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  • 本发明属于半导体技术领域,公开了一种具有多阶环形浅沟槽隔离结构硅通孔的芯片。该芯片包括硅晶片、设置于硅晶片中的通孔和设置于硅晶片上的多阶环形浅沟槽隔离结构;在通孔内由孔壁向中心依次设置有绝缘层和导体层;多阶环形浅沟槽隔离结构包括由内向外设置...
  • 本申请公开了一种氮化硅陶瓷基液体流道散热器及其制备方法。所述氮化硅陶瓷基液体流道散热器由氮化硅陶瓷材料制备而成,所述氮化硅陶瓷基液体流道散热器具有进液孔、出液孔以及封闭的液冷流道,所述液冷流道的两端分别与所述进液孔、所述出液孔相通。本申请基...
  • 本发明公开了一种自适应针鳍微通道散热器结构,包括中间传导体,中间传导体内设有液冷腔,液冷腔包括沿进液方向依次设置的进液区、微通道区和出液区,进液区和出液区分别连通进液口和出液口;微通道区上设有若干针鳍,针鳍之间的间隙相配合形成允许冷却液通过...
  • 本发明涉及半导体散热技术领域,尤其涉及一种一种基于金刚石‑铜‑钛多孔结构的AI芯片冷板式液冷装置及其制备方法, 其包括:散热基体,所述散热基体为由金刚石颗粒、铜粉和钛粉组成的复合材料制成的块体,其内部具有贯通孔隙,以形成冷却液通道;包覆壳体...
  • 本发明提供了一种散热装置及具有其的半导体器件,其中,散热装置浸没在冷媒内,散热装置包括:壳体,发热元件设置在壳体的外表面上,以将发热元件产生的热量导出,壳体的侧部设置有第一进口,壳体的顶部设置有第一出口,壳体内设置有与第一进口和第一出口均连...
  • 本发明涉及陶瓷基板技术领域,提出了一种高热导金属钎焊覆铜陶瓷基板及其制备方法。高热导金属钎焊覆铜陶瓷基板由下到上包括陶瓷基体、复合焊料和铜片,复合焊料以重量百分比计,由以下成分组成:Cu 20%~25%、Ti 1%~5%、活性组分1.4%~...
  • 本发明公开了一种梯度式铜钼合金配比的压接式功率模块均压均热方法,属于压接式功率模块均压均热领域,包括:根据压接式功率模块中多个芯片的空间分布,将所述压接式功率模块划分为内部区域、中间区域和外部区域;根据所述内部区域、中间区域和外部区域的划分...
  • 一种封装结构及其形成方法,结构包括:第一基板,第一基板包括芯片连接区域,第一基板包括核心层以及位于核心层顶部的第一介电层,芯片连接区域的第一介电层中设置有一层或多层第一导电层,芯片连接区域的第一介电层和核心层中贯穿有散热柱,且核心层的热膨胀...
  • 本发明提供了一种等离子体散热器及散热方法,包括:第一方向上间隔分布的若干个热沉鳍片,第一方向与热沉鳍片的延伸方向垂直;任意相邻的两个热沉鳍片之间设有1个振动电极薄膜,振动电极薄膜包括沿第一方向依次层叠的第一基底层、绝缘层、驱动层、压电层以及...
  • 本发明公开了一种半导体装置及其制造方法,包括封装基板,所述封装基板的顶部等距固接有多个一号铜箔线路,本发明的有益效果是:本发明的半导体装置通过设计分隔导热板以及多层散热结构,显著提高了装置的散热性能,不仅确保了各个裸片在工作过程中产生的热量...
  • 一种稳定型高速集成电路散热装置,包括散热架和螺纹孔,所述散热架的下端加工有螺纹孔,所述散热架通过螺栓与挡板固定连接,所述散热架的内壁加工有卡槽,所述散热架通过螺栓与盖板固定连接,所述散热架的外壁连接有调节机构。通过散热板和延长条采用高导热材...
  • 本申请公开了一种半导体结构、形成方法、电子器件及电子装置,该半导体结构包括:基底,第一金属层,形成在基底上,第一金属层包括第一金属部分和第二金属部分,第一金属部分和第二金属部分电性连接;高阻器件,形成在第二金属部分上;第二金属层,形成在高阻...
  • 本申请提供了一种半导体器件以及半导体器件的制造方法,在半导体衬底上设有多层金属布线,金属布线用于连接形成于半导体衬底上的器件结构,不同层金属布线之间通过接触孔电连接,每层金属布线的间隙被介电层填充,多层金属布线包括顶层金属;复合钝化层包覆于...
  • 本申请公开了一种射频开关裸芯片及射频开关裸芯片制备方法,属于射频开关领域。本申请通过复用同一衬底上的第一射频开关组模块和/或第二射频开关组模块,可以实现功能复用能力。同时,在功能层的第一区域和第二区域的中间区域增加划片槽,该划片槽是刻蚀掉功...
  • 一种封装基板及其制法,该封装基板包括核心板体,其具有贯通两表面的穿孔;形成于核心板体相对两表面及穿孔中的绝缘层,其具有对应各穿孔形成的通孔;形成于通孔中的空心状导电柱;形成于空心状导电柱中的塞孔材;形成于核心板体相对两表面的绝缘层上并电性连...
  • 本发明提供了一种硅基氮化镓晶圆的回收方法,涉及半导体制造技术领域,该回收方法针对包括硅衬底和设置在其上的氮化镓基外延层的硅基氮化镓晶圆,该回收方法包括以下步骤:使用红外激光束,通过预设的激光扫描路径策略,从氮化镓基外延层一侧入射至硅基氮化镓...
  • 本发明提供了一种硅基氮化镓晶圆外延层的转移方法,涉及半导体制造技术领域,该转移方法针对包括硅衬底和设置在其上的氮化镓基外延层的硅基氮化镓晶圆,该转移方法包括:通过临时粘接材料将氮化镓基外延层远离硅衬底的一面与临时衬底键合;使用红外激光束从临...
  • 用于形成半导体管芯的方法。公开了一种方法和半导体管芯。该方法包括基于晶片(100)形成半导体管芯(3)。该晶片(100)包括在绝缘层(130)的相对侧上形成的半导体层(110)和牺牲层(120)。该方法包括:形成分离结构(2),该分离结构(...
  • 本发明公开了一种改善半导体器件中铜互连缺陷并提高电迁移性能的方法,属于半导体制造技术领域。该方法在一体化蚀刻工艺中,首先在蚀刻暴露铜层的介电层时,通过降低离子轰击能量并减少含氧气体引入来减轻对铜表面的初始损伤;接着,在后蚀刻处理中,增加一利...
  • 本申请涉及一种生成接收衬底(1)的方法,该衬底被配置为通过在一个或多个第一着陆区(2a)中的混合键合在其上接收一个或多个晶粒(3),和通过在一个或多个第二着陆区(2b)中的焊料键合在其上接收一个或多个晶粒(4)。在这两种类型的着陆区中,形成...
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