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最新专利技术
  • 显影盒
    显影盒_兄弟工业株式会社_202610257479.X
    显影盒，包括：壳体；能够围绕在第一方向上延伸的轴线旋转的显影辊；能够围绕在第一方向上延伸的轴线旋转的第一搅拌器；能够与搅拌器一起旋转的搅拌器齿轮；第一突起；显影存储器；电连接到显影存储器的第一电接触表面；和保持第一电接触表面的第一保持器。显...
    2026-05-01
  • 打印机碳粉余量智能感知与预警方法
    打印机碳粉余量智能感知与预警方法_珠海市德贝发展有限公司_202610200315.3
    本发明涉及计算机技术领域，公开了打印机碳粉余量智能感知与预警方法。该方法通过在供粉通道部署振动、电容与光学散射三类传感单元，同步采集机械振动、介电特性与颗粒散射信号，并融合供粉电机的电流与转速数据，构建4维同步时序流；经小波包分解提取各信号...
    2026-05-01
  • 处理单元和图像形成设备
    处理单元和图像形成设备_佳能株式会社_202511434481.1
    本申请涉及一种处理单元，包括可旋转的图像承载构件、充电辊、具有刷和保持构件的刷单元、管控构件和推压构件。保持构件包括第一受力部分、第二受力部分和第三受力部分，第一受力部分被配置为接收来自推压构件的在第一方向上的力，第二受力部分被配置为接收来...
    2026-05-01
  • 处理单元和图像形成装置
    处理单元和图像形成装置_佳能株式会社_202511434254.9
    本公开涉及一种处理单元，其包括：可旋转的图像承载部件；充电辊，所述充电辊配置成与图像承载部件的表面接触且配置成对所述表面充电；以及刷单元，所述刷单元包括(i)刷，所述刷包括(i‑1)板状刷基底和(i‑2)从刷基底突出并且配置成与充电辊的表面...
    2026-05-01
  • 处理单元和成像设备
    处理单元和成像设备_佳能株式会社_202511394127.0
    本申请涉及处理单元和成像设备。一种处理单元，包括：可旋转的图像承载构件；充电辊，构造成与图像承载构件的表面接触并且对图像承载构件的表面充电；刷单元，包括构造成在接触位置处与充电辊的表面接触的刷和构造成保持刷的保持构件；框架构件，构造成将保持...
    2026-05-01
  • 处理单元和图像形成设备
    处理单元和图像形成设备_佳能株式会社_202511394111.X
    一种处理单元包括：可旋转的图像承载构件；充电辊，所述充电辊被配置为与所述图像承载构件的表面接触并对所述表面进行充电；轴支撑构件，所述轴支撑构件被配置为可旋转地支撑所述充电辊；以及刷子单元，所述刷子单元包括刷子和被配置为保持所述刷子的保持构件...
    2026-05-01
  • 电子设备、对准单元以及对准单元的驱动方法
    电子设备、对准单元以及对准单元的驱动方法_京瓷办公信息系统株式会社_202511421321.3
    本发明的电子设备具有对准单元和控制部。上述对准单元包括：对准辊，其向对记录介质实施处理的处理部供给上述记录介质；以及校正电动机，其能够使上述对准辊动作以校正上述记录介质的偏移。上述控制部在使用具有第一频率的第一脉冲信号驱动上述校正电动机后，...
    2026-05-01
  • 光刻机的晶圆对准与自动对焦装置
    光刻机的晶圆对准与自动对焦装置_上海新毅东半导体科技有限公司_202610107289.X
    本申请提供了一种光刻机的晶圆对准与自动对焦装置，包括：晶圆对准模块，用于以第一波长的光线进行晶圆对准；自动对焦模块，用于以第二波长的光线进行自动对焦；二向色镜模块，相对于所述晶圆对准模块与所述自动对焦模块的光路倾斜设置，且连接所述晶圆对准模...
    2026-05-01
  • 一种光阻剥离液及其制备方法和应用
    一种光阻剥离液及其制备方法和应用_三达奥克化学股份有限公司_202512024828.1
    本发明提供了一种光阻剥离液及其制备方法和应用，属于半导体制造工艺技术领域。本发明的光阻剥离液的原料组成为：烷酮类有机溶剂20~75份、亚砜类有机溶剂5~30份、醇胺类有机溶剂5~20份、功能添加剂0.1~5份；所述功能添加剂为2, 4, 6...
    2026-05-01
  • 液体供应系统和单晶圆处理设备
    液体供应系统和单晶圆处理设备_弘塑科技股份有限公司_202411392901.X
    本申请提供了一种液体供应系统和单晶圆处理设备。液体供应系统包括单流体喷嘴和二流体喷嘴。所述单流体喷嘴配置用于向晶圆提供高温工艺液体。所述二流体喷嘴与所述单流体喷嘴相邻，配置用于向所述晶圆提供由气体和所述高温工艺液体组成的混合流体。
    2026-05-01
  • 基片处理方法、基片处理装置和存储介质
    基片处理方法、基片处理装置和存储介质_东京毅力科创株式会社_202511422497.0
    本发明提供能够利用由气体或雾构成的显影流体得到良好形状的抗蚀剂图案的基片处理方法、基片处理装置和存储介质。本发明的基片处理方法，向基片供给由气体或雾构成的显影流体，对形成在所述基片上的含有金属的抗蚀剂膜进行显影来形成图案，所述基片处理方法的...
    2026-05-01
  • 一种i线光刻机的非成像光刻照明系统
    一种i线光刻机的非成像光刻照明系统_青岛芯微半导体科技有限公司_202610308268.4
    本发明涉及光刻装备的技术领域，公开了一种i线光刻机的非成像光刻照明系统，包括采用LED光源提供i线曝光光束的光源模块，调节照明相干因子生成离轴照明光瞳的变焦模块，采集照明光瞳图像并提取光瞳特征值形成光瞳特征时间序列的光瞳监测模块，对光束进行...
    2026-05-01
  • 高精度曝光机
    高精度曝光机_东莞市友辉光电科技有限公司_202610307837.3
    本发明涉及光刻加工设备技术领域，特别是涉及一种高精度曝光机，包括上料机构、预定位机构、输送机构、下料机构、第一视觉定位机构、第二视觉定位机构、曝光机构、第一移送机械手及第二移送机械手；输送机构包括直线轨道模组和承载架，直线轨道模组沿输送方向...
    2026-05-01
  • 用于曝光浮雕前体的设备和方法
    用于曝光浮雕前体的设备和方法_阿合斯印前有限公司_202610303193.0
    公开了一种用于曝光浮雕前体(P)的设备，该浮雕前体(P)包括基板层和至少一个光敏层，所述设备包括：第一光源(1)，其包括LED阵列，所述LED阵列被配置成照射所述浮雕前体的第一侧；第二光源(2)，其被配置成照射所述浮雕前体的与所述第一侧相对...
    2026-05-01
  • 一种多级单锥形多气口式动态气体锁装置
    一种多级单锥形多气口式动态气体锁装置_广东海洋大学_202610264921.1
    一种多级单锥形多气口式动态气体锁装置，采用多级单锥形管道构型，管道中心的光孔通道的截面形状为多级单锥形，并由若干单锥形管道节串联而成，在单锥形管道节的管道壁上设有进气口和吸气口；沿光孔通道的中轴线方向形成逐级扩展的连续重复流道形态，对污染物...
    2026-05-01
  • 一种多级双锥形多气口式动态气体锁装置
    一种多级双锥形多气口式动态气体锁装置_广东海洋大学_202610264919.4
    一种多级双锥形多气口式动态气体锁装置，采用多级双锥形管道构型，光孔通道截面形状为多级双锥形并由若干双锥形管道节串联而成，每一级双锥形管道节均分为对流段和抑制段，对流段的大口端朝向投影物镜腔室，对流段的小口端与抑制段的小口端相接形成窄喉口，抑...
    2026-05-01
  • 具有穿过光罩隔室壁的保持部的光罩盒
    具有穿过光罩隔室壁的保持部的光罩盒_恩特格里斯公司_202610246051.5
    本申请涉及一种具有穿过光罩隔室壁的保持部的光罩盒。所述光罩盒包含外部分及内部分，所述外部分包含盒门及盒圆顶，所述内部分包含底板及盖。所述底板或所述盖中的一者包含朝向所述底板或所述盖中的另一者延伸的光罩隔室壁。所述光罩隔室壁包含一或多个保持特...
    2026-05-01
  • 一种新型集成电路曝光方法
    一种新型集成电路曝光方法_日月新先进技术研究(昆山)有限公司_202610071306.9
    本发明公开了一种新型集成电路曝光方法，本发明属于半导体制造领域，包括步骤一：根据晶圆目标曝光区域的大小设定机台步进移动量，设定晶圆目标曝光区域X方向大小为M，Y方向大小为N；步骤二：将所述晶圆目标曝光区域拆分为若干组曝光单元，所述曝光单元的...
    2026-05-01
  • 深紫外光刻机的激光光束测量系统及光刻机
    深紫外光刻机的激光光束测量系统及光刻机_新毅东(北京)科技有限公司_202610041690.8
    本发明提供一种深紫外光刻机的激光光束测量系统及光刻机，属于光刻机技术领域，系统包括：第一分光部件，将入射的深紫外激光束分成光刻光束和测量光束；第二分光部件，将测量光束分成第一测量支路光束和第二测量支路光束；光束位置测量支路，接收第一测量支路...
    2026-05-01
  • 一种基于晶格弹簧模型的负显影光刻胶收缩效应建模方法
    一种基于晶格弹簧模型的负显影光刻胶收缩效应建模方法_中国科学院微电子研究所_202411410754.4
    本发明涉及一种基于晶格弹簧模型的负显影光刻胶收缩效应建模方法，属于光刻技术领域，解决了现有技术中负显影存在严重的光刻胶收缩效应的问题。具体步骤包括：基于曝光烘烤得到未考虑收缩效应的光刻胶离散晶格的保护位点浓度分布；基于晶格弹簧理论分别计算每...
    2026-05-01
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