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最新专利技术
  • 一种抑制显影剂残留的显影剂盒
    一种抑制显影剂残留的显影剂盒_江西凯利德科技有限公司_202511470734.0
    本发明公开了一种抑制显影剂残留的显影剂盒，涉及显影剂盒技术领域，包括壳体，所述壳体顶部开设有一对连接口，所述壳体底部可拆卸连接有底板，所述底板顶部边缘固定连接有防漏边条，所述底板中部固定连接有凸壳，所述底板顶部还转动连接有一对转轴，还包括有...
    2026-02-13
  • 用于储存粉状物的容器及硒鼓
    用于储存粉状物的容器及硒鼓_珠海市颂洋科技有限公司_202511430874.5
    本发明涉及打印设备技术领域，提供一种用于储存粉状物的容器及硒鼓，其中容器包括：壳体，其内设置有显影剂储存腔；显影辊，设置于壳体上并能够绕第一轴线转动，用于传输显影剂储存腔内的显影剂至壳体外；动力传输组件，包括第一动力接收部分和与第一动力接收...
    2026-02-13
  • 一种多功能一体化自助错题打印学习机
    一种多功能一体化自助错题打印学习机_晨计(无锡)教育科技有限公司_202511379016.2
    本发明属于激光打印技术领域，具体是一种多功能一体化自助错题打印学习机，包括角磨盒，角磨盒内部一侧设置有精磨单元，角磨盒另一侧设置有调节单元；本发明通过同步清洁刮板和角合板之间的斜面倾角，始终确保热熔片、砂带、高压仓、棉垫、喷腔、电热片和视觉...
    2026-02-13
  • 基于视觉反馈的打印参数调整方法及激光打印机
    基于视觉反馈的打印参数调整方法及激光打印机_北京辰光融信技术有限公司_202511247846.X
    本发明实施例公开了一种基于视觉反馈的打印参数调整方法及激光打印机。激光打印机包括外壳、激光器、感光鼓以及控制器；激光器、感光鼓以及控制器均位于壳体内；激光器包括壳体、激光发射器、分光器以及第一传感器；激光发射器、分光器以及第一传感器位于壳体...
    2026-02-13
  • 片材传送装置、图像读取装置和图像形成装置
    片材传送装置、图像读取装置和图像形成装置_佳能株式会社_202510592291.6
    本公开涉及片材传送装置、图像读取装置和图像形成装置。片材传送装置包括：传送部件；分离部件；包括多个第一旋转部件的驱动辊；马达；从动辊，所述从动辊包括多个第二旋转部件和支撑所述多个第二旋转部件的轴部件；构造成管控中央第二旋转部件的位置的保持器...
    2026-02-13
  • 一种低损伤去除高能离子作用后碲镉汞表面光刻胶的方法
    一种低损伤去除高能离子作用后碲镉汞表面光刻胶的方法_昆明物理研究所_202511243107.3
    本发明涉及一种低损伤去除高能离子作用后碲镉汞表面光刻胶的方法，包括以下步骤：S1，将进行了干法刻蚀或离子注入工艺后的带有光刻图形的碲镉汞样品放置于石英托盘上，准备进行等离子干法去胶工艺；S2，将碲镉汞样品放置于等离子反应设备预真空室中，设定...
    2026-02-13
  • 光刻方法及光刻机
    光刻方法及光刻机_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511489132.X
    本申请公开了光刻方法及光刻机，所述光刻方法包括：获取晶圆表面的平整度信息以及光罩的弯曲信息；根据所述平整度信息确定所述晶圆表面不同位置处于所述光罩无弯曲情况下光罩图案的聚焦平面时所述晶圆的位置信息；基于所述弯曲信息对所述位置信息进行补偿，得...
    2026-02-13
  • 光刻机照明系参数的配置方法、光刻工艺及半导体结构
    光刻机照明系参数的配置方法、光刻工艺及半导体结构_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511477863.2
    本发明提供一种光刻机照明系参数的配置方法、光刻工艺及半导体结构。其中，所述配置方法先将所述数值孔径作为单一变量，仿真获取同一所述照明相干因子下不同数值孔径对应的曝光特征值，并据此获取目标数值孔径；再以所述照明相干因子为单一变量，仿真获取所述...
    2026-02-13
  • 基于光场调控的光纤布拉格光栅飞秒激光直写系统及方法
    基于光场调控的光纤布拉格光栅飞秒激光直写系统及方法_南京理工大学_202511319098.1
    本发明公开了一种基于光场调控的光纤布拉格光栅飞秒激光直写系统及方法。该系统包括飞秒激光源、偏振控制模块、光束扩束模块、光场调制模块、4f滤波成像模块、油浸物镜、精密定位与光纤夹持模块、观测模块、计算机控制模块。该方法为：首先将待加工的标准单...
    2026-02-13
  • 一种基于同步辐射的极紫外干涉光刻方法
    一种基于同步辐射的极紫外干涉光刻方法_中国科学院上海高等研究院_202511268384.X
    本发明涉及一种基于同步辐射的极紫外干涉光刻方法，其包括以下步骤：利用同步辐射引出装置引出同步辐射光束；所述同步辐射光束依次经第一狭缝筛选、第一圆柱面镜偏转并进行高频滤波、第二圆柱面镜去除高次谐波并聚焦准直、第二狭缝筛选空间相干光源、光阑阻挡...
    2026-02-13
  • 一种适用于多模式偏振干涉光栅曝光的集成系统
    一种适用于多模式偏振干涉光栅曝光的集成系统_东南大学_202511198388.5
    本发明公开了一种适用于多模式偏振干涉光栅曝光的集成系统，包括：激光器、准直扩束系统、第一偏振调控单元、第二偏振调控单元、第一可变光阑、第二可变光阑、空间吸光板、第一反射光学模块、第二反射光学模块以及基板。本发明旨在通过简化光路结构、统一光程...
    2026-02-13
  • 拼版框图布置方法
    拼版框图布置方法_中芯集成电路(宁波)有限公司_202511127819.9
    本申请涉及半导体技术领域，公开了一种拼版框图布置方法，包括：识别初始版图上所对应的若干个边界标识框图中的目标边界框图；在目标边界框图上融合除目标边界框图之外的边界标识框图，得到目标边界框图上的划片道图形；在划片道图形中的完整划片道区内放置第...
    2026-02-13
  • 一种光刻树脂的循环供应设备
    一种光刻树脂的循环供应设备_安徽壹月科技有限公司_202511096968.3
    本发明涉及光刻树脂的循环供应技术领域，尤其涉及一种光刻树脂的循环供应设备，包括供应柜体，所述供应柜体具有安装腔与装设于安装腔内的泵液模块、过滤模块、重量检测模块与中间罐模块，泵液模块包括一级泵液组件与二级泵液组件；过滤模块包括一级过滤组件与...
    2026-02-13
  • 一种LDI曝光设备的自动调焦方法及LDI曝光设备
    一种LDI曝光设备的自动调焦方法及LDI曝光设备_源能智创(江苏)半导体有限公司_202410596745.2
    本发明涉及一种LDI曝光设备的自动调焦方法，在光学镜头组件曝光前，控制位置传感器采集基材样本区域的样本高度数据，依据样本高度数据线性拟合样本曲线；在光学镜头组件曝光时，控制位置传感器采集基材当前位置的表面高度数据，同时计算当前位置在待曝光方...
    2026-02-13
  • 照明光型的曝光机结构
    照明光型的曝光机结构_睿璞系统股份有限公司_202410584655.1
    本发明一种照明光型的曝光机结构，其包括 : 光源部分别发散数道光线；各光线朝向第一透镜进行照射，各光线穿过该第一透镜后分别汇聚形成第一聚光束；第一聚光束朝向相对应的透镜阵列部进行照射，透镜阵列部包含数个相互并排组合的数个透镜柱，第一聚光束穿...
    2026-02-13
  • 一种光刻胶涂覆方法
    一种光刻胶涂覆方法_物元半导体技术(青岛)有限公司_202511411507.0
    本申请属于半导体制造技术领域，提供一种光刻胶涂覆方法，包括以下步骤：对基片表面进行预处理，以降低表面接触角，提升表面能，使光刻胶能够更好的涂覆；将基片置于工作腔室内，并将工作腔室内的环境调整为微环境状态，减少环境因素对光刻胶涂覆质量的影响；...
    2026-02-13
  • 正型感光性树脂组合物、固化膜和图案加工方法
    正型感光性树脂组合物、固化膜和图案加工方法_武汉柔显科技股份有限公司_202511150742.7
    本申请提供了一种正型感光性树脂组合物、固化膜和图案加工方法，涉及有机EL显示技术领域。该正型感光性树脂组合物包括(a)碱溶性树脂；(b)光产酸剂；(c)第一热交联剂；(d)第二热交联剂，(e)有机溶剂。其中，第二热交联剂具有结构式(1)所表...
    2026-02-13
  • 一种着色感光性树脂组合物、负性光刻胶及其制备方法和滤光片
    一种着色感光性树脂组合物、负性光刻胶及其制备方法和滤光片_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511372996.3
    本申请提供一种着色感光性树脂组合物、负性光刻胶及其制备方法和滤光片，涉及液晶显示领域。本申请提供一种着色感光性树脂组合物，以所述着色感光性树脂组合物的总质量为100%计算，包括：聚合物树脂5‑15%、光引发剂1‑3%、丙烯酸酯单体5‑10%...
    2026-02-13
  • 一种低收缩和低真空放气的透明组合物光刻胶及其制备固化涂层的制备方法
    一种低收缩和低真空放气的透明组合物光刻胶及其制备固化涂层的制备方法_江苏博砚电子科技股份有限公司_202511007792.X
    本发明公开了一种低收缩和低真空放气的透明组合物光刻胶，包括以下质量百分比的原料：1~5%的改性笼型聚倍半硅氧烷(POSS)、1~5%的膨胀单体、1~5%改性丙烯酸树脂、1~5%环氧树脂、1~5%的硫醇类交联剂、1~5%的引发剂、0.1~3%...
    2026-02-13
  • 一种超声波辅助水雾软化的卷对卷纳米压印装置及脆性薄膜压印方法
    一种超声波辅助水雾软化的卷对卷纳米压印装置及脆性薄膜压印方法_海南大学_202511336107.8
    本发明公开了一种超声波辅助水雾软化的卷对卷纳米压印装置及脆性薄膜压印方法，属于卷对卷纳米压印技术领域。所述装置包括放卷辊、传动基带、超声水雾软化组件、测量标记组件、模具辊、压力辊、超声波辅助压印组件和收卷辊。超声水雾软化组件通过超声雾化产生...
    2026-02-13
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