Document
拖动滑块完成拼图
专利交易 商标交易 积分商城 国际服务 IP管家助手 科技果 科技人才 会员权益 需求市场 关于龙图腾 更多
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
  • 我要求购
  • 我要出售
官方微信客服

官方微信客服
官方微信客服

官方微信客服
最新专利技术
  • 硅游丝的制备方法
    硅游丝的制备方法_甬江实验室_202511596474.1
    本申请公开了一种硅游丝的制备方法，属于微机械加工技术和精密制造技术领域。该制备方法包括：提供目标厚度的单晶硅片；在所述单晶硅片的一面制备至少一个刻蚀坑，其中，所述单晶硅片的位于所述刻蚀坑下方的区域为游丝加工区；在所述游丝加工区制备硅游丝结构...
    2026-03-26
  • 用于在支撑元件上弹性地保持时计部件的机件
    用于在支撑元件上弹性地保持时计部件的机件_尼瓦罗克斯-法尔股份公司_202610190901.4
    本发明涉及一种用于将时计部件(2)固定在支撑元件(3)上的弹性保持机件(1)，该弹性保持机件(1)包括刚性部分(7)，该刚性部分(7)设有内面(6)，该内面(6)包括至少三个可变形臂(4)，该至少三个可变形臂(4)设有自由端(9)，该自由端...
    2026-03-26
  • 包括模拟显示照明装置的手表
    包括模拟显示照明装置的手表_斯沃奇集团研究和开发有限公司_202511305211.0
    本发明涉及一种手表，其包括：配备有表镜的表壳；机芯；模拟显示装置；凸缘结构，凸缘结构的内侧向表面沿侧向限定显示空间；以及照明装置，其能通过内侧向表面将光提供到显示空间，其包括光源。照明装置还包括形成凸缘结构或围绕凸缘结构的至少半透光的元件。...
    2026-03-26
  • 带有机电发电机的手表
    带有机电发电机的手表_斯沃奇集团研究和开发有限公司_202511303096.3
    本发明涉及一种手表，该手表包括位于表壳(6b)内的机芯(44a)和机电发电机(88)，该机电发电机包括定子和转子(92)，定子和转子中的一者承载永磁体(18a，18b)，另一者承载线圈(14)。转子具有环形结构并由至少一个滚珠轴承(100a...
    2026-03-26
  • 曝光装置及图像形成装置
    曝光装置及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202510231986.1
    本发明公开了一种曝光装置及图像形成装置，所述曝光装置具备：输出光的发光单元，所述发光单元被支承为相对于图像形成装置的主体能够移动；与所述发光单元连接的配线单元，在所述发光单元被安装在所述图像形成装置的主体上的状态下，成为以在所述发光单元的移...
    2026-03-26
  • 静电图像显影用色调剂、静电图像显影剂、色调剂盒、处理盒、图像形成装置及图像形成方法
    静电图像显影用色调剂、静电图像显影剂、色调剂盒、处理盒、图像形成装置及图像形成方法_富士胶片商业创新有限公司_202510238858.X
    一种静电图像显影用色调剂、静电图像显影剂、色调剂盒、处理盒、图像形成装置及图像形成方法，所述静电图像显影用色调剂具有含有非晶性聚酯树脂和苯乙烯(甲基)丙烯酸树脂的色调剂粒子，所述色调剂粒子具有不溶于四氢呋喃的苯乙烯(甲基)丙烯酸树脂的球状域...
    2026-03-26
  • 电子照相感光体、处理盒及图像形成装置
    电子照相感光体、处理盒及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202510175077.0
    一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置，所述电子照相感光体具备：导电性基体；下涂层，设置于所述导电性基体上，并且包含电子输送性材料及粘结树脂；电荷产生层，设置于所述下涂层上；及电荷输送层，设置于所述电荷产生层上，在所述下涂层中，从所述下涂...
    2026-03-26
  • 一种微区工艺背面对准的方法
    一种微区工艺背面对准的方法_湖北九峰山实验室_202610048646.X
    本发明提供一种微区工艺背面对准的方法，属于双面光刻技术领域。本发明中采用FIB‑SEM技术在衬底背面空腔内标记出四个位点，在四个位点分别刻蚀出通孔标记，记录四个通孔的坐标；然后将衬底正面朝上放置于光学对准系统中，通过图像算法得到四个通孔的中...
    2026-03-26
  • 一种基于拼接曝光的大尺寸光学窗口电磁屏蔽金属网栅的制备方法
    一种基于拼接曝光的大尺寸光学窗口电磁屏蔽金属网栅的制备方法_湖北久之洋红外系统股份有限公司_202512051184.5
    本发明提供了一种基于拼接曝光的大尺寸光学窗口电磁屏蔽金属网栅的制备方法，包括：S1.在光学窗口表面形成光刻胶牺牲层；S2.对目标区域进行第一次曝光形成主曝光区域和次曝光区域，其分别对应主视场和渐变视场；S3.移采用步进式移动曝光方式，进行第...
    2026-03-26
  • 基于准直平顶光的劳埃镜干涉光刻系统及光刻方法
    基于准直平顶光的劳埃镜干涉光刻系统及光刻方法_紫荆光刻技术(深圳)有限公司_202610075576.7
    本发明实施例涉及微纳结构光刻技术领域，公开了一种基于准直平顶光的劳埃镜干涉光刻系统及光刻方法，该光刻系统沿光路传输方向包括依次间隔设置的激光器、空间滤波器、偏振型连续可调光衰减系统、光束整形系统及劳埃镜干涉系统，激光器产生的激光经空间滤波器...
    2026-03-26
  • 一种几何相位超表面高通量激光直写系统和方法
    一种几何相位超表面高通量激光直写系统和方法_浙江大学_202512028899.9
    本发明公开了一种几何相位超表面高通量激光直写系统和方法，该系统按照光前进方向，包括飞秒激光器、扩束器、角色散补偿模块、数字微镜阵列、第二4F系统、空间光调制器、第五透镜和物镜；其中，该空间光调制器用于基于加载的全息相位图对来自数字微镜阵列的...
    2026-03-26
  • 一种基于超构表面的高通量超分辨激光直写装置及方法
    一种基于超构表面的高通量超分辨激光直写装置及方法_浙江大学_202512028271.9
    本发明公开了一种基于超构表面的高通量超分辨激光直写装置和方法，该高通量超分辨激光直写装置采用单个超构表面通过波长偏振复用实现对激发光和抑制光阵列的同时整形，替代了传统方案中复杂的独立整形与合束光路，极大地简化了系统结构，产生的激发光与抑制光...
    2026-03-26
  • 一种双面卷对卷光刻设备
    一种双面卷对卷光刻设备_深圳市鑫浩自动化技术有限公司_202511994848.5
    本发明涉及一种双面卷对卷光刻设备，包括曝光机构和位于其两侧的放卷机构和收卷机构，曝光机构包括第一曝光平台和第二曝光平台，且两个曝光平台的入膜方向相反，曝光平台下方设置有平台导膜装置，平台导膜装置包括平行走向的第一平台导膜棍组和第二平台导膜棍...
    2026-03-26
  • 双重光刻模型的构建方法及相关产品
    双重光刻模型的构建方法及相关产品_东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司_202511912773.1
    本发明提供了一种双重光刻模型的构建方法及相关产品。双重光刻模型的构建方法包括构建一重光刻刻蚀模型；构建二重光刻模型；对一重刻蚀仿真图和二重显影仿真图进行融合，得到融合仿真图；构建二重刻蚀模型，二重刻蚀模型用于根据融合仿真图、一重刻蚀仿真图和...
    2026-03-26
  • 一种多波段大视场反射式投影光刻系统
    一种多波段大视场反射式投影光刻系统_河南百合特种光学研究院有限公司_202511763507.7
    本发明涉及光学系统技术领域，公开了一种多波段大视场反射式投影光刻系统，包括照明组件和位于照明组件侧方的物镜组件，光束依次经过照明组件、物镜组件后入射到基板的光胶上；照明组件包括沿光束传播方向依次设置的第一照明透镜、第二照明透镜、光棒、第三照...
    2026-03-26
  • 谱线宽度的调整方法和电子器件的制造方法
    谱线宽度的调整方法和电子器件的制造方法_极光先进雷射株式会社_202511074343.7
    提供谱线宽度的调整方法和电子器件的制造方法。谱线宽度的调整方法包含以下步骤：第1步骤，对放大第1脉冲激光的一部分而将其转换成第2脉冲激光的第1触发信号的定时和放大第2连续光的一部分而将其转换成第3脉冲激光的第2触发信号的定时中的至少一方进行...
    2026-03-26
  • 空间滤波器及其制备方法、激光直写系统、制造系统
    空间滤波器及其制备方法、激光直写系统、制造系统_张江国家实验室_202411319951.5
    本申请涉及集成电路技术领域，公开了一种空间滤波器及其制备方法、激光直写系统、制造系统，用于提高激光直写系统中空间滤波器与微反射镜阵列之间的精密对准。制备方法包括提供一基底，在基底的第一面沉积薄膜层，在薄膜层涂覆第一光刻胶层，利用微反射镜阵列...
    2026-03-26
  • 一种等离子体光刻成像方法、装置及计算机可读介质
    一种等离子体光刻成像方法、装置及计算机可读介质_中国科学院微电子研究所_202411315589.4
    本申请提供一种等离子体光刻成像方法、装置及计算机可读介质，包括：获取等离子体光刻成像的成像结构的轴向方向，成像结构包括呈一维周期性变化的多个掩模图形，光线以和轴向方向呈预设的离轴角度的目标方向照射呈一维周期性变化的多个掩模图形，获得呈一维周...
    2026-03-26
  • 光刻胶涂覆工艺及晶圆
    光刻胶涂覆工艺及晶圆_颀中科技(苏州)有限公司_202610163196.9
    本发明揭示一种光刻胶涂覆工艺，包括步骤：向晶圆的第一表面喷涂光刻胶，第一表面具有边缘区域；停止喷涂光刻胶，控制晶圆保持第一高速，所述光刻胶铺展并覆盖第一表面；将晶圆的转速自第一高速提高至第一速度；对所述晶圆进行减速洗边处理，开启洗边液喷头，...
    2026-03-26
  • 一种同步罩可调与分区排气剪切流变协同的旋涂成膜装置
    一种同步罩可调与分区排气剪切流变协同的旋涂成膜装置_大连理工大学_202511820383.1
    本发明公开了一种同步罩可调与分区排气剪切流变协同的旋涂成膜装置，包括旋涂主体、同步罩组件和边缘处理模块。本发明提出同步罩高度随主轴工况联动的高度调节机制，显著降低由外部扰动与边界层不稳引起的径向膜厚梯度，实现展液阶段快速铺展与稳态甩膜时的均...
    2026-03-26
首页 上一页 19 下一页
技术分类

专利交易买卖与高校科技成果转化平台

主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务

Copyright ©龙图腾网 版权所有  营业执照  | 皖ICP备12007331号-2 lotut.com 皖公网安备 34010402703815号 中华人民共和国增值电信业务经营许可证