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  • 本发明涉及钙钛矿叠层太阳电池技术领域,针对现有钙钛矿/TOPCon双结太阳能电池效率受界面质量和复合功能层性能限制等问题,提供了一种钙钛矿晶硅串联两端叠层太阳能电池制备方法。运用密度泛函理论等计算方法模拟界面结合和能级对准,减少电子和载流子...
  • 本申请公开一种显示面板及显示装置,涉及显示技术领域,能够提升显示面板的一体黑效果。显示面板包括:衬底层;像素界定层,设置于衬底层的一侧,像素界定层包括第一像素界定层、第二像素界定层和第三像素界定层,第二像素界定层设置于第一像素界定层远离衬底...
  • 本申请涉及一种突触薄膜晶体管以及制备方法。本申请提供的突触薄膜晶体管为堆叠结构,自下而上依次包括:栅极、导电基底、介电层、N型半导体薄膜层、第一电极、第二电极以及P型半导体薄膜层,第一电极和第二电极间隔设置于N型半导体薄膜层的上面,P型半导...
  • 本发明涉及一种柔性突触类神经形态器件,包括柔性衬底、全面底栅层、介电层、设置在所述介电层上的源极层和漏极层,以及覆盖所述介电层并位于所述源极层和所述漏极层之间的碳纳米管沟道层;其中,所述介电层包括柔性聚合物基材层。将神经形态器件设计为全面底...
  • 本发明公开一种发光元件基板及其制造方法,所述发光元件基板包括一基板、多个粘着结构及多个发光元件。这些粘着结构设置于基板,各粘着结构包括彼此分离的两第一粘着件。各发光元件包括一发光主体、至少一接垫及两第一对角区域。两第一对角区域位于发光主体的...
  • 一种太阳能电池、太阳能电池的制备方法及光伏组件,其中太阳能电池包括:硅基底、隧穿层、第一半导体层、第二半导体层、电极;所述隧穿层设于硅基底的背面和/或正面;所述第一半导体层设于硅基底的一面,所述第一非金属化区域设有第一半导体子层,所述第一金...
  • 一种背接触电池、背接触电池的制备方法及光伏组件,其中背接触电池包括:硅基底、隧穿层、第一半导体层、第二半导体层、电极;所述隧穿层设于硅基底的背面;所述第一半导体层包括第一非金属化区域和第一金属化区域,所述第一非金属化区域设有第一半导体子层,...
  • 本发明公开了一种背接触电池及其制备方法,该制备方法包括:对硅片进行抛光;制备隧穿氧化硅层、本征多晶硅层、掩膜层;图案化开窗,形成N区图案、P区图案;清洗、制绒;沉积钝化层、本征非晶硅层、P型掺杂非晶硅层或P型掺杂微晶硅层、减反层、透明导电氧...
  • 本发明提供一种适用于深低温微系统的TVS器件及其制备方法,器件包括:第一衬底;第二衬底;缓冲层;外延层;两组沟槽,第一组沟槽位于外延层的中间位置,用于形成绝缘隔离区;第二组沟槽位于外延层的两端,其内填充掺杂第一导电类型杂质的金属导电体;外延...
  • 本发明提供一种集成无源器件结构及其制作方法,在薄膜电阻上形成阻挡层,在接触通孔的刻蚀过程中,利用阻挡层与介质层的高刻蚀选择比,以阻挡层作为刻蚀阻挡层,同步形成连接MIM电容器的第一接触通孔和连接薄膜电阻的第二接触通孔,从而实现不同高度上MI...
  • 本发明提供一种侧墙结构及其形成方法、半导体器件,所述侧墙结构的形成方法包括:提供衬底,所述衬底上设有栅极结构;依次形成第一侧墙材料层、第二侧墙材料层及第三侧墙材料层顺形地覆盖所述衬底的表面及所述栅极结构的外壁,并在所述栅极结构上方形成凸起结...
  • 本发明公开了一种介电层为高K金属氧化物的薄膜晶体管及其制备方法,所述薄膜晶体管依次包括第一功能层、第二功能层、高K金属氧化物介电层、金属氧化物半导体沟道层和顶电极,当衬底为高掺杂单晶硅时,所述第一功能层为第一栅电极,所述第二功能层为高掺杂单...
  • 本发明提供了一种控制栅和浮栅及其制作方法,属于半导体领域。该控制栅和浮栅的制作方法包括提供一半导体基底;提供第一掩模版,所述第一掩模版上设置有存储区栅极图形和虚拟图形,所述第二光刻胶图形用于增加外围逻辑区图形密度;以所述第一光刻胶图形为掩膜...
  • 本申请涉及一种高质量铟镓锌氧薄膜晶体管及其制备方法,制备方法包括以下步骤:S1、在衬底上采用射频磁控溅射法生长介电层;S2、在射频磁控溅射设备中,将表面生长有介电层的所述衬底加热至200~250℃,在所述介电层上磁控溅射生长半导体层铟镓锌氧...
  • 本发明提供了一种VDMOS器件的形成方法,包括:提供衬底,衬底包括相对的正面和背面;在衬底的正面形成外延层;在部分厚度的外延层内形成凹槽,凹槽的底部与衬底的正面具有一定的距离;在凹槽内依次形成栅氧化层和栅多晶硅,栅氧化层覆盖凹槽的内壁,栅多...
  • 本发明公开了一种具有超结‑AlGaN异质结复合栅增强型HEMT及其制备方法,形成的器件结构包括从下至上依次设置的衬底层、GaN缓冲层、GaN沟道层、AlGaN势垒层;设置在AlGaN势垒层上表面中间栅区域对应位置处的p‑GaN层,其表面含有...
  • 本发明公开一种快软恢复二极管局域铂掺杂方法,涉及半导体制造技术领域。该快软恢复二极管局域铂掺杂方法,是利用氢离子和氦离子注入形成预制原子空位缺陷,诱导铂原子聚集停留在预制空位缺陷区域,实现铂原子局域掺杂的工艺方法,有机结合了传统全域铂掺杂寿...
  • 本发明提供了一种金属硅化物阻挡层的形成方法及半导体器件,属于半导体领域。该金属硅化物阻挡层的形成方法包括提供一半导体衬底。形成金属硅化物阻挡层。对所述光刻胶层进行曝光、显影处理,形成窗口,所述窗口暴露出所述第一栅极结构及其两侧的源漏区和第二...
  • 本发明提供了一种NORD闪存的版图结构,包括:衬底,衬底包括邻接的阵列区和端头区;位于阵列区的衬底的表面的多行间隔的字线、多行间隔的第一控制线和多行间隔的第二控制线,每行字线的一侧为第一控制线,另一侧为第二控制线;位于端头区的衬底的表面的逻...
  • 本发明公开了一种多层线路板压合设备的定位机构,包括开设在压台上表面的定位槽;所述定位槽中设置有透明耐压板,所述透明耐压板的下方,所述压台内部嵌入式的设置有光学定位传感器,所述光学定位传感器朝向透明耐压板设置;所述光学定位传感器、透明耐压板均...
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