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一种金属双极板涂层的制备方法及金属双极板
本申请实施例公开了一种金属双极板涂层的制备方法及金属双极板,所述方法包括:提供金属双极板;对金属双极板进行磁控溅射离子沉积,得到具有磁控溅射离子沉积层的金属双极板;对具有磁控溅射离子沉积层的金属双极板依次进行磁控溅射离子沉积、电弧离子沉积,...
一种用于抗硬质颗粒环境的陶瓷表面复合涂层及其制备方法
本发明公开了一种用于抗硬质颗粒环境的陶瓷表面复合涂层,涉及密封材料技术领域,所述复合涂层包括以乙炔为碳源在基体上沉积的类金刚石底层和以甲烷为碳源在类金刚石底层上沉积的类金刚石顶层,类金刚石底层与类金刚石顶层的厚度比为0.3~3 : 1。本发...
基于塑胶工件表面采用PVD技术沉积GLC薄膜之方法
本发明提供一种基于塑胶工件表面采用PVD技术沉积GLC薄膜的方法及对应的塑胶工件,该方法包括:步骤S1为超声波清洗和烘烤塑胶工件;步骤S2为多弧离子镀磁控溅射镀膜设备对铬靶、钨靶和石墨靶洗靶;步骤S3为放入塑胶工件抽真空,通入氩气开启铬靶,...
一种非晶调控高性能无机高阻隔涂层及其制备方法
本发明属于无机薄膜材料领域,具体涉及一种非晶调控高性能无机高阻隔涂层及其制备方法。本发明在室温下采用磁控溅射技术,在PET等柔性基体上依次沉积Al2O3/ZnO/Al2O3三层结构,并在各层沉积过程中施加适宜偏置电压以提高薄膜致密度并形成“...
一种锡掺杂非晶氧化镓薄膜及其制备方法
本发明涉及金属氧化物薄膜制备技术领域,尤其涉及一种锡掺杂非晶氧化镓薄膜及其制备方法。包括:将纳米级SnO2粉末与普通SnO2粉末混匀,加入至红外陶瓷模具中压制成预烧制靶块,再在氧气气氛下烧结、冷却,得到SnO2掺杂物陶瓷靶材;将清洗后的衬底...
耐久超疏水钛合金表面及其制备方法
本发明涉及一种耐久超疏水钛合金表面及其制备方法,属于超疏水材料技术领域。耐久超疏水钛合金表面的制备方法包括以下步骤:对钛合金基体表面进行预处理,形成高活性多位点的微纳米粗糙结构;将低表面能物质、预处理后的钛合金基体放置在密闭空间,加热蒸发低...
一种金属薄膜沉积方法及金属薄膜
本发明涉及量子芯片制造技术领域,尤其涉及一种金属薄膜沉积方法及产物。包括:包括:S1、提供衬底;S2、对所述衬底依次进行金属沉积处理和熟化处理,在所述衬底表面获得目标厚度的金属薄膜。本发明解决了目前传统的电子束蒸镀法沉积方法制备金属薄膜时结...
一种改善不同Ni基合金涂层沉淀相的热处理方法
本发明公开了一种改善不同Ni基合金涂层沉淀相的热处理方法,属于高温合金材料技术领域。本发明可有效调控沉淀相的析出与固溶行为,通过调节Ru元素含量和控制热处理温度及时间,显著抑制高温热暴露环境下合金中脆性沉淀相的形成,延缓组织演化进程,提升合...
一种在聚合物表面通过磁控溅射技术沉积装饰性薄膜的方法
本发明涉及汽车内饰件装饰技术领域,具体涉及一种在聚合物表面通过磁控溅射技术沉积装饰性薄膜的方法,包括以下步骤:S1,对聚合物材料进行预处理,清洗;S2,在聚合物材料表面磁控溅射Cr膜;S3,待步骤S2中的Cr膜溅射完成后,溅射CrOx薄膜;...
复合集流体的制备方法、锂离子电池、用电装置
本申请涉及锂电池复合集流体技术领域,特别是涉及一种复合集流体的制备方法、锂离子电池、用电装置,制备方法包括:提供聚合物基膜;在聚合物基膜的上表面形成第一集流层,制备第一中间件;对第一中间件中的聚合物基膜进行造孔,形成仅贯通聚合物基膜的通孔,...
一种电弧等离子体低温制备含AlOx的硬质涂层工艺
本发明公开了一种电弧等离子体低温制备含AlOx的硬质涂层工艺,涉及高温合金加工领域。该涂层包含Ti、Al、N、O四种元素,是一种TiAlN/AlOx/TiAlN复合涂层,制备工艺主要包括以下步骤:基体表面Ar离子刻蚀清洗;开启TiAl靶并通...
一种新型热电偶蒸发PVD真空腔
本申请涉及真空蒸镀技术领域,公开了一种新型热电偶蒸发PVD真空腔,包括罐体下部和罐体上部。罐体下部底壁装有放置工件的工件放置架,罐体上部通过铰链与下部连接,并利用塔扣锁实现密封固定。罐体上部内壁装有金属靶材和可旋转的第一永磁体,整个腔体内壁...
双主辊卷绕真空镀膜机
本发明公开了双主辊卷绕真空镀膜机,涉及真空镀膜技术领域,具体为双主辊卷绕真空镀膜机,包括防护箱体,所述防护箱体的内部固定安装有两个喷射板,所述防护箱体的前侧端转动安装有两个挡板门,所述防护箱体的上端部滑动安装有抽真空器,所述防护箱体的内部转...
溅射靶、涂覆系统及涂覆方法
本发明涉及溅射靶、涂覆系统及其涂覆方法。溅射靶(10)包括带有靶板(14)的基部(12),靶板固定在基部上并且由第一溅射材料制成,靶板具有表面(16)和形成在该表面中的多个凹部(18)。在凹部(18)中布置有多个插入件(20)。插入件(20...
一种PZT-MEMS加工用辅助设备
本申请涉及一种PZT‑MEMS加工用辅助设备,涉及溅射台技术领域,其包括腔体,所述腔体的内部转动设置有旋转架,所述旋转架的转动轴线竖直,所述腔体上设置有驱动机构,所述驱动机构用于驱使旋转架转动;所述旋转架的顶部转动设置有翻转环,所述翻转环的...
溅射靶材和隔离环
公开了溅射靶材和隔离环。所述溅射靶材包括:第一表面,所述第一表面被配置为选择性地接合到PVD真空室上的密封环,其中所述第一表面没有任何凹槽、通风槽和扇形槽,并且配置为用平坦表面接触所述密封环。所述隔离环包括,第一表面和台阶部分。当安装在PV...
一种高透明导电膜的制备工艺
本申请涉及导电膜材料加工领域,具体公开了一种高透明导电膜的制备工艺,包括如下步骤:S1、将氧化铝和氧化锌混合,得到混粉料,经研磨后于烧结成AZO靶材;将三氧化二锑和氧化锡混合,得到混合料,经球墨处理后烧结成ATO靶材;S2、将AZO靶材、A...
一种服役于载流摩擦的二硒化铌润滑薄膜的制备方法
本发明涉及一种服役于载流摩擦的二硒化铌润滑薄膜的制备方法,该二硒化铌润滑薄膜采用射频磁控溅射法制备。溅射气体为氩气,溅射靶材为二硒化铌,通过改变氩气流量和基底负偏压制备出结构致密、具有良好机械性能、电学性能和润滑性能的二硒化铌薄膜,在大气环...
用于装配后修调的微半球谐振子金属化方法
本发明涉及微机电系统制造技术领域,具体涉及一种用于装配后修调的微半球谐振子金属化方法,包括:建立微半球谐振子结构模型,进行仿真并计算谐振子的模态参数;采用有限元软件计算修调宽度和修调深度对微半球谐振子模型频率裂解的影响规律,得到修调质量与频...
一种适用于临氢工况的高性能耐磨涂层及其制备方法
本发明涉及机械关键零部件表面防护技术领域,公开了一种适用于临氢工况的高性能耐磨涂层及其制备方法。方法包括:1)不锈钢基体表面清洗;2)炉腔内一定真空度下进行反溅射等离子清洗;3)在Ar气气氛中,对TiNbCrZrCu拼接靶材进行预溅射;Ti...
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