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最新专利技术
  • 一种便于安装的复印机粉盒
    一种便于安装的复印机粉盒_中山市绘强电子科技有限公司_202511506820.2
    本发明涉及墨粉盒的技术领域，尤其涉及一种便于安装的复印机粉盒，限位装置包括同步齿、同步轮、转轴和锁紧组件；当粉盒滑入或滑出装配空间时，同步齿能够带动同步轮、转轴和第一摩擦盘转动，以使第一摩擦盘和第二摩擦盘能够在锁定状态和解锁状态之间切换；在...
    2026-04-04
  • 定影系统及图像形成装置
    定影系统及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202411332336.8
    一种定影系统及图像形成装置，所述定影系统具备：定影装置，具有由加热构件加热并进行旋转的第1旋转体及与所述第1旋转体的外周表面接触而形成使形成有色调剂像的记录媒体通过的通过部的同时旋转的第2旋转体；及排气装置，具有以从吸入口吸入存在于所述通过...
    2026-04-04
  • 加热系统及图像形成装置
    加热系统及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202411330391.3
    一种加热系统及图像形成装置，所述加热系统具备：第1旋转体，由加热构件加热并进行旋转；第2旋转体，与所述第1旋转体的外周表面接触而形成使加热对象物通过的通过部的同时旋转；冷却装置，使空气在以使其与所述第2旋转体的外周表面接触的方式通过的路径中...
    2026-04-04
  • 图像形成设备和中间转印单元
    图像形成设备和中间转印单元_佳能株式会社_202510694922.5
    一种图像形成设备，包括图像形成部分和能够可拆卸地安装到所述图像形成设备的主组件的中间转印单元。所述中间转印单元包括框架单元、清洁单元和存储器基板。所述清洁单元能够可拆卸地安装到所述框架单元。在所述清洁单元安装到所述框架单元的状态下，所述中间...
    2026-04-04
  • 一种激光打印机用硒鼓结构
    一种激光打印机用硒鼓结构_珠海市东进打印耗材有限公司_202511258875.6
    本发明公开了一种激光打印机用硒鼓结构，属于激光打印机领域，包括显影机构，所述显影机构前端设置有废粉盒，所述显影机构后端设置有碳粉盒，所述显影机构内部下方转动连接有感光鼓，本发明碳粉盒内部的搅拌叶可直接对碳粉进行机械搅拌，打破已形成的小结块；...
    2026-04-04
  • 鼓盒和处理盒
    鼓盒和处理盒_江西润宏模具有限公司_202511518472.0
    本发明涉及鼓盒，以及具有该鼓盒的处理盒，所述鼓盒包括：鼓壳体，具有支撑面；感光鼓，可旋转地设置在鼓壳体中，用于形成能够被碳粉显影的静电潜像；清洁刮刀，被所述支撑面支撑，并被固定安装在鼓壳体中，具有用于清除感光鼓表面的残留碳粉的刀片，所述清洁...
    2026-04-04
  • 片材传送装置、图像读取装置和图像形成装置
    片材传送装置、图像读取装置和图像形成装置_佳能株式会社_202510703899.1
    本公开涉及一种片材传送装置，其包括：支撑单元，所述支撑单元包括引导表面；辊单元，所述辊单元包括辊部件和支撑辊部件的辊轴；设置在支撑单元中的驱动轴；构造成连接驱动轴和辊轴的联接件；以及构造成经由驱动轴和联接件将驱动力供应到辊轴的马达。在联接件...
    2026-04-04
  • 一种离轴对准装置、离轴对准方法以及光刻设备
    一种离轴对准装置、离轴对准方法以及光刻设备_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202511334835.5
    本申请公开一种离轴对准装置、离轴对准方法以及光刻设备。所述装置包括：光源模块，用于向硅片提供第一光源信号，硅片具有粗对准标记和精对准标记，粗对准标记和精对准标记分别基于第一光源信号反馈第一反射光信号和第二反射光信号；自动对焦模块，用于在硅片...
    2026-04-04
  • 一种带循环保温水的均流显影液喷嘴装置
    一种带循环保温水的均流显影液喷嘴装置_迈睿捷(南京)半导体科技有限公司_202511495368.4
    本发明涉及半导体制造设备技术领域，解决了传统显影液喷嘴存在温度控制不足、流量均匀性差以及维护成本高缺陷的技术问题，尤其涉及一种带循环保温水的均流显影液喷嘴装置，包括用以隔离保温水和显影液并形成相互独立流通的流道，在保温水循环流通过程中补偿显...
    2026-04-04
  • 一种基于卷对卷的双面LDI曝光系统及曝光方法
    一种基于卷对卷的双面LDI曝光系统及曝光方法_优盛科技(苏州)有限公司_202511595036.3
    本申请公开了一种基于卷对卷的双面LDI曝光系统及曝光方法，涉及柔性电子制造技术领域，可解决现有双面激光成像设备无法补偿基材在传动过程中发生的动态形变导致对位精度下降的问题，该系统沿基材传输方向依次设有打标工位和曝光工位，打标工位设置打标装置...
    2026-04-04
  • 一种曝光方法、系统及半导体器件
    一种曝光方法、系统及半导体器件_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511545902.8
    本申请提供一种曝光方法、系统及半导体器件，涉及半导体技术领域。针对晶圆边缘区域与中心区域的晶面高度差异，本申请在执行用于消除桥接缺陷的第二曝光工艺时，将晶圆划定为多个曝光区块，并基于执行第二曝光工艺前的第一曝光工艺确定各个曝光区块合适的曝光...
    2026-04-04
  • 一种光学邻近效应修正优化方法
    一种光学邻近效应修正优化方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511544772.6
    本发明提供一种光学邻近效应修正优化方法，包括以下步骤：提供一初始版图，将所述初始版图划分为若干个小区块，所述小区块包括主图形区域和围设在所述主图形区域的扩展区域，每个所述小区块均与相邻的所述小区块的扩展区域重叠；对每个所述小区块OPC修正和...
    2026-04-04
  • 一种用于芯片制造的新型超高分辨光刻工艺-原子引导光刻方法
    一种用于芯片制造的新型超高分辨光刻工艺-原子引导光刻方法_清华大学_202511240601.4
    本发明涉及一种用于芯片制造的新型超高分辨光刻工艺‑原子引导光刻方法。该方法包括：(A1)在基底的表面上构筑具有原子级周期结构的晶体层；(A2)在所述晶体层的表面上通过涂覆墨水A形成光刻胶层A，所述墨水A为包含光刻胶A的溶液，所述光刻胶A为嵌...
    2026-04-04
  • 驱动基板的制备方法、驱动基板、显示面板及显示终端
    驱动基板的制备方法、驱动基板、显示面板及显示终端_惠科股份有限公司_202511233817.8
    本申请公开了一种驱动基板的制备方法、驱动基板、显示面板及显示终端，涉及显示技术领域，该制备方法包括：利用半色调掩膜版对设有光阻层的像素电极层进行曝光，在像素电极层上形成无光阻区、半光阻区和全光阻区；半光阻区与像素电极层的保护区相对，全光阻区...
    2026-04-04
  • 一种Z轴驱动自对焦光刻装置
    一种Z轴驱动自对焦光刻装置_苏州天准科技股份有限公司_202511135188.5
    本发明提供了一种Z轴驱动自对焦光刻装置，属于光刻或曝光加工技术领域，包括Z轴驱动模组、曝光镜筒和测高激光器；曝光镜筒连接至Z轴驱动模组，测高激光器布置在曝光镜筒上游；Z轴驱动模组根据测高激光器检测的加工面高度调节曝光镜筒的高度，实现光刻加工...
    2026-04-04
  • 曝光装置、曝光方法和物品的制造方法
    曝光装置、曝光方法和物品的制造方法_佳能株式会社_202510694882.4
    本发明涉及一种曝光装置、曝光方法和物品的制造方法，提升光学单元的耐久性。一种曝光装置，将原版的图案的像曝光到基板，其中，所述曝光装置具有配置于来自光源的光通过的光路的光学元件、配置于所述光学元件的多个部位并使所述光学元件发生变形的多个驱动部...
    2026-04-04
  • 一种端面耦合器的制备方法、装置、设备及存储介质
    一种端面耦合器的制备方法、装置、设备及存储介质_张江国家实验室_202410713001.4
    本申请实施例提供了一种端面耦合器的制备方法、装置、设备及存储介质，涉及光电子技术领域，该方法为：通过电子束曝光技术制备端面耦合器的模板；模板的图形与端面耦合器的图形一致；基于模板，制备模板的多个子模，子模的图形与模板的图形相互契合；通过多个...
    2026-04-04
  • 具有可调节的表面性质的光致聚合的浮雕前体
    具有可调节的表面性质的光致聚合的浮雕前体_恩熙思德国有限公司_202511424652.2
    本申请涉及一种具有可调节的表面性质的光致聚合的浮雕前体。具体地，本发明涉及一种光致聚合的浮雕前体，包括(A)尺寸稳定的载体，(B)光致聚合的浮雕形成层，该光致聚合的浮雕形成层至少包含可交联的弹性体粘合剂、烯属不饱和单体、能够迁移的表面活性添...
    2026-04-04
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510734569.9
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供高感度、高分辨率且边缘粗糙度、尺寸偏差小而曝光后的图案形状良好的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其含有树脂(A)、下述式(b1)表示的光分解性淬灭剂及...
    2026-04-04
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510734566.5
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度、分辨度及LWR优良、稳定且操作也容易的抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：具有金属原子、...
    2026-04-04
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