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最新专利技术
  • 纺纱锥体
    纺纱锥体_卓郎纺织解决方案两合股份有限公司_202480027679.5
    本发明涉及一种具有外护套表面和纺纱锥体空腔的纺纱锥体。纺纱锥体空腔被构造成用于纺纱纱线，并且被布置成接收供应的纤维，以便将其供应到邻近纺纱锥体空腔的纱线出口通道。在这种情况下，纺纱锥体被构造成用于纺纱纱线，并且被布置成相对于纺纱锥体的对称轴...
    2025-12-23
  • 在梳理机的集成式牵伸机构中调节纤维条的克重的方法
    在梳理机的集成式牵伸机构中调节纤维条的克重的方法_特吕茨施勒集团欧洲公司_202480031528.7
    本发明涉及一种用于在梳理机(K)的集成式牵伸机构(1)中调节纤维条(FB)的克重的方法，牵伸机构具有位于牵伸机构的主牵伸区前的输入测量辊对(6a、6b)以及具有位于主牵伸区后的输出测量辊对(15a、15b)，其中，输入测量辊对(15a、15...
    2025-12-23
  • 用于三维打印的纤维和长丝
    用于三维打印的纤维和长丝_海洋安全股份有限公司_202480032846.5
    本发明涉及一种由包含脂族聚酯、脂族‑芳族聚酯和聚羟基链烷酸酯的混合物制成的纤维，以及制备这种纤维的方法。本发明还涉及一种适用于三维打印的长丝，所述长丝由包含脂族聚酯、脂族‑芳族聚酯和聚羟基链烷酸酯的混合物制成，以及制备此类长丝的方法。
    2025-12-23
  • 用于纤维沉积的方法、设备和组合物
    用于纤维沉积的方法、设备和组合物_剑桥实业有限公司_202480033174.X
    根据本公开，提供了一种使用纤维沉积设备将纤维沉积到独立物体上的方法。该纤维沉积设备包括分配器和限定沉积区的可移动臂。该方法包括：定位纤维沉积设备，使得独立物体位于沉积区内，在分配器的出口处形成成纤液体组合物的液滴，将臂从与液滴接触的第一位置...
    2025-12-23
  • 碳化硅衬底、碳化硅外延衬底以及碳化硅半导体器件的制造方法
    碳化硅衬底、碳化硅外延衬底以及碳化硅半导体器件的制造方法_住友电气工业株式会社_202480030651.7
    在将拉曼位移为1300cm‑1时的拉曼光谱的强度作为第一强度、将拉曼位移为1300cm‑1以上且1800cm‑1以下的范围内的拉曼光谱的最大峰的强度作为第二强度的情况下，第二强度相对于第一强度的比率为1.03以上且1.12以下。
    2025-12-23
  • 气体制造装置的停止方法、以及氧气和氢气的制造方法
    气体制造装置的停止方法、以及氧气和氢气的制造方法_株式会社德山_202480030925.2
    在加压条件下对碱性电解液进行电解的方法中，从阳极室和阴极室流出的电解液以再次流入阳极室和阴极室的方式循环，通过利用具备预定的工序的步骤使该气体制造装置的运转停止的气体制造装置的停止方法，能够防止气体组成达到爆炸极限。
    2025-12-23
  • 制备1, 1, 4, 4-四烷氧基-2-丁烯的方法
    制备1, 1, 4, 4-四烷氧基-2-丁烯的方法_帝斯曼知识产权资产管理有限公司_202480028807.8
    本发明涉及制备烷氧基化2, 5‑二氢呋喃的新方法。
    2025-12-23
  • 用于改善电解槽耐久性的添加剂
    用于改善电解槽耐久性的添加剂_路博润公司_202480033052.0
    所公开的技术涉及一种用于通过在质子交换膜(“PEM”)电解槽内添加自由基清除有机抑制剂来减轻氢穿透以及减轻聚合物氧化的组合物。
    2025-12-23
  • 通过冷喷涂金属粉末对金属部件例如玻璃制造模具的金属表面进行表面处理
    通过冷喷涂金属粉末对金属部件例如玻璃制造模具的金属表面进行表面处理_肖波兰斯基公司_202480028402.4
    本公开涉及一种用于处理玻璃制造模具(1)的模制表面(2)的表面处理方法。该表面处理方法包括将固态金属粉末(4)冷喷涂到玻璃制造模具(1)的模制表面(2)上以获得固体沉积物(5)的步骤。它还包括机械加工固体沉积物(5)以获得涂层的步骤。本公开...
    2025-12-23
  • 具有用于优化涂覆工艺的临时双层腐蚀保护层的钢板
    具有用于优化涂覆工艺的临时双层腐蚀保护层的钢板_蒂森克虏伯钢铁欧洲股份公司_202480026906.2
    本发明涉及一种经平整轧制的钢板，其包括钢基板和布置在所述钢基板的一侧或两侧上并且由锌或铝合金组成的金属涂层，其特征在于，所述金属涂层包括双层临时腐蚀保护层，所述双层临时腐蚀保护层包括作为第一层的含有有机硅化合物的中间层和布置在所述第一层上的...
    2025-12-23
  • 具有临时双层腐蚀保护层的钢板
    具有临时双层腐蚀保护层的钢板_蒂森克虏伯钢铁欧洲股份公司_202480026866.1
    本发明涉及一种经热浸镀且平整轧制的钢板，其包括钢基板和经平整轧制的金属涂层，所述金属涂层布置在所述钢基板上，并且不仅含有锌和不可避免的杂质，还含有含量为0.5重量%至8.0重量%的铝和含量为0.5重量%至8.0重量%的镁，其特征在于，所述金...
    2025-12-23
  • 基板处理方法、基板处理装置以及存储介质
    基板处理方法、基板处理装置以及存储介质_东京毅力科创株式会社_202480032940.0
    基板处理方法包括基板保持工序、催化剂提供工序、第一清洗工序、加热工序以及第二清洗工序。在基板保持工序中，保持基板。在催化剂提供工序中，向基板的上表面供给催化剂液来提供催化剂。在第一清洗工序中，在催化剂提供工序之中或催化剂提供工序之后，向基板...
    2025-12-23
  • 具有增强的气体混合的用于循环气相沉积的喷头组合件
    具有增强的气体混合的用于循环气相沉积的喷头组合件_尤金纳斯股份有限公司_202480032667.1
    一种喷头组合件包含喷头，所述喷头组合件被配置成将多种气体输送到循环沉积室中，所述喷头包含穿过中心区域形成的竖直腔和主内表面，所述主内表面被配置成面向衬底。所述主内表面径向围绕所述竖直腔并且是锥形的，使得从所述衬底到所述主内表面的竖直距离相对...
    2025-12-23
  • 用于沉积含锑薄膜的组合物及通过使用其制造含锑薄膜的方法
    用于沉积含锑薄膜的组合物及通过使用其制造含锑薄膜的方法_DNF有限公司_202480029054.2
    本发明涉及用于沉积含锑薄膜的组合物以及用于通过使用其制造含锑薄膜的方法，所述组合物包含可以有效地用作含锑薄膜的前体的锑化合物。根据一个实施方案的锑化合物在室温下为液态，并因此具有优异的可储存性和处理性并且具有高反应性，从而能够有效地形成金属...
    2025-12-23
  • 用于等离子体增强化学气相沉积的非轴对称气体扩散器
    用于等离子体增强化学气相沉积的非轴对称气体扩散器_应用材料公司_202480026994.6
    本发明总体上提供了一种用于真空腔室的气体扩散器支撑结构的装置和方法。所述气体扩散器支撑结构包括具有中心孔的背板和气体偏转器，所述气体偏转器的长度和宽度不等于透过多个向外紧固件连接到所述背板的长度，所述多个向外紧固件连接到形成在所述背板中的多...
    2025-12-23
  • 用于在自由基增强原子层沉积期间抑制前体相互作用的方法和系统
    用于在自由基增强原子层沉积期间抑制前体相互作用的方法和系统_莲花应用技术有限责任公司_202480030501.6
    本公开涉及用于在自由基增强原子层沉积期间抑制前体相互作用的方法和系统。基材可完全暴露于前体气体。同时，通过罩盖朝向基材引导气态自由基物种。气态自由基物种在足够的流量和压力条件下流动通过罩盖以基本上防止前体气体流入罩盖中。罩盖可交替地被定位在...
    2025-12-23
  • 材料加工机、用于生产多层材料的方法以及多层材料
    材料加工机、用于生产多层材料的方法以及多层材料_博斯特曼彻斯特有限公司_202480032430.3
    一种用于生产多层材料(26)的片材材料加工机(10)，该多层材料(26)包括基材(22)和施加在所述基材(22)上的混合涂层(38)，其中混合涂层(38)包括选自通过电容耦合PECVD施加的氧化硅、通过电感耦合PECVD施加的氧化硅和氧化铝...
    2025-12-23
  • 镓氧化物层的制造方法
    镓氧化物层的制造方法_周星工程股份有限公司_202480027176.8
    本发明提供一种镓氧化物层的制造方法，通过该方法在基板上形成镓氧化物(GaO)层，该方法包括：形成第一镓氧化物层的步骤以及在第一镓氧化物层上形成第二镓氧化物层的步骤，其中，形成第一镓氧化物层的步骤和形成第二镓氧化物层的步骤中的任一者使用原子层...
    2025-12-23
  • 操作等离子体工艺系统的方法和等离子体工艺系统
    操作等离子体工艺系统的方法和等离子体工艺系统_通快霍廷格有限责任公司_202480029653.4
    一种操作等离子体工艺系统(1)的方法，该等离子体工艺系统(1)包括：a)具有等离子体工艺室壁(3)的等离子体工艺室(2)，该等离子体工艺室壁连接至电位，例如连接至地，b)HiPIMS电力供应装置(4)，该HiPIMS电力供应装置被设计用于供...
    2025-12-23
  • 源布置及热激光外延系统
    源布置及热激光外延系统_马克斯·普朗克科学促进学会_202280102772.9
    本发明关于一种用于热激光外延(TLE)系统(100)的源布置(10)，包括具有可移动保持结构(22)的保持装置(20)，所述可移动保持结构(22)具有用于布置一个或多个源组件(120)的一个或多个保持空间(24)，该源组件(120)提供将被...
    2025-12-23
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