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一种等离子喷涂高熵合金涂层的制备方法和改善涂层抗氧化性能的方法
本发明公开了一种等离子喷涂高熵合金涂层的制备方法和改善涂层抗氧化性能的方法,属于表面工程技术领域。本发明采用由Al、Co、Cr、Fe和Ni五种元素组成的高熵合金粉末为喂料,利用真空等离子喷涂技术制备高熵合金涂层,从而获得了致密无孔隙的涂层;...
渗碳热处理防渗保护辅具及方法
本发明公开了一种渗碳热处理防渗保护辅具,包括包裹件和压紧件,所述包裹件包裹在齿坯轮毂面两侧并通过压紧件压紧,采用包裹方式进行物理隔离;所述包裹件包括均呈圆锥形的前封板和后封板,前封板和后封板对称设置在齿坯轮毂面两侧,前封板和后封板通过压紧件...
一种防渗剂防滴漏注入方法
本发明公开了一种防渗剂防滴漏注入方法,包括以下步骤:对零件和防滴漏钢帽进行预处理,匹配合适尺寸的防滴漏钢帽;将防滴漏钢帽套设在零件外圆,直至完全贴合,确保防滴漏钢帽完全覆盖孔口及无松动;使用专用针筒吸取防渗剂,将针筒插入防滴漏帽的注剂开口至...
一种高氮不锈钢轴承的热处理工艺
本发明涉及热处理技术领域,提出了一种高氮不锈钢轴承的热处理工艺,包括以下步骤:将不锈钢轴承进行渗氮、冷却、热处理;渗氮的温度为600~620℃,时间为2~3h;冷却时,包括三个阶段,第一阶段,先以10~15℃/h的速率冷却至530~550℃...
一种锆合金表面可控等离子渗氢方法及渗氢件
本发明属于锆合金材料技术领域,涉及一种锆合金表面可控等离子渗氢方法及渗氢件,渗氢方法包括:在真空腔体内通入氢氩混合气并调节至设定氢分压,升温后在样品表面施加脉冲负电偏压产生等离子体,使氢离子在电场作用下加速向阴极工件移动从而高速渗入材料;通...
一种镍合金表面硬化层的制备方法
本申请公开了一种镍合金表面硬化层的制备方法。包括以镍合金为基材,首先对基材依次进行清洗、干燥处理后,再进行超声滚压处理;随后将超声滚压处理后的基材用渗硼剂覆盖,在600~800℃温度下加热渗硼并保温3~6h;接着在纯度大于99.5%的惰性气...
一种传动齿轮表面梯度氮化钛复合涂层的制备工艺
本发明属于氮化钛复合涂层设备技术领域,主要涉及一种适用于钢制传动齿轮表面的梯度氮化钛复合涂层制备工艺;本申请方法通过采用TiO₂、Ti粉、B₄C、炭黑等为主原料,结合分段热处理实现TiN、TiC、TiB₂三相陶瓷在基体表面协同构建强化层;由...
线性渐变滤光片的多光谱镀膜方法及线性渐变滤光片
本发明提供了一种线性渐变滤光片的多光谱镀膜方法及线性渐变滤光片,所述方法包括:S1、将光学玻璃放入清洁剂中进行超声波清洗,得到待镀膜的线性渐变滤光片的衬底;S2、将衬底放入射频磁控仪的反应腔,关闭反应腔,并设置多光谱镀膜的环境参数;S3、在...
沉积掩模
提供了沉积掩模。所述沉积掩模包括基底和单元图案,单元图案设置在基底中的多个单元开口中的每个单元开口中。单元图案由无机膜形成,并且包括具有多个开口的掩模膜图案。虚设图案围绕掩模膜图案,并且虚设图案的宽度是不规则的。沉积设备包括沉积掩模。
沉积掩模和电子装置
公开了一种沉积掩模和一种电子装置。所述沉积掩模包括:掩模基底,包括单元区域和单元外围区域;掩模膜,定位在掩模基底的单元区域中,其中,像素开口限定为穿过掩模膜,并且掩模膜包括围绕像素开口的掩模遮蔽件;以及掩模框架,定位在掩模基底的单元外围区域...
基于水氧敏感二维材料的电极制备方法、系统、设备
本申请提供了一种基于水氧敏感二维材料的电极制备方法、系统、设备,属于二维材料电极制备及镀膜加工技术领域,通过在衬底基片上设置水氧敏感二维材料,制备云母掩模版,并将云母掩模版固定于第一掩模版支架,云母掩模版上具有第一电极槽,将第一掩模版支架固...
一种适用于钛及钛合金加工的耐磨刀具及其制备方法
本发明公开了一种一种适用于钛及钛合金加工的耐磨刀具及其制备方法,涉及表面涂层技术领域。耐磨刀具涂层由内向外依次是Ti层、纳米多层结构TiB2/ZrB2层和ZrB2面层,Ti层由蒸发镀或磁控溅射方法沉积而成,纳米多层结构TiB2/ZrB2层和...
一种耐高温液态铅铋腐蚀及冲刷的高熵合金涂层及其制备方法和应用
本发明公开了一种耐高温液态铅铋腐蚀及冲刷的高熵合金涂层及其制备方法和应用,涉及涂层制备技术领域,高熵合金涂层为FeCrAlNb高熵合金涂层,涂层中各元素含量的总和为100at.%。利用单靶射频磁控溅射开展涂层的制备,设置其自转速度为10r/...
基于嵌套结构的薄壁锥形银纳米阵列及其制备方法、应用
本发明适用于金属点阵列技术领域,提供了基于嵌套结构的薄壁锥形银纳米阵列及其制备方法、应用,包括以下步骤:铝片的预处理;纳米压印并进行阳极氧化;嵌套阳极氧化铝结构磷酸溶液刻蚀;嵌套阳极氧化铝模板制备;贵金属点阵列的制备。本发明为克服目前贵金属...
可实现Cu原位回流及再沉积的PVD设备及其控制方法
本发明公开了一种可实现Cu原位回流及再沉积的PVD设备及其控制方法,PVD设备包括第一中转腔和第二中转腔,第一中转腔的两侧分别依次布置集成腔、预清洗腔、再处理工艺腔和原位回流复合处理腔,第二中转腔的四周设置有若干工艺腔;所述集成腔中设置有第...
电容器金属化薄膜多源协同蒸镀方法及其金属化薄膜
本发明公开了电容器金属化薄膜多源协同蒸镀方法及其金属化薄膜,包括以下步骤:S1、多源蒸发,采用多个蒸发源,各蒸发源通过独立的加热控制系统进行温度调控,使不同金属材料在各自的最佳蒸发温度下稳定蒸发;S2、协同控制,在蒸镀腔室内设置多个高精度的...
一种用于多弧离子镀的脉冲电源
本发明涉及真空镀膜领域,公开了一种用于多弧离子镀的脉冲电源,包括直流电源、直流电源配合功率开关器件和小功率脉冲电源,多个所述小功率脉冲电源并联组成模块化多弧离子镀脉冲等离子电源,所述小功率脉冲电源采用直流电源配合功率开关器件斩波实现或者直接...
一种铜镍电阻抗氧化层溅射镀膜压力稳定方法及系统
本发明涉及溅射镀膜技术领域,提出了一种铜镍电阻抗氧化层溅射镀膜压力稳定方法及系统,包括:在抗氧化层溅射镀膜过程中采集真空度和温度;预设的真空度标准范围,确定采集时刻的真空度特征值、异常变化趋势差异、调整必要性,根据调整必要性确定调整采集时刻...
钽膜制备方法、系统、芯片及设备
本申请公开了一种钽膜制备方法、系统、芯片及设备,涉及芯片技术领域。所述方法包括:将钽靶材和衬底与直流源的两极相连;在处于室温的真空环境下,将直流源的功率调整至第一功率范围之内,以使得第一气体产生辉光放电现象,第一气体因辉光放电现象产生的等离...
一种新型镍基复合纳米晶涂层及其制备方法
本发明提供一种新型镍基复合纳米晶涂层及其制备方法,复合纳米晶涂层包括Cr过渡层和镍基涂层,且所述Cr过渡层和所述镍基涂层均通过磁控溅射的方式制备;Cr过渡层和沉积于所述Cr过渡层表面的所述镍基涂层构成一个沉积周期,且基体的表面依次叠置有多个...
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