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最新专利技术
  • 模型的建立方法及系统、版图修正方法、设备及存储介质
    模型的建立方法及系统、版图修正方法、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410418609.4
    一种模型的建立方法及系统、版图修正方法、设备及存储介质， 建立方法包括：提供多个测试图形；对测试图形进行实际曝光， 获得实际曝光图形；获取测试图形在实际曝光过程中的光学特性参数；沿实际曝光图形进行刻蚀， 获得实际刻蚀图形；根据实际刻蚀图形和...
    2026-01-22
  • 一种真空吸盘、涂胶显影设备及其控制方法
    一种真空吸盘、涂胶显影设备及其控制方法_华为技术有限公司_202410404788.6
    本申请实施例公开了一种真空吸盘、涂胶显影设备及其控制方法， 涉及半导体设备技术领域， 减小了现有后道制程中显影液对晶背边缘产生损伤的问题。该真空吸盘具有第一盘面。真空吸盘内形成有真空通道和喷气通道， 真空通道用于与抽真空设备连通。并且， 真...
    2026-01-22
  • 套刻偏差测量结构及方法
    套刻偏差测量结构及方法_江苏卓胜微电子股份有限公司_202410391681.2
    本申请公开了一种套刻偏差测量结构及方法， 属于半导体技术领域。该套刻偏差测量结构包括：衬底， 包括有源区， 所述有源区包括沟道区， 以及位于所述沟道区沿第一方向相对两侧的源漏极区；栅极结构， 位于所述沟道区上；电极结构， 位于所述衬底上且沿...
    2026-01-22
  • 光刻胶高速旋涂均匀性优化方法
    光刻胶高速旋涂均匀性优化方法_华虹半导体制造(无锡)有限公司_202510809921.0
    本发明提供一种光刻胶高速旋涂均匀性优化方法， 包括：向旋涂腔体内通入氮气， 以在旋涂腔体内形成氮气环境；在氮气环境下， 对涂覆有光刻胶的晶圆进行旋涂， 并控制旋涂的转速， 使得基于氮气环境计算的雷诺数低于预设的湍流临界雷诺数；以及在旋涂过程...
    2026-01-22
  • 薄膜形成装置及包括其的基板处理装置
    薄膜形成装置及包括其的基板处理装置_细美事有限公司_202510283692.3
    本发明公开了一种薄膜形成装置及包括其的基板处理装置。基板处理装置可以包括第一处理部和第二处理部。所述第一处理部可以包括薄膜形成部和厚度调整部。所述薄膜形成部可以在所述基板的上表面形成具有均匀的厚度的薄膜， 并且所述厚度调整部可以调整所述薄膜...
    2026-01-22
  • 一种光致产酸剂的制备方法
    一种光致产酸剂的制备方法_湖北乐仕电子材料有限公司_202510869985.X
    本发明涉及一种光致产酸剂的制备方法， 属于光致产酸剂制备技术领域， 包括包括以下步骤：S1、中间体合成；S2、光致产酸剂混合；S3、光致产酸剂反应；S4、光致产酸剂分离；S5、光致产酸剂二次反应；S6、光致产酸剂纯化。该光致产酸剂的制备方法...
    2026-01-22
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510406146.4
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中， 感度及分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物， 以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物， 含有：下式(1)表示的超原子价...
    2026-01-22
  • 抗蚀剂图案形成方法
    抗蚀剂图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510398331.3
    本发明涉及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供抗蚀剂图案形成方法；使用非化学增幅抗蚀剂组成物， 将曝光后的抗蚀剂膜用干蚀刻进行显影形成正型或负型的抗蚀剂图案， 该非化学增幅抗蚀剂组成物在使用高能射线的光学光刻中， 感度及极限分辨率优良。一种抗蚀剂...
    2026-01-22
  • 抗蚀剂图案形成方法
    抗蚀剂图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510397817.5
    本发明涉及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供抗蚀剂图案形成方法；使用非化学增幅抗蚀剂组成物， 将曝光后的抗蚀剂膜利用干蚀刻进行显影来形成正型或负型的抗蚀剂图案， 该非化学增幅抗蚀剂组成物在使用高能射线的光学光刻中， 感度及极限分辨率优良。一种抗...
    2026-01-22
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510397812.2
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中， 感度及分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物， 以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物， 含有：下式(1)表示的超原子价...
    2026-01-22
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510388329.8
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中， 感度、分辨度及LWR优良、稳定且操作也容易的抗蚀剂组成物， 以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物， 含有由金属原子...
    2026-01-22
  • 一种感光干膜及制备方法
    一种感光干膜及制备方法_江苏双星彩塑新材料股份有限公司_202411729274.4
    本发明公开了一种感光干膜及制备方法， 所述感光干膜， 由PET基膜、中间的感光层以及覆盖在感光层的外侧的保护膜组成， 其中， 所述感光层由如下重量份的原料制备而成：环氧丙烯酸酯树脂40‑50重量份， 纳米粒子复合光引发剂5‑8重量份， 三羟...
    2026-01-22
  • 一种光刻胶组合物
    一种光刻胶组合物_万华化学集团股份有限公司_202410383920.X
    本发明公开了一种光刻胶组合物， 包括对聚合物树脂、光致产酸剂、酸扩散抑制剂、苄基溴化铵化合物、表面活性剂和溶剂本发明的光刻胶组合物可以降低光刻胶在光刻过程中刻蚀部分边缘的粗糙度， 进而提高光刻胶的刻蚀质量。
    2026-01-22
  • 量子点直接光刻的加工方法及其应用
    量子点直接光刻的加工方法及其应用_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202511160766.0
    本发明公开了一种量子点直接光刻的加工方法及其应用。所述加工方法包括：提供量子点母液， 涂覆并挥发溶剂形成光刻量子点湿膜；进行图案化光照得到光刻薄膜；以显影液进行清洗显影， 得到图案化量子点层；其中， 量子点母液中含有量子点和交联剂， 所述交...
    2026-01-22
  • 一种气压式纳米压印设备的自动脱模装置
    一种气压式纳米压印设备的自动脱模装置_璞璘科技(杭州)有限公司_202511122473.3
    本发明涉及纳米压印光刻技术领域， 具体是一种气压式纳米压印设备的自动脱模装置， 包括夹持机构、直线升降模块、基底吸盘、翻转轴承及脱模控制机构。夹持机构通过真空吸附固定模板；直线升降模块控制模板与基底的精密间距， 翻转轴承提供0°‑15°倾角...
    2026-01-22
  • 一种光罩最适拆膜温度计算及粘合剂清洗方法
    一种光罩最适拆膜温度计算及粘合剂清洗方法_青岛方益技术有限公司_202511083406.5
    本申请提供一种光罩最适拆膜温度计算及粘合剂清洗方法， 定义光罩与保护膜之间的粘合剂的剥离力在预设温度下与拆膜温度呈线性关系， 预设温度介于20℃～200℃， 常温对应的剥离力为初始剥离力， 当剥离力为初始剥离力的2/3时， 得到拆膜温度为最...
    2026-01-22
  • 基于导向自组装的光罩制造方法及使用该方法制造的光罩
    基于导向自组装的光罩制造方法及使用该方法制造的光罩_张江国家实验室_202410418067.0
    本公开提供一种基于导向自组装的光罩制造方法， 能够以高生产通量制备出高图形质量的先进节点高端光罩。包括：第一及第二光刻图形形成步骤；无规共聚物填充步骤， 涂布无规共聚物以填充第二光刻图形的间隙， 并进行第一退火处理， 使得无规共聚物的上端面...
    2026-01-22
  • 一种辅助图形的添加方法和相关装置
    一种辅助图形的添加方法和相关装置_锐立平芯微电子(广州)有限责任公司_202511189742.8
    本申请公开了一种辅助图形的添加方法和相关装置， 涉及半导体光刻技术领域。该添加方法包括：对原始设计图进行修正， 得到目标设计图；判断目标设计图中的空间相邻的两个图形之间的空间间隔是否大于预设的间隔阈值；若确定该空间间隔小于或等于间隔阈值， ...
    2026-01-22
  • 一种测试图形的选取方法、模型生成方法及装置
    一种测试图形的选取方法、模型生成方法及装置_浙江创芯集成电路有限公司_202510876555.0
    本发明实施例提供了一种测试图形的选取方法、模型生成方法及装置， 包括：获取测试版图；测试版图包括：至少一个候选测试图形；每个候选测试图形基于标签和预设检测框筛选后得到；标签用于标记预期对芯片进行测试的图形， 预设检测框用于提供检测空间， 以...
    2026-01-22
  • 投影屏幕及投影系统
    投影屏幕及投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410410731.7
    本发明提供一种投影屏幕及投影系统， 投影屏幕包括显示膜片， 显示膜片包括膜片本体， 膜片本体具有投影受光面和抵接部， 抵接部位于投影受光面的一端；卷筒单元， 卷筒单元包括卷筒本体和补偿部， 至少部分膜片本体卷绕于卷筒本体的周侧， 补偿部连接...
    2026-01-22
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