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  • 本发明公开了一种改善等径生长速率的单晶硅棒拉制方法,涉及硅棒制备技术领域,包括:手动控制模式下开启参数栏显示功能,核对相关参数,结合生长记录确定坩埚下限位,计算得到临界埚位和放置埚位,设定参数,调整坩埚位置且确保液面不接触导流筒,观察捕捉是...
  • 本申请实施例提供一种拉晶加热功率调控方法、装置、设备及存储介质,属于单晶硅材料生产技术领域。该方法包括:获取实时拉晶参数,实时拉晶参数包括实时剩料重量、实时晶体拉速;基于实时剩料重量、实时晶体拉速以及预先构建的映射表,确定当前加热补偿功率,...
  • 本申请公开了一种重掺<111>晶向硅晶体放肩方法、装置、设备及介质,方法包括:获取加热器初始功率,在预设时间间隔内控制加热器按照放肩参数预设表中的功率变化量变化功率;放肩参数预设表为预先得到的放肩成活率不小于预设成活率时的放肩参数表;根据实...
  • 本发明提供一种低成本生产单个大尺寸圆形单晶工艺,属于半导体加工技术领域。包括以下步骤:步骤一,选取圆形坩埚,在圆形坩埚内表面制备一层涂层,烘干后待用;步骤二,在圆形坩埚中心铺设一块圆形籽晶;步骤三,在圆形坩埚内壁与圆形籽晶之间放置陶瓷石英环...
  • 本发明公开了一种双激光复合改质实现大尺寸金刚石的高质量剥离方法,包括以下步骤:将样品放置固定在三维移动平台,样品上表面为(100)晶面;采用超快激光发生器产生的激光透过样品上表面聚焦到样品内部,然后采用超快激光发生器产生的激光对样品进行第一...
  • 本申请公开了一种铂、铑、钯单晶粉末的制备方法,属于金属粉体材料制备领域,其步骤包括溶碳、缓冷结晶、单晶粉体制备、除碳等。本操作方法可批量制备铂、铑、钯等贵金属的微米、亚毫米级单晶粉末。
  • 本申请属于碳化硅外延生长技术领域,公开了一种P型碳化硅外延片的掺杂浓度均匀性提高方法,该方法包括:向反应室通入预设流量的氢气后,将碳化硅衬底放置于反应室中,保持氢气的输入流量不变,分别将反应室的温度和压力调节至预设的刻蚀温度和预设的刻蚀压力...
  • 本发明公开了一种硅外延生长用的分区温控石英反应腔,涉及石英反应腔技术领域,包括腔室,所述腔室顶部设置有供气座,所述腔室底部设置有排气口,还包括:载具,所述载具包括:基座,所述基座置于腔室内部,所述基座上表面边缘设置有围挡;多个第一挡环,固定...
  • 本发明涉及单晶金刚石制备技术领域,公开了一种用于MPCVD设备的偏压基台结构,包括腔体,所述腔体内部设置有陶瓷套筒,所述腔体外侧装有外接电源的KF单芯电极,所述腔体内壁顶部设置有基台环,基台垫板,所述基台垫板上表面设置有生长衬底,铜台,所述...
  • 本发明公开了一种基于Mxene衬底可控生长氧化镓薄膜的方法,包括以下步骤:选择Mxene作为衬底;加热衬底至一定温度,并在一定生长压强下、惰性气氛中进行溅射沉积,在Mxene衬底表面外延生长氧化镓薄膜。本发明首次采用射频磁控溅射法在Mxen...
  • 本发明属于单晶硅制造技术领域,具体涉及一种液口距控制方法,将石英坩埚划依次沿着高度方向水平划分为若干区域,并获得每个区域内溶液的高度Hi和重量Wi,设定变形量并结合其他参数计算基准Ratio值,根据单位时间内平均籽晶生长速度计算生长的单晶重...
  • 本发明属于半导体材料制备技术领域,具体涉及一种利用调整后的8寸拉晶系统拉制12寸硅单晶的方法,通过调整热屏尺寸、角度,扩大热场空间,上移加热器位置以及优化保温材设置,有助于优化热场内的温度分布和热传递效率,为拉制12寸硅单晶创造更适宜的热场...
  • 本发明提供一种降低重掺单晶氧化物堆积的方法,属于重掺拉晶控制方法技术领域,在整个拉晶过程中,所述第二排出部始终开启,而在掺杂时,再开启所述吹送部及所述第一排出部,所述吹送部产生向下的多股进气气流,且吹送部产生的多股气流与炉内较大的氩气量产生...
  • 本发明公开了直拉单晶制造领域的一种直拉单晶炉加料系统,旨在解决连续直拉单晶时连续加料引起的双层坩埚内外温差的技术问题。所述系统包括炉体以及位于炉体外部的硅料加料装置,硅料加料装置通过下料管道贯穿延伸至炉体内部;炉体内部安装有双层坩埚,双层坩...
  • 本发明提供一种重掺单晶的放肩方法,属于重掺拉晶控制方法技术领域,通过根据不同的高径比得到不同的放肩肩型、放肩拉速及温度梯度变化趋势,使得放肩肩型与高径比适配,通过放肩拉速匹配对应的温度梯度得到放肩肩型,减少溶体因为受热不同而产生密度差,降低...
  • 一种可连续拉制多根晶棒的单晶炉结构及方法,包括主炉室、副炉室、炉台支撑结构;炉台支撑结构包括位于主炉室同一侧的第一支撑立柱、第二支撑立柱、第三支撑立柱;第一支撑立柱、第二支撑立柱对称设于主炉室两侧,第三支撑立柱设于第一支撑立柱与第二支撑立柱...
  • 本公开提供了单晶硅棒的制造方法、硅晶圆及其制造方法以及拉晶炉,所述制造方法包括:在拉晶炉中,采用直拉法拉制单晶硅棒;在所述拉晶炉中,对所述单晶硅棒进行第一热处理,所述第一热处理的温度范围为650℃至800℃,持续时间范围为5分钟至90分钟;...
  • 本申请公开了一种用于单晶叶片的引晶结构、叶片蜡模模组及其制备方法,包括选晶器、引晶过渡段、支撑棍和底座;引晶过渡段为锥形结构,且引晶过渡段的第一分部的大径端与叶片蜡模连接为一体,引晶过渡段的第二分部的小径端与选晶器的第一端连接为一体,第一分...
  • 本发明实施例提供一种纳米晶的制备方法及装置,制备方法包括:S1,将高温前驱体溶液I、常温前驱体溶液II同时注入超声雾化喷头中混合后超声雾化为前驱体微纳液滴;S2,气体气流带着前驱体微纳液滴喷涂于控温腔室内,使微纳液体中的前驱体溶液I和前驱体...
  • 本发明公开了一种基于泡沫金属的金属板表面毛化处理方法,具体为:将泡沫金属与待毛化处理的金属板相对置于电解液中,以泡沫金属作为阴极,待毛化处理的金属板作为阳极,分别与外部电源的负极和阳极连接;其中,金属板需要毛化处理的那一侧与泡沫金属相对设置...
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