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最新专利技术
  • 摄像模组以及电子设备
    摄像模组以及电子设备_华为技术有限公司_202410389464.X
    本申请提供一种摄像模组以及电子设备。第一载体围绕摄像主体， 且转动连接摄像主体， 第二载体围绕第一载体， 且转动连接第一载体， 第一组SMA线用于驱动摄像主体绕第一转动轴线转动， 第一组SMA线的至少一条SMA线的延伸方向与第一转动轴线呈夹...
    2026-02-06
  • 一种双向镜头摄像机
    一种双向镜头摄像机_苏州凭新自动化科技有限公司_202510640893.4
    本发明公开了一种双向镜头摄像机， 属于光学成像设备技术领域， 该双向镜头摄像机， 包括机体， 所述机体的顶部固定连接有把手， 所述机体的一侧固定连接有镜筒， 所述机体的内部靠一侧位置设置有调节机构， 所述调节机构的顶部设置有聚焦机构， 所述...
    2026-02-06
  • 一种利用相变材料的连铸坯检测用相机冷却方法及装置
    一种利用相变材料的连铸坯检测用相机冷却方法及装置_本钢板材股份有限公司_202510845275.3
    本发明提供一种利用相变材料的连铸坯检测用相机冷却方法及装置， 涉及工业相机冷却方法技术领域。本发明方法包括：在连铸坯生产线的检测区域搭建耐高温镍基合金架子， 并将工业相机固定于架子上；将相变材料封装于铜制容器内， 形成与工业相机适配的凹槽环...
    2026-02-06
  • 一种显示设备
    一种显示设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202410386134.5
    本申请提供实施例属于显示技术， 提供一种显示设备， 包括：超短焦镜头， 包括对影像光束进行反射的反射镜；N个取像摄像头， 用于拍摄包括投影画面和投影屏幕的图像；取像摄像头与第一平面的垂直距离小于或等于显示设备的半宽， 与第二平面的垂直距离小...
    2026-02-06
  • 一种激光光源装置和投影系统
    一种激光光源装置和投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410374162.5
    本发明公开了一种激光光源装置和投影系统， 至少包括第一激光器、第二激光器和合光组件；第一激光器包括多个第一激光芯片， 第二激光器包括多个第二激光芯片和多个第三激光芯片， 且第一激光芯片的数量大于第二激光芯片的数量， 第一激光芯片的数量大于第...
    2026-02-06
  • 自动调焦装置和投影光机
    自动调焦装置和投影光机_歌尔光学科技有限公司_202511203707.7
    本发明公开了一种自动调焦装置和投影光机， 涉及微型激光投影技术领域， 其中， 自动调焦装置包括支架、调焦机构、定位机构和屏蔽机构， 调焦机构包括驱动组件、传动组件和镜头组件， 驱动组件通过传动组件与镜头组件传动连接；定位机构包括磁性定位件和...
    2026-02-06
  • 投影屏幕及投影系统
    投影屏幕及投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410381388.8
    本发明提供一种投影屏幕及投影系统， 投影屏幕包括显示膜片， 显示膜片具有投影受光面；支架单元， 支架单元包括支架本体和滚筒， 滚筒转动设置在支架本体上， 至少部分显示膜片卷设于滚筒外周；导向单元， 导向单元活动设置在支架本体上， 导向单元包...
    2026-02-06
  • 镜头模组和电子设备
    镜头模组和电子设备_华为技术有限公司_202410382757.5
    本申请实施例提供了一种镜头模组和电子设备， 镜头模组包括偏振模组和感光元件， 偏振模组包括：偏振组件， 偏振组件设置有至少两个叶片式偏振片、旋转支架和底座， 至少两个叶片式偏振片设置在该旋转支架上， 该旋转支架设置在该底座上；第一驱动组件，...
    2026-02-06
  • 一种基于蓝晒工艺的深紫外灰度掩膜版的制备方法
    一种基于蓝晒工艺的深紫外灰度掩膜版的制备方法_南开大学_202510689817.2
    本发明涉及光信息存储技术领域， 尤其涉及一种基于蓝晒工艺的深紫外灰度掩膜版的制备方法， 包括如下步骤：将蓝晒水溶液和明胶水溶液按体积比为2 : 5～4 : 5的比例混合， 得到蓝晒感光剂溶液；采用滴涂法或旋涂法， 使蓝晒感光剂溶液均匀覆盖于...
    2026-02-06
  • 改善光罩透过率的方法
    改善光罩透过率的方法_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202511047347.6
    本发明提供了一种改善光罩透过率的方法， 包括：提供光罩， 光罩包括由下至上依次堆叠的基底、硅化钼层和铬层， 铬层位于光罩的不透光区， 铬层暴露出部分硅化钼层和部分基底， 暴露的硅化钼层位于光罩的第一透光区， 暴露的基底位于光罩的第二透光区，...
    2026-02-06
  • 光学邻近校正模型的校准方法、电子设备及存储介质
    光学邻近校正模型的校准方法、电子设备及存储介质_全芯智造技术有限公司_202511220929.X
    本公开的实施例涉及光学邻近校正模型的校准方法、电子设备及存储介质。该方法包括：基于版图中预定图形的仿真图形和对应于预定图形的晶圆图像确定光学邻近校正OPC模型的成本函数的值， 其中沿预定图形的第一方向以及与第一方向非垂直的第二方向设置的标尺...
    2026-02-06
  • 光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备
    光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备_华芯程(杭州)科技有限公司_202511225718.5
    本申请公开了一种光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备， 其中， 该光学邻近效应修正方法包括根据预设规则在通孔层的目标图形周围放置SRAF；对目标图形进行OPC修正， 生成初始修正图形；获取每个目标图形与对应初始修正图形之间的第一距...
    2026-02-06
  • 基于分组合并的空间块汇聚方法、装置、存储介质及电子设备
    基于分组合并的空间块汇聚方法、装置、存储介质及电子设备_华芯程(杭州)科技有限公司_202511171115.1
    本申请公开了一种基于分组合并的空间块汇聚方法、装置、存储介质及电子设备， 其中， 该基于分组合并的空间块汇聚方法包括将目标版图划分为多个区域；采用扫描线方法对每个区域内的图案进行水平扫描和竖直扫描， 生成多边形块， 并形成每个多边形块的空间...
    2026-02-06
  • 一种基于调控刻蚀副产物的刻蚀方法及掩模版
    一种基于调控刻蚀副产物的刻蚀方法及掩模版_中国科学院光电技术研究所_202510894349.2
    本发明涉及半导体制造领域， 具体涉及一种基于调控刻蚀副产物的刻蚀方法及掩模版， 刻蚀方法包括：S1， 在基底表面上形成铬吸收层， 在铬吸收层上形成图形化光刻胶层；S2， 将基底放入刻蚀设备内， 以图形化光刻胶层为掩蔽层， 刻蚀铬吸收层至基底...
    2026-02-06
  • 掩膜版的清洗方法、装置及计算机设备
    掩膜版的清洗方法、装置及计算机设备_京东方华灿光电(浙江)有限公司_202510727714.0
    本公开公开了一种掩膜版的清洗方法、装置及计算机设备， 属于半导体技术领域。该掩膜版的清洗方法包括：确定清洗间隔片数和报废清洗次数， 清洗间隔片数指的是在相邻两次清洗作业的间隔内， 掩膜版的光刻作业次数， 报废清洗次数为掩膜版在报废之前所能够...
    2026-02-06
  • 一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法
    一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法_北京电子量检测装备有限责任公司_202511148615.3
    本发明公开了一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法， 涉及掩模版缺陷检测技术领域， 按指令倍率与掩模版名自动调取并固化检测参数；以光校准点灰度二次多项式拟合归一化矫正参考图；划分检测区后提取ORB特征， 经汉明距离与RANSAC得亚像素...
    2026-02-06
  • 一种成膜剂及其制备方法、色转换膜及其制备方法、显示模组以及显示装置
    一种成膜剂及其制备方法、色转换膜及其制备方法、显示模组以及显示装置_华为技术有限公司_202410366367.9
    本申请实施例涉及显示设备技术领域， 具体涉及一种成膜剂及其制备方法、色转换膜及其制备方法、显示模组以及显示装置。本申请实施例旨在解决色转换膜固化不完全， 显示模组的分辨率较低的问题。本申请实施例提供了一种成膜剂， 用于制备色转换膜， 包括第...
    2026-02-06
  • 碱性显影型树脂组合物、干膜、固化物和具有该固化物的电子部件
    碱性显影型树脂组合物、干膜、固化物和具有该固化物的电子部件_太阳油墨(苏州)有限公司_202410372616.5
    提供一种低挥发性、且分散性、感光性、显影性等性能优异的碱性显影型树脂组合物， 其固化物的铅笔硬度和耐热性优异、其所形成的涂膜具有良好的指触干燥性。该碱性显影型树脂组合物含有：(A)环氧树脂、(B)含羧基乙烯基酯树脂、(C)光聚合引发剂、(D...
    2026-02-06
  • 感光性树脂组合物、干膜、固化物和电子部件
    感光性树脂组合物、干膜、固化物和电子部件_太阳油墨(苏州)有限公司_202410373746.0
    本发明提供一种能够获得兼具优异的白色度、反射率， 分辨率的固化物、且高灵敏度的感光性树脂组合物、干膜、固化物和电子部件。该感光性树脂组合物为包含(A)含羧基树脂、(B)磷系光聚合引发剂、(C)具有光漂白性的肟酯系光聚合引发剂、(D)氧化钛的...
    2026-02-06
  • 半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510110997.4
    公开一种半导体光刻胶组合物和一种使用所述半导体光刻胶组合物形成图案的方法。所述半导体光刻胶组合物可包括含锡(Sn)有机金属化合物、氧化氘(D2O)和溶剂。
    2026-02-06
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