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  • 本发明涉及ITO膜制备技术领域,具体为抗裂纹低阻ITO膜及其制备方法,包括:基材,基材上设置有硬化层;硬化层由下至上设置有氮化硅层和氧化硅层;双层ITO结构,双层ITO结构设置在氧化硅层上,双层ITO结构由下至上的ITO层一、金属层以及IT...
  • 本申请公开一种用于颗粒物镀膜处理的等离子体真空镀膜设备,包括真空腔体、工艺气体输配系统、颗粒承载与流化装置、磁控溅射阴极和电磁线圈,真空腔体内部设置有隔离件,隔离件在真空腔体内部界定出真空镀膜区;颗粒承载与流化装置包括具有多孔结构的承载盘,...
  • 本发明涉及旋转靶材技术领域,具体涉及一种大尺寸ITO旋转靶材的离心绑定方法,包括以下步骤:步骤一,接触面预处理:对ITO靶材内壁和金属背管外表面先脱脂清洗,再分别溅射镍或铜进行金属化处理,溅射层厚度0.5‑2μm;步骤二,装配定位:同轴装配...
  • 本发明公开了一种镁合金镀覆层制备方法及镁合金镀覆层,镁合金镀覆层制备方法包括备料步骤、装配步骤、预备步骤、镀膜步骤和取样步骤。备料:提供镁合金样品、铝镁合金靶、钇金属靶和镀覆装置;装配:镀覆装置具有托盘、镀覆腔和两个靶材座,将镁合金设于托盘...
  • 本发明提供一种形成MTJ势垒层薄膜的方法,包括:在沉积势垒层薄膜前执行腔室环境处理步骤,包括:通过射频溅射的方式轰击第一靶材,以在腔室的四周内壁形成氧吸附层;对腔室进行氧处理,提供氧原子,使得氧吸附层与氧原子相结合;执行势垒层薄膜沉积步骤,...
  • 本发明属于真空离子镀技术领域,提供了一种用于真空离子镀金刚石或DLC的爆炸弧脉冲电源控制方法及系统,方法包括:初始化、最小控制窗口设定、数据监测和特征提取、最优调控参数匹配、控制器调控、历史调控数据收集、查找表动态更新;查找表构建流程包括:...
  • 本发明提供了一种爆炸弧脉冲电源‑磁过滤集成式真空离子镀膜方法及系统,包括:定义目标与约束、设计基础控制框架,将爆炸弧脉冲电源与磁过滤集成至真空腔中,得到第一控制框架;进行接口与数据流设计、在线诊断与数据驱动控制、热管理与安全互锁、集成控制和...
  • 本发明公开了一种激光织构化石墨复合润滑的高熵氮化物涂层及其制备方法。属于金属材料表面改性技术领域。一种激光织构化石墨复合润滑的高熵氮化物涂层,包括Ti合金基体,自Ti合金基体表面向外依次设置表面织构化的TaTiZrVHfN高熵氮化物层、固体...
  • 本发明提供一种用于减速器传动装置的复合润滑薄膜及其制备方法和应用,涉及表面工程技术领域。为了提升减速器在重载工况下的长寿命应用需求,通过在摩擦件和摩擦对偶件(传动啮合面)的表面制备具有协同润滑作用的润滑膜,不仅可提升减速器的传动效率和转动平...
  • 本发明涉及真空镀膜技术领域,且公开了一种电子束蒸发镀膜装置及其操作方法,镀膜装置本体包括真空腔体、设置于腔体内的热蒸发源以及密封盖,还包括升降组件、翻转组件、旋转组件、球罩卡具和球罩本体,升降组件安装于镀膜装置本体内部上方,用于驱动工件沿竖...
  • 本发明公开了一种基于高通量成分梯度筛选的功能薄膜材料及其制备方法,属于反电材料领域和脉冲激光沉积领域。该功能薄膜材料包括依次堆叠的衬底层、底电极层和功能层,所述功能层的成分为Pb(Zr1‑xSnx)O3,其中,Pb(Zr1‑xSnx)O3由...
  • 本发明涉及一种真空蒸镀图形化金属件及其制备方法,制备方法包括:S1.获取金属基材,对金属基材进行除油、洗涤、碱浸、洗涤、吹干,得到预处理金属基材;S2.在预处理金属基材的表面涂覆油墨,预烘干、曝光、显影,形成图形化油墨层,得到显影金属件;S...
  • 本申请公开了纳米金属化复合薄膜及其制备方法,包括:基膜层;金属功能层;以及连接在基膜层、金属功能层之间的界面结合层;所述基膜层朝向所述界面结合层的表面包含第一极性官能团,所述界面结合层朝向所述基膜层的表面包含第二极性官能团,所述第一极性官能...
  • 本发明涉及集流体蒸镀多段控温技术领域,特别是涉及一种用于蒸镀的多温度段控温设备,包括集成机柜,在集成机柜的上侧设置有安装架、集流体卷、第一护罩、第二护罩、导流架和导流板,第二护罩的上侧设置有温控机构,集成机柜的内部设置有辅助机构,温控机构包...
  • 本发明公开了一种二级行星镀膜机构及镀膜设备。二级行星镀膜机构的支撑机构包括支撑架和多个支撑腿,支撑架的中部开设有第一通孔,多个支撑腿固定在支撑架的四周。轴承机构包括轴承和轴杆,轴承包括转动连接的内圈和外圈,轴杆穿过内圈且与内圈固定连接,轴承...
  • 本发明公开了一种钢表面阻氢耐磨涂层及其制备方法,属于阻氢涂层制备技术领域。钢表面阻氢耐磨涂层包括位于钢基体表面的由下到上依次重叠设置的TiCrZr金属过渡层、陶瓷过渡层和复合氧化物阻氢耐磨层;陶瓷过渡层为ZrO2和Al2O3交替堆叠的多层过...
  • 本发明公开了一种用于断桥铝型材的物理气相沉积(PVD)涂层方法,该方法通过精密前处理、优化的多层级PVD沉积以及可选的等离子体聚合后处理,在型材表面形成高性能复合涂层。其中,沉积过程在专用PVD镀膜系统中完成,该系统通过可公转与自转的行星架...
  • 本发明涉及第三代SiC功率器件封装连接材料技术领域,具体涉及一种Ni‑Sn系薄膜及其制备方法和应用。本发明的Ni‑Sn系薄膜为由镍锡共沉积层和金属锡层层叠设置的双层结构,且金属锡层位于所述镍锡共沉积层上。本发明通过镍锡共沉积层将镍原子和锡原...
  • 本发明公开了一种用于超导带材MgO膜层制备的IBAD设备,属于超导材料制备设备技术领域,旨在解决现有IBAD设备制备MgO膜层效率低、运行稳定性差、检测依赖人工等技术问题。该设备包括真空系统、走带系统、离子源系统、带材检测系统及控制系统,各...
  • 本发明公开了一种基于磁控溅射的连续环保装饰镀黑钢带及其制备方法,属于金属材料表面处理技术领域,包括以下步骤:步骤一:对钢带进行真空离子轰击预处理;步骤二:在卷对卷磁控溅射设备中,通入氩气和乙炔气体,采用铬靶和/或钛靶进行溅射;步骤三:依次沉...
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