室供应显影剂;以及托盘,该托盘能够可拆卸地支撑盒。托盘包括第一相对部分,该第一相对部分设置成与盒相对并且在预定方向上延伸,且托盘相对于旋转件布置在盒位于旋转件外部的第一位置以及盒位...
  • 公开了用于在光刻过程中对与衬底相关的衬底区域上的量测数据进行建模的方法。该方法包括:获得第一层模型数据,该第一层模型数据与被拟合到用于该衬底上的第一层的曝光的第一层量测数据和与该衬底上的第二层相关的第二层量测数据的第一模型相关,该第二层在该...
  • 本发明公开了一种用于光刻系统(1)的MEMS反射镜(30),包括:可以以倾斜角(W)位移的反射镜板(31)、用于承载反射镜板(31)的承载板(32)、基板(33)、联接基板(33)和承载板(32)、用于倾斜反射镜片(31)的固体接头(34)...
  • 公开了一种用于生成检查工具采样计划的方法。更具体地,公开了一种用于生成检查工具采样计划的方法,用于假定晶片上的不均匀缺陷密度或分布的情况下进行更精确的管芯损失预测。公开了一种用于优化检查工具采样计划的方法。更具体地,公开了一种用于优化晶片区...
  • 提供能够形成对半导体用湿蚀刻液的耐性优异的保护膜,并且干蚀刻时的蚀刻速度快,能够高蚀刻速率(ER)化的保护膜形成用的组合物,该组合物也能够有效地用作抗蚀剂下层膜形成用的组合物。是一种针对半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物,其包含:(A)具...
  • 本发明涉及抗蚀剂组合物,其是能够通过曝光而产生酸、并且在显影液中的溶解性能够通过酸的作用而变化的抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物含有在显影液中的溶解性能够通过酸的作用而变化的基材成分(A)、能够通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和增塑剂成分...
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