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最新专利技术
  • 涉及氢电解系统的改进
    涉及氢电解系统的改进_维斯塔斯风力系统集团公司_202380077504.0
    一种包括风力涡轮机设施的制氢系统，所述风力涡轮机设施包括通过功率转换器系统(22)连接到氢电解槽(30)的风能发电机(18)。功率转换器系统(22)包括通过DC链路(28)电耦合在一起的发电机侧转换器(24)和电解槽侧转换器(26)，以及包...
    2026-03-30
  • 头戴式显示器的主动视差感测
    头戴式显示器的主动视差感测_元平台技术有限公司_202380078652.4
    一种近眼光学组件包括显示波导(106A，106B)和光学结构。该显示波导被配置成接收显示光并且将该显示光向用户的眼睛(102A，102B)引导。该光学结构包括输入耦合器(304)、光路和输出耦合器(312)。该输入耦合器被设置成接收该显示光...
    2026-03-30
  • 用于多裸片存储器堆叠的封装件内纠错
    用于多裸片存储器堆叠的封装件内纠错_拉姆伯斯公司_202380078242.X
    一种存储器设备，包括以竖直堆叠布置的多个存储器裸片。多个存储器裸片中的每个存储器裸片包括存储器阵列和纠错电路。多个存储器裸片中的至少一个存储器裸片的纠错电路被配置成生成要被存储在存储器设备中的数据的奇偶校验信息，并且奇偶校验信息的至少一部分...
    2026-03-30
  • 呈之字形弯曲的医用提拉线
    呈之字形弯曲的医用提拉线_CG生物技术有限公司_202380077847.7
    本发明的呈之字形弯曲的医用提拉线的特征在于，包括：波纹本体(corrugeated body)，由具有高度差的谷部和脊部沿长度方向呈之字形连续配置；以及凸起(cog)，其在所述谷部和脊部各自的尖端部位的内侧面沿彼此不同的方向交替凸出形成，比...
    2026-03-30
  • 乳化外用组合物及其制造方法
    乳化外用组合物及其制造方法_日本乐敦制药株式会社_202380078249.1
    本发明提供一种紫外线吸收能力优异的新型组合物。制备如下乳化外用组合物：其是含有(C)二乙氨基羟苯甲酰基苯甲酸己酯和(A)内包紫外线吸收剂的多孔二氧化硅的乳化外用组合物，其中，所述多孔二氧化硅的平均粒径为1.4～40μm，所述(A)成分中内包...
    2026-03-30
  • 水包油型乳化化妆品
    水包油型乳化化妆品_株式会社资生堂_202380078624.2
    本发明的目的在于，提供：含有多层型胶囊的水包油型乳化化妆品、且所配合的多层型胶囊以适度的力被破坏而可以使所包封的颜料露出的化妆品。本发明涉及一种水包油型乳化化妆品，其特征在于，含有：(A)包含颜料的多层型胶囊；(B)分子量1000以下的盐；...
    2026-03-30
  • 用于循环利用消费后塑料材料的方法
    用于循环利用消费后塑料材料的方法_威妥有限公司_202380077730.9
    用于循环利用包含初始水平的一种或多种添加剂化合物的氯乙烯聚合物材料的方法包括：提供水性酸组合物，该水性酸组合物包含一种或多种醇和一种或多种酸；使该氯乙烯聚合物材料与一定体积的该酸组合物接触以引起从该氯乙烯聚合物材料中提取该一种或多种添加剂化...
    2026-03-30
  • 铝系锂吸附剂及其制备方法
    铝系锂吸附剂及其制备方法_浦项控股股份有限公司_202380078971.5
    本实施例涉及一种具有硫酸根基团(SO4)作为反离子的铝系吸附剂，具体而言，可以提供化学式由Li2SO4·4Al(OH)3·nH2O...
    2026-03-30
  • PTFE和活性颗粒组合物
    PTFE和活性颗粒组合物_唐纳森公司_202380078778.1
    包括基质的组合物，这样的组合物的制造方法，包括这样的组合物的结构，将这样的组合物设置于基底上的方法；其中，基质包括：多个由PTFE树脂形成的聚四氟乙烯原纤维和多个活性颗粒。
    2026-03-30
  • 固定式感应充电设备以及具有该固定式感应充电设备的感应式车辆充电系统
    固定式感应充电设备以及具有该固定式感应充电设备的感应式车辆充电系统_马勒国际有限公司_202380077922.X
    本发明涉及一种固定式感应充电设备(4)，所述固定式感应充电设备用于感应式车辆充电系统(2)，所述感应式车辆充电系统设置为用于以电能对电池电动车辆(1)的电池充电。所述固定式感应充电设备包括：壳体(5)，所述壳体具有底板(6)和布置在所述底板...
    2026-03-30
  • 用于梯子的稳定器机构、结合该稳定器机构的梯子及相关方法
    用于梯子的稳定器机构、结合该稳定器机构的梯子及相关方法_小巨人梯具系统有限公司_202380080351.5
    稳定机构、结合稳定机构的梯子及相关方法能够包括支柱或支架，所述支柱或所述支架能够从收缩构型自动部署到部署或扩展构型以在所述梯子延伸时支撑并且稳定所述梯子。稳定器机构能够包括偏压构件，所述偏压构件被构造为在所述梯子的活动导轨组件相对于其基部导...
    2026-03-30
  • 加强型撑杆式梯子梯级和梯子把手、包含所述梯级和梯子把手的梯子以及相关方法
    加强型撑杆式梯子梯级和梯子把手、包含所述梯级和梯子把手的梯子以及相关方法_小巨人梯具系统有限公司_202380080274.3
    提供了梯子配置和部件，包括第一侧梁组件和第二侧梁组件，所述第一侧梁组件和第二侧梁组件能够在收缩配置和扩展结构之间相对枢转。连接至侧梁的把手从侧梁向内延伸，并且具有可在清除位置和承重位置之间弹性偏转的内端，当通过把手搬运梯子时，所述内端接合另...
    2026-03-30
  • 用于梯子的托盘机构、并入有所述托盘机构的梯子以及相关方法
    用于梯子的托盘机构、并入有所述托盘机构的梯子以及相关方法_小巨人梯具系统有限公司_202380080329.0
    本公开提供梯子构形及部件，其包括可在收缩构形与展开构形之间相对于彼此枢转的第一导轨组件及第二导轨组件。可旋转地连接到所述梯子的顶部盖的托盘可包括可转换隔间、一对夹具、附接点及铁磁部件。通过操作锁定或解锁所述托盘的调整构件，所述托盘可相对于所...
    2026-03-30
  • 用于选择性还原NOx的包含非常高纯度的AFX结构IZM-9沸石和至少一种过渡金属的催化剂
    用于选择性还原NO<Sub>x</Sub>的包含非常高纯度的AFX结构IZM-9沸石和至少一种过渡金属的催化剂_IFP新能源公司_202380078830.3
    本发明的主题是采用有机结构剂的混合物制备基于AFX结构型的IZM‑9沸石和至少一种过渡金属的催化剂的方法、通过该方法制备或能够制备的催化剂，及其在还原剂存在下用于NOx选择性催化还原的用途，特别是对于内燃机。
    2026-03-30
  • 焊接用导电嘴
    焊接用导电嘴_松下知识产权经营株式会社_202380079087.3
    焊接用导电嘴具备焊嘴壳体、容纳于所述焊嘴壳体的引导件和供电焊嘴，所述引导件从一端侧按压所述供电焊嘴，所述供电焊嘴将从所述一端侧供给的焊丝夹入来进行供电，具有通过与所述焊丝接触而使得能够向所述焊丝供电的供电点、和与所述焊嘴壳体接触的支点，被构...
    2026-03-30
  • 具有填料的有机聚硅氧烷组合物
    具有填料的有机聚硅氧烷组合物_美国陶氏有机硅公司_202380078437.4
    本发明涉及一种组合物，该组合物包含用相对高浓度的DH基团官能化的第一聚有机硅氧烷；用OH基团或烯键式不饱和基团官能化的第二聚有机硅氧烷；发泡剂；填料；以及氢化硅烷化催化剂。本发明的组合物可用于制备可用作热屏障的低密度高...
    2026-03-30
  • 热固性树脂组合物、覆盖膜及柔性印刷布线板
    热固性树脂组合物、覆盖膜及柔性印刷布线板_株式会社有泽制作所_202380078821.4
    热固性树脂组合物包含：具有丙烯腈丁二烯橡胶骨架的聚酰胺酰亚胺树脂；于25℃为非固态的环氧树脂；分散在非固态的环氧树脂中的微粒橡胶；无机填充剂；和固化剂。相对于聚酰胺酰亚胺树脂100质量份而言，非固态的环氧树脂的含量为30质量份以上70质量份...
    2026-03-30
  • 涂料组合物
    涂料组合物_罗门哈斯公司_202380077842.4
    提供了一种具有饰面层的外部绝缘和饰面系统(EIFS)，该饰面层具有无机填料和/或颜料的高PVC，该外部绝缘和饰面系统的耐沾污性和/或保色性可通过将碱金属硅醇盐以有效地改善耐沾污性和/或保色性的量添加到该饰面层来改善。
    2026-03-30
  • 分层虚拟化
    分层虚拟化_微软技术许可有限责任公司_202380077575.0
    分层虚拟化创建与父客户机分区共享管理程序的子客户机分区。管理程序从在管理程序处操作的第一客户机分区接收用以创建第二客户机分区作为第一客户机分区的子代的请求。管理程序标识针对第二客户机分区的配置规范，该配置规范包括(1)被分配给第一客户机分区...
    2026-03-30
  • 半导体基板的预清洗装置及利用其的预清洗方法
    半导体基板的预清洗装置及利用其的预清洗方法_微传科技有限公司_202380078999.9
    本发明公开一种半导体基板的预清洗装置及利用其的预清洗方法，所述半导体基板的预清洗装置包括：工艺腔室，内部呈中空状态，包括形成在侧部上部的工艺气体供给孔和形成在下表面的下部排出孔；基座，位于工艺腔室的内部下部，用于放置半导体基板；冲洗头部，由...
    2026-03-30
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