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最新专利技术
  • 沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置
    沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置_三星显示有限公司_202510737648.5
    本公开涉及沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置。所述沉积掩模包括：掩模框架，限定单位开口；以及隔膜，包括设置在所述掩模框架上的硅层和设置在所述硅层上的无机层。所述隔膜包括设置在所述单位开口上方的单位区域，并且所述单位区域具有多个像素开口。...
    2026-02-12
  • 一种涉水紧固件耐腐蚀涂层及其制备方法
    一种涉水紧固件耐腐蚀涂层及其制备方法_中国长江电力股份有限公司_202511297442.1
    本发明公开了一种涉水紧固件耐腐蚀涂层及其制备方法，该涂层为多层结构，包括设于基体表面的打底层，打底层上面设有过渡层，过渡层上面设有功能层；其中打底层选用与基体元素相容性较好的金属单质与其氮化物，过渡层选用致密性较好的多层TiAlN或多层Ti...
    2026-02-12
  • 一种耐湿度超低磨损类金刚石碳基摩擦副及应用
    一种耐湿度超低磨损类金刚石碳基摩擦副及应用_清华大学_202511350539.4
    本申请涉及一种耐湿度超低磨损类金刚石碳基摩擦副及应用。所述摩擦副的两接触表面分别为超硬四面体非晶碳膜和类金刚石碳基薄膜。通过优选具有含氢(C‑H)或高sp3(C‑C)无氢类金刚石碳基薄膜与超硬四面体非晶碳膜进行配副，在滑动接触表面形成润滑相...
    2026-02-12
  • 一种小应力滞后和大可恢复应变的TiNi/Ag多层膜及其制备方法
    一种小应力滞后和大可恢复应变的TiNi/Ag多层膜及其制备方法_东北林业大学_202511441847.8
    本发明属于膜层材料技术领域，提供了一种小应力滞后和大可恢复应变的TiNi/Ag多层膜及其制备方法。本发明的TiNi/Ag多层膜为周期设置的膜层单元；所述膜层单元为依次层叠设置的TiNi层(钛的含量为48~52.5at.%)和Ag层；所述Ti...
    2026-02-12
  • 一种高韧性涂层及其制造方法
    一种高韧性涂层及其制造方法_上海核工程研究设计院股份有限公司_202511727643.0
    一种高韧性涂层及其制造方法，属于涂层领域。该高韧性涂层为纯Cr层，包括基体层和改性区，其中基体层平均晶粒尺寸为0.1μm‑0.8μm，改性区内的平均晶粒尺寸为1μm‑2μm，改性区平均直径为5μm‑15μm，间隔0.5mm‑1.5mm。该高...
    2026-02-12
  • 蒸镀组件及其制备方法
    蒸镀组件及其制备方法_京东方科技集团股份有限公司_202410809030.0
    本公开至少一实施例提供一种蒸镀组件及其制备方法，所述蒸镀组件包括：金属框架；架设在所述金属框架上的多个支撑掩膜板，其中，相邻的两个所述支撑掩膜板之间具有在第一方向上延伸的间隙；第一金属条，在所述第一方向上延伸以架设在所述金属框架上，且所述第...
    2026-02-12
  • 一种可快速更换蒸发舟的辅助装置
    一种可快速更换蒸发舟的辅助装置_湖北诺德复合新材料有限责任公司_202511292771.7
    本发明涉及真空蒸镀设备技术领域，且公开了一种可快速更换蒸发舟的辅助装置，包括底座和基座，还包括：电极分离机构，设置于基座上，用于驱动并推开正电极挡板，以在正负电极之间形成供蒸发舟装配的间隙；顶升定位机构，设置于底座上，用于将蒸发舟顶升并稳定...
    2026-02-12
  • 一种集成光电器件反射镜的电阻热蒸发精准镀膜设备
    一种集成光电器件反射镜的电阻热蒸发精准镀膜设备_江苏盛益光电有限责任公司_202511350856.6
    本发明涉及集成光电器件制造技术领域，具体是一种集成光电器件反射镜的电阻热蒸发精准镀膜设备，包括底座，所述底座的上表面固定连接有真空箱，所述真空箱的内部顶面转动连接有第一齿轮，本发明能够通过第一电机驱动齿轮传动，带动圆筒及防护桶转动，防护桶借...
    2026-02-12
  • 一种半导体基底反射镜的激光精准蒸镀装置
    一种半导体基底反射镜的激光精准蒸镀装置_江苏盛益光电有限责任公司_202511350858.5
    本发明涉及蒸镀技术领域，具体是一种半导体基底反射镜的激光精准蒸镀装置，包括抽真空箱，所述抽真空箱的内壁固定连接有第一隔热间板，所述抽真空箱的内壁固定连接有第二隔热间板，所述抽真空箱的内部底面固定连接有伺服电机，所述伺服电机的输出端固定连接有...
    2026-02-12
  • 一种精密金属掩膜板的缺陷检测修复方法和系统
    一种精密金属掩膜板的缺陷检测修复方法和系统_江苏高光半导体材料有限公司_202511398188.4
    本申请提供一种精密金属掩膜板的缺陷检测修复方法和系统。其中的缺陷检测修复方法包括配置至少一个缺陷检测修复单元；在缺陷检测修复单元中，配置协同工作的一个自动光学检测装置和至少两个激光修复装置；在同一个修复单元中，由自动光学检测装置执行如下步骤...
    2026-02-12
  • 一种离子束辅助的化合物薄膜低缺陷沉积装置
    一种离子束辅助的化合物薄膜低缺陷沉积装置_长沙元戎科技有限责任公司_202511714461.X
    本发明涉及镀膜装置技术领域，公开了一种离子束辅助的化合物薄膜低缺陷沉积装置，包括气相沉积炉本体，气相沉积炉本体的内部开设有真空腔，真空腔内腔的底部设置有安装座，安装座上对称设置有两组用于固定蒸发舟的固定机构；本发明通过两组固定机构、驱动机构...
    2026-02-12
  • 一种可调节蒸镀速率的镜片真空蒸镀头结构
    一种可调节蒸镀速率的镜片真空蒸镀头结构_江西华派光电科技有限公司_202511761156.6
    本发明涉及镜片真空蒸镀的技术领域，公开了一种可调节蒸镀速率的镜片真空蒸镀头结构，包括操作台，操作台内壁位于加热槽的下方开设有调节槽，加热槽内壁的边缘处等距离安装有多个加热环，加热槽的内壁穿插连接有金属挡块，金属挡块的底部固定设有接触轴，连接...
    2026-02-12
  • 一种多元热阻蒸发设备
    一种多元热阻蒸发设备_合肥致真精密设备有限公司_202511182939.9
    本发明公开了一种多元热阻蒸发设备，包括生长室以及设置于所述生长室上的抽真空装置，所述生长室连接有氧气源，所述生长室安装有样品台、电子枪、蒸发源；所述样品台包括基片安置盘，所述基片安置盘与所述生长室转动连接，所述基片安置盘上下分别设置有上加热...
    2026-02-12
  • 智能化真空离子镀膜装备
    智能化真空离子镀膜装备_苏州朗缪尔科技有限公司_202511134528.2
    本发明公开了智能化真空离子镀膜装备，其技术方案要点是：包括镀膜室，所述镀膜室的顶部安装有真空泵，所述镀膜室的一侧密封固定有门板，所述门板上开设有供机械臂伸入的槽口，所述门板上焊接固定有支撑梁，所述支撑梁内开设有凹槽，所述凹槽内滑动连接有两个...
    2026-02-12
  • 一种兼容各类衬底的IGO/IGZO晶体管薄膜制备方法
    一种兼容各类衬底的IGO/IGZO晶体管薄膜制备方法_广西大学_202510672219.4
    本发明属于半导体技术领域，涉及一种高性能的 IGO/IGZO晶体管薄膜的制备方法，包括如下步骤：准备100纳米厚的p ++ ‑Si/SiO2衬底材料，IGO靶材，IGZO靶材，用高真空磁控溅射方法先沉积一层特定比例超薄的IGO薄膜，接着沉积...
    2026-02-12
  • 一种基于曲面的微米级复合多层结构及其制备方法和应用
    一种基于曲面的微米级复合多层结构及其制备方法和应用_佛山大学_202511119760.9
    本发明属于曲面基微米复合结构制备技术领域，公开了一种基于曲面的微米级复合多层结构及其制备方法和应用，制备方法包括以下步骤：通过3D打印制备曲面基微米复合结构模板；通过磁控溅射向曲面基微米复合结构模板沉积形成导电金属层，然后通过电化学沉积向导...
    2026-02-12
  • 一种磁控溅射镀膜装置
    一种磁控溅射镀膜装置_晶拓科技(宁波)有限责任公司_202511136915.X
    本发明涉及磁控溅射技术领域，具体涉及为一种磁控溅射镀膜装置，包括底座，所述底座上方固定连接有镀膜仓，所述镀膜仓内表面固定安装有磁控靶，所述镀膜仓上方设置有盖板组件，所述盖板组件包括仓盖，所述仓盖底部固定连接有电动推杆，所述电动推杆与所述底座...
    2026-02-12
  • 一种镀膜装置及方法
    一种镀膜装置及方法_龙门实验室_202511139674.4
    本发明公开了一种镀膜装置及方法，旨在解决现有技术中膜厚均匀性差、颗粒吸附顽固、表面光洁度不足等问题。该装置包括基座、磁控溅射发生器、导向结构、旋转机构、超声机构及驱动机构。旋转机构驱动试管绕自身轴线旋转，超声机构通过变幅杆向试管施加轴向高频...
    2026-02-12
  • 一种非单调晶粒尺寸梯度复合涂层及其制备方法和应用
    一种非单调晶粒尺寸梯度复合涂层及其制备方法和应用_武汉理工大学_202511259876.2
    本发明涉及一种非单调晶粒尺寸梯度复合涂层及其制备方法和应用，包括在基底上从下往上依次设置的细晶层、粗晶层和过渡层，细晶层、粗晶层和过渡层中的晶粒均为柱状晶，且细晶层中的晶粒径向平均尺寸<100 nm，粗晶层中的晶粒径向平均尺寸为220～50...
    2026-02-12
  • 一种提高工作温度的陶瓷复合保护层及其制备方法和应用
    一种提高工作温度的陶瓷复合保护层及其制备方法和应用_天津大学_202511321192.0
    本发明属于电子信息元器件技术领域，公开了一种提高工作温度的陶瓷复合保护层及其制备方法和应用，首先采用磁控溅射技术将氮化硅薄膜沉积在薄膜温度传感器的敏感层表面，然后采用超声喷涂技术将氧化铝保护层沉积在氮化硅薄膜表面，形成氮化硅/氧化铝复合结构...
    2026-02-12
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