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最新专利技术
  • 半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510110997.4
    公开一种半导体光刻胶组合物和一种使用所述半导体光刻胶组合物形成图案的方法。所述半导体光刻胶组合物可包括含锡(Sn)有机金属化合物、氧化氘(D2O)和溶剂。
    2026-02-06
  • 半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510111001.1
    公开了一种半导体光刻胶组合物和使用该组合物形成图案的方法。该半导体光刻胶组合物可包括有机锡(Sn)化合物和溶剂， 该有机锡(Sn)化合物可包括被至少一个氘取代的可水解配体。
    2026-02-06
  • 显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜
    显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜_阪田油墨株式会社_202510116348.5
    本发明提供一种能够形成粘度稳定性优异且对N‑甲基吡咯烷酮等极性高的溶剂的耐溶剂性优异的涂膜的显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜。一种显示器用黑色颜料分散组合物， 含有内酰胺黑、具有氮原子的高分子颜料分...
    2026-02-06
  • 显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜
    显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜_阪田油墨株式会社_202510118121.4
    本发明提供一种能够形成粘度稳定性优异且对N‑甲基吡咯烷酮等极性高的溶剂的耐溶剂性优异的涂膜的显示器用黑色颜料分散组合物、显示器用黑色颜料分散抗蚀剂组合物、黑色抗蚀剂膜。一种显示器用黑色颜料分散组合物， 含有内酰胺黑、作为具有氮原子的无规共聚...
    2026-02-06
  • 干膜、固化物及印刷电路板
    干膜、固化物及印刷电路板_太阳控股株式会社_202510135176.6
    本发明的技术问题在于提供干膜、固化物及印刷电路板， 所述干膜的隐蔽性及分辨率良好， 且能够形成形状均匀的固化物。本发明的解决手段为一种干膜， 其为具有第一膜与形成在第一膜上的包含固化性树脂组合物的树脂层的干膜， 其中， 树脂层具有第一膜侧的...
    2026-02-06
  • 感光性转印材料及其制造方法
    感光性转印材料及其制造方法_富士胶片株式会社_202510182340.9
    本发明的课题在于提供一种通过临时支承体剥离曝光而获得的图案的图案形状优异的感光性转印材料及其制造方法。本发明提供一种用在临时支承体剥离曝光方式中的感光性转印材料及其制造方法， 该感光性转印材料依次具有临时支承体、热塑性树脂层、中间层及感光性...
    2026-02-06
  • 感光性组合物、滤光器、图像显示装置、固体摄像元件、及红外线传感器
    感光性组合物、滤光器、图像显示装置、固体摄像元件、及红外线传感器_爱天思株式会社_202510284516.1
    本发明的目的在于提供一种感光性组合物、滤光器、图像显示装置、固体摄像元件、及红外线传感器。所述感光性组合物可形成保存稳定性良好、不易产生显影斑点及逸气、低温硬化工序后的耐溶剂性优异的膜。滤色器用感光性组合物， 包含：碱可溶性树脂(A)、聚合...
    2026-02-06
  • 感光性树脂组合物、遮光膜、彩色滤光片、触摸面板及显示装置
    感光性树脂组合物、遮光膜、彩色滤光片、触摸面板及显示装置_日铁化学材料株式会社_202510339418.3
    本发明的课题在于提供一种可获得兼顾低反射性与良好的显影性的遮光膜的感光性树脂组合物、遮光膜、彩色滤光片、触摸面板及显示装置。一种感光性树脂组合物， 包含：(A)含不饱和基的碱可溶性树脂、(B)至少具有2个以上的不饱和键的光聚合性化合物、(C...
    2026-02-06
  • 膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物
    膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物_信越化学工业株式会社_202510363626.7
    本发明涉及膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、单体、及聚合物。本发明的课题：本发明以提供环境负荷少、且对于基板的涂布性为优良的膜形成用组成物为目的。本发明的解决手段：一种膜形成用组成物， 其特征在于， 该膜形成用组成物含有具有具五...
    2026-02-06
  • 图案形成方法及抗蚀剂材料
    图案形成方法及抗蚀剂材料_信越化学工业株式会社_202510363627.1
    本发明涉及图案形成方法及抗蚀剂材料。本发明的课题是提供可形成高深宽比且微细的图案而不发生图案崩塌的图案形成方法。该课题的解决手段为一种图案形成方法， 其特征为包含下列步骤：准备含有具有含硅的酸不稳定基团的聚合物的抗蚀剂材料， 使用前述抗蚀剂...
    2026-02-06
  • 感光性树脂层叠体及其制造方法
    感光性树脂层叠体及其制造方法_旭化成株式会社_202510372084.X
    一种感光性树脂层叠体及其制造方法， 所述感光性树脂层叠体能够实现满足抗蚀图案近年来特别要求的特性的该抗蚀图案， 且能够确保经时性的品质稳定性。一种感光性树脂层叠体， 其包含：临时支承层、包含感光性树脂组合物的感光性树脂层和保护层， 前述感光...
    2026-02-06
  • 光阻组合物、微影方法及极紫外微影方法
    光阻组合物、微影方法及极紫外微影方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202510735217.5
    本揭露是关于一种光阻组合物、微影方法及极紫外微影方法， 该光阻组合物包括一第一光阻。该第一光阻具有一化学式(a1)或一化学式(a2)：(R1Sn)6(OH)mO4+y 化学式(a1)；及(R1Sn)6‑x(R2Sn)x(OH)mO4+y 化...
    2026-02-06
  • 树脂组合物、树脂膜、附树脂膜的基板、有机EL显示装置、附树脂膜的基板的制造方法
    树脂组合物、树脂膜、附树脂膜的基板、有机EL显示装置、附树脂膜的基板的制造方法_日铁化学材料株式会社_202510375345.3
    本发明汲及一种感光性树脂组合物， 其可形成具有适当遮光性且在可见光区域中的穿透率变化幅度小的树脂膜。本发明的感光性树脂组合物， 其包含(A)含有碳黑和/或钛黑的黑色颜料、(B)含有不饱和基的碱可溶性树脂、(C)具有两个以上的乙烯性不饱和基的...
    2026-02-06
  • 着色固化性树脂组合物、滤色器、包含该滤色器的显示装置以及上述滤色器的制造方法
    着色固化性树脂组合物、滤色器、包含该滤色器的显示装置以及上述滤色器的制造方法_住友化学株式会社_202510363763.0
    本发明可以提供一种即使在低温下进行加热也能够形成图案形状良好的滤色器的着色固化性树脂组合物。所述着色固化性树脂组合物包含粘合剂成分、聚合引发剂和着色剂， 粘合剂成分由树脂和聚合性化合物构成， 树脂包含具有环氧基的碱溶性树脂， 聚合性化合物包...
    2026-02-06
  • 一种正性感光树脂组合物
    一种正性感光树脂组合物_万华化学集团股份有限公司_202410354883.X
    本发明公开一种正性感光树脂组合物。包含以下组成：(A)碱溶性树脂、(B)感光性化合物、(C)有机溶剂、(D)助剂、(E)上述包含(E)组成的树脂组合物， 可以在OLED器件中作为平坦化层、绝缘层中应用， 并在曝光显影过程中显著降低非曝光区膜...
    2026-02-06
  • 正型感光性树脂组合物、硬化膜、附硬化膜的基板的制造方法及层叠体的制造方法
    正型感光性树脂组合物、硬化膜、附硬化膜的基板的制造方法及层叠体的制造方法_日铁化学材料株式会社_202510372476.6
    本发明涉及一种正型感光性树脂组合物， 其在形成图案状硬化膜时， 可使形状保持性、残膜率、耐热性及接着强度皆为高水平。本发明的正型感光性树脂组合物包含：(A)含有不饱和基的碱可溶性树脂；(B)聚合性化合物；(C)光聚合引发剂；(F)感光材；及...
    2026-02-06
  • 一种制备三维无应力金属导电结构的曲面光刻方法
    一种制备三维无应力金属导电结构的曲面光刻方法_中国科学院力学研究所_202510843362.5
    本发明公开了微结构制备领域的一种用于制备三维薄膜型无应力金属微结构的曲面光刻方法， 包括以下步骤：在薄膜基底的正反双面均涂覆光刻胶， 并通过光刻方法将光刻胶进行图案化， 所得凹槽图案形状与欲制备金属微结构展平后的形状一致；将上述带有图案化光...
    2026-02-06
  • 套刻偏差处理方法、装置、设备、介质及系统
    套刻偏差处理方法、装置、设备、介质及系统_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410382266.0
    本申请涉及半导体技术领域， 尤其涉及一种套刻偏差处理方法、装置、设备、介质及系统， 该方法包括：获取与当前层关联的前后道工艺参数特征和偏差补偿模型， 并输入至偏差补偿模型进行偏差补偿处理， 得到前后道工艺参数特征对应的预测偏差补偿数据；在前...
    2026-02-06
  • 曝光装置、曝光装置的控制方法和产品制造方法
    曝光装置、曝光装置的控制方法和产品制造方法_佳能株式会社_202510363245.9
    本发明提供了曝光装置、曝光装置的控制方法和产品制造方法。曝光装置包括：照明光学系统， 其包括改变来自光源的光的波段的多个光学元件， 并且被构造为用波段已被所述多个光学元件之一改变的光对被照射表面进行照射；以及控制单元， 其被构造为使用跟照度...
    2026-02-06
  • 一种使用灰度曝光制作通孔的实验方法
    一种使用灰度曝光制作通孔的实验方法_绍芯实验室_202510849806.6
    本申请涉及一种使用灰度曝光制作通孔的实验方法， 旨在通过光刻与刻蚀过程的协同设计， 实现具有特定倾角和深宽比的通孔结构。所述方法包括：确定通孔角度与深宽比、选择刻蚀条件、基于刻蚀速率选择比设计灰度掩模结构、实施灰度曝光获得掩模图形、刻蚀、去...
    2026-02-06
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