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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 用于半导体光刻、量测、和检测系统的抗反射纳米结构
    用于半导体光刻、量测、和检测系统的抗反射纳米结构_ASML荷兰有限公司_202480041838.7
    描述了用于半导体光刻、量测、和检测系统的抗反射纳米结构。还描述了一种利用短(例如，飞秒)激光脉冲产生抗反射纳米结构的表面结构化工艺。短激光脉冲用于从半导体光刻、量测、和/或检测系统的一个或更多个表面去除材料。这些短激光脉冲减少表面上的热影响...
    2026-01-25
  • 光源装置以及投影仪
    光源装置以及投影仪_精工爱普生株式会社_202510979196.1
    光源装置以及投影仪。提供能够生成沿与扫描方向垂直的方向延伸的矩形状的照明光的光源装置以及投影仪。本发明的光源装置具备：光源部，其沿与第1轴交叉的方向射出包含在沿着第1轴的方向上排列的第1光线和第2光线的光；光放大光学系统，其生成将光在沿着与...
    2026-01-25
  • 散热装置和投影仪
    散热装置和投影仪_深圳拜波赫技术有限公司_202520132670.2
    本实用新型公开了一种散热装置和投影仪，涉及投影仪技术领域，其中，散热装置包括壳体和散热件，在壳体形成有具有第一散热口和第二散热口的容纳腔，并且第一散热口和第二散热口相对设置，同时，散热件开设有散热通道，散热通道的一侧连通于第二散热口，散热通...
    2026-01-25
  • 改善光刻胶图案底部内切的组合物及光刻工艺
    改善光刻胶图案底部内切的组合物及光刻工艺_上海华力集成电路制造有限公司_202511695338.8
    本申请提供一种改善光刻胶图案底部内切的组合物及光刻工艺，该组合物包含80wt％‑95wt％的光刻胶树脂、1wt％‑5wt％的光酸生成剂、0.1wt％‑5wt％的碱性添加剂和余量溶剂，其中，碱性添加剂的分子量为200Da‑5000Da，分解温...
    2026-01-25
  • 一种汽车智能车门投影脚踏开启控制系统、方法及车辆
    一种汽车智能车门投影脚踏开启控制系统、方法及车辆_长春富晟汽车电子有限公司_202511569122.7
    本发明公开了一种汽车智能车门投影脚踏开启控制系统、方法及车辆，属于汽车电子技术领域，包括 : 控制器壳体，控制器壳体具有装配空间，控制器壳体一侧具有镜头孔；镜片模组，镜片模组设置在镜头孔内，镜片模组与控制器壳体连接；投影灯模组，投影灯模组位...
    2026-01-25
  • 相机模块和包括该相机模块的相机模块组装
    相机模块和包括该相机模块的相机模块组装_三星电子株式会社_202510296776.0
    提供了一种相机模块，包括：壳体；以及在壳体上的耦合框架，其中，壳体包括第一主表面、以及连接到第一主表面并且在第一方向上间隔开的第一侧表面和第二侧表面，其中，耦合框架包括：第二主表面；连接到第二主表面并且在第一方向上间隔开的第三侧表面和第四侧...
    2026-01-25
  • 用于光学致动器的镜头固定结构及相应的摄像模组
    用于光学致动器的镜头固定结构及相应的摄像模组_宁波舜宇光电信息有限公司_202180055156.8
    一种用于光学致动器的镜头固定结构，包括：载体(52)，其适于在光学致动器的驱动下进行受控移动；镜筒(51)，其内侧面适于安装镜片；以及弹性构件(53)，其包括用于连接镜筒(51)的固定部(531)和用于连接载体(52)的连接部(532)；其...
    2026-01-25
  • 一种化合物半导体光刻胶剥离液及其制备方法、应用和清洗方法
    一种化合物半导体光刻胶剥离液及其制备方法、应用和清洗方法_上海戎洲芯科技有限公司_202511863318.7
    本发明公开了一种化合物半导体光刻胶剥离液及其制备方法、应用和清洗方法，其中一种化合物半导体光刻胶剥离液包括重量配比如下的各组分：金属保护性极性有机溶剂30‑60份；非质子极性有机溶剂30‑60份；缓蚀剂1‑15份；阴离子表面活性剂1‑15份...
    2026-01-25
  • 决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法
    决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法_佳能株式会社_202510969264.6
    提供决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法。一种决定方法，决定表示经由将来自原版的光投影到基板的投影光学系统检测标志的第1测量仪的光轴与不经由所述投影光学系统检测标志的第2测量仪的光轴之间的距离的基线的基线校正量，具有：...
    2026-01-25
  • 一种数字自动增益系统及其控制方法
    一种数字自动增益系统及其控制方法_广东圣大电子有限公司_202511465628.3
    本发明提供一种数字自动增益系统及其控制方法，该数字自动增益系统包括依次串联的数控衰减器、增益切换电路和固定增益电路；在所述在固定增益电路输出端还设置有定向耦合器，还包括检波器和控制单元；所述的定向耦合器耦合一路信号经检波器检测后结果发送到控...
    2026-01-25
  • 掩模版表面缺陷的修复方法
    掩模版表面缺陷的修复方法_中国科学院光电技术研究所_202511943978.6
    本公开提供了一种掩模版表面缺陷的修复方法，包括：在掩模版的正面涂覆感光材料，形成感光层；基于掩模版的版图，从掩模版的背面照射掩模版，使光线穿过掩模版掩蔽层缺陷所在区域，对掩蔽层缺陷所在区域的感光材料进行曝光；对感光层进行显影，去除掩模版的缺...
    2026-01-25
  • 非规则图形的拆分方法、可读存储介质
    非规则图形的拆分方法、可读存储介质_上海华力集成电路制造有限公司_202511786074.7
    本发明提供一种非规则图形的拆分方法、可读存储介质，包括：提供原始版图，根据光刻能力设计图形拆分规则与图形设计规则；根据图形设计规则添加虚拟填充图形，将非规则图形整形为规则图形；根据图形拆分规则，对规则图形进行拆分分析，以得到拆分通解；根据拆...
    2026-01-25
  • 光罩的缺陷修复方法
    光罩的缺陷修复方法_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202511948234.3
    本发明提供一种光罩的缺陷修复方法，涉及半导体技术领域，包括：先确定光罩上的缺陷的位置；然后，在缺陷表面形成阻胶层，阻胶层覆盖缺陷；接着，形成光刻胶层，光刻胶层围绕阻胶层分布，且光刻胶层与阻胶层之间具有非粘附性；接着，以光刻胶层为掩模，对阻胶...
    2026-01-25
  • 抗蚀剂组合物、光产酸剂的制备方法及图案形成方法
    抗蚀剂组合物、光产酸剂的制备方法及图案形成方法_湖北鼎龙芯盛科技有限公司_202511747023.3
    本发明公开了一种抗蚀剂组合物，包括式(1)所示的第一光产酸剂，基础树脂、含氟树脂、淬灭剂和0~1.0质量份的式(2)所示的第二光产酸剂，并公开了图案形成方法，最终得到了改善的感光度和LWR的抗蚀剂图案。
    2026-01-25
  • 一种用于正投与吊装相结合的中长焦抗光投影屏幕
    一种用于正投与吊装相结合的中长焦抗光投影屏幕_上海莫蓝雨商贸有限公司_202511650761.6
    本申请涉及投影屏幕技术领域，提供一种用于正投与吊装相结合的中长焦抗光投影屏幕，包括在基体上阵列排布的多个光学结构单元，光学结构单元通过横截面呈三角形的横向分隔部和纵向分隔部进行界定。横向分隔部形成抗光脊，其第一斜面和第二斜面分别用于将投影光...
    2026-01-25
  • 一种可扩展分布式多余度的电动舵机伺服驱动方法及系统
    一种可扩展分布式多余度的电动舵机伺服驱动方法及系统_北京机械设备研究所_202410966153.5
    本发明涉及一种可扩展分布式多余度的电动舵机伺服驱动方法及系统，属于电动舵机控制技术领域，解决了现有技术中电动舵机驱动方法存在的余度设计复杂、通用化程度低的问题。包括至少一路伺服驱动器及受其驱动的作动机构；伺服驱动器通过采集实时舵角度和当前伺...
    2026-01-25
  • 引导模板的制备方法及制备系统
    引导模板的制备方法及制备系统_张江国家实验室_202410963511.7
    本发明提供一种引导模板的制备方法，是基于衍射曝光工艺的双重曝光方法，作为一个示例，其将花生状图案拆分成两个圆形图案分别进行曝光，即通过调整两次曝光时的晶圆台的位置，组合形成花生状图案；同时通过调整两次曝光间晶圆台移动的距离，可实现花生状图案...
    2026-01-25
  • 一种相机框架配件
    一种相机框架配件_深圳市铁头科技有限公司_202423298406.0
    本实用新型属于相机配件领域，特别涉及到了一种相机框架配件，包括：顶板，用于固定于相机顶面；指拨，用于搭持手指，所述指拨与所述顶板一体成型。在该相机框架配件中，顶板与指拨一体成型，整体为一个部件；因此，在其进行安装时，可以直接将顶板对准相机的...
    2026-01-25
  • 一种投影机的整机散热结构
    一种投影机的整机散热结构_无锡视美乐激光显示科技有限公司_202520426115.0
    本实用新型公开了一种投影机的整机散热结构，包括光机散热系统、光源散热系统和PCB散热系统；光源散热系统包括光源机身，光源机身外部布置有激光散热系统；光源机身内部布置有荧光轮散热系统；激光散热系统包括热管风冷散热器或水冷散热装置；荧光轮散热系...
    2026-01-25
  • 用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质
    用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质_全芯智造技术股份有限公司_202511942781.0
    根据本公开的实施例，提供了用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质。该方法包括：确定针对具有至少一个突出结构的基板的模拟光信号，模拟光信号指示光经过掩模后在基板上形成的信号；确定针对基板的拓扑信号，拓扑信号与至少一个突出结构相关联；以及基于模...
    2026-01-25
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