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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本实用新型公开了一种用于微纳纹理结构加工的光刻压印用模具,涉及光刻压印模具设备技术领域。本实用新型包括主体和印模固定板,所述印模固定板的外表面开设有压槽,本实用新型通过设置印模固定板、凸模和压槽,压槽为外部压片提供了插入位置,使得在压印过程...
  • 本申请公开了一种光源装置,包括光源模组及色轮模组。光源模组用于产生第一激光。色轮模组包括色轮,色轮包括依次环绕排列设置的N个色轮区组。色轮区组包括第一区域和第二区域,第一激光经由第一区域后产生第一光线,第一激光经由第二区域后产生第二光线,第...
  • 本发明提供了一种实现显影液均匀分布的方法,包括:提供第一控片,第一控片上形成有正性光阻层,采用喷淋显影设备在第一控片的正性光阻层上喷淋显影液进行显影;测定喷淋显影设备的两个喷嘴的不同角度组合下,第一控片的正性光阻层显影前后的膜厚损失的标准差...
  • 本公开涉及一种智能放款路由方法、系统、程序产品及相关装置。所述方法包括:接收业务系统发起的放款请求,并根据放款请求获取初始支付渠道集合;通过渠道状态预测模型对每一个支付渠道进行状态预测,得到初始支付渠道集合中各支付渠道的状态预测值;使用帕累...
  • 本发明公开了一种采用并行数字微镜阵列的扫描式曝光方法及系统,涉及光刻曝光与掩模无掩模直写技术领域,包括通过基准靶标曝光的检测配准方法建立并行数字微镜初始映射;根据并行数字微镜初始映射生成分块畸变场参数表,基于分块畸变场参数表确定微标记插入位...
  • 在光刻设备的真空内掩模版库区域内设置有多个盖存储位置。一种用于处理掩模版的系统,该系统包括:真空室;库,该库被配置为将掩模版盒在真空中保持在掩模版盒位置处,并设置在真空室内,每个掩模版盒包括相应的基板、掩模版和盖。该系统包括真空内机器人,以...
  • 本申请提供一种投影屏幕及投影系统,投影屏幕包括:显示膜片,显示膜片具有投影受光面;屏幕框架,屏幕框架包括两个边框架,边框架为一体式边框架,两个边框架相连,以围设在显示膜片的外周,边框架包括第一边框和第二边框,第一边框和第二边框转动连接,第二...
  • 公开了一种用于曝光浮雕前体(P)的设备,该浮雕前体(P)包括基板层和至少一个光敏层,所述设备包括:第一光源(1),其被配置成照射浮雕前体的第一侧;可移动的第二光源(2),其被配置成照射浮雕前体的与第一侧相对的第二侧;可移动屏蔽件(3),其位...
  • 本实用新型涉及一种菲林曝光板结构,包括:限制柱,设置在曝光设备的曝光台;板体,放置在曝光设备的曝光台;盖件,连接所述限制柱并压紧所述板体;限制板,相对设置在所述板体上;限制件,穿过菲林板并插入所述限制板;其中,菲林板放置在所述限制板上,所述...
  • 本实用新型提出一种重载输送线安全控制系统,包括安全控制器SC、安全元件组、执行机构模块、冗余电源模块,通过急停按钮、安全光幕等安全元件的输入信号通过两条独立回路传输至安全控制器,执行机构中的双接触器、变频器的控制指令也采用冗余输出回路,任一...
  • 本公开提供了一种原位检测与照明系统及微纳加工方法,可应用于曝光照明技术领域。该系统包括物镜、紫外照明组件、可见光照明组件、成像观测组件和原位检测组件,通过第一分光镜、第二分光镜和第三分光镜将多路光耦合至同一物镜。紫外照明组件用于曝光,可见光...
  • 本申请涉及一种控制系统、方法、存储介质、控制器、车辆及产品,控制系统包括第一功能控制器和冗余控制器;所述冗余控制器用于在第一功能控制器满足控制异常条件的情况下,将所述第一功能控制器中的第一功能代码迁移至目标控制器,使所述目标控制器可运行所述...
  • 本申请公开了一种基于固定优先级仲裁机制的冗余通信耦合器及PLC系统,工业控制、PLC技术,应用于主、备两个CPU控制器的PLC系统;所述冗余通信耦合器,与主CPU控制器、备CPU控制器通信连接,任一台所述冗余通信耦合器上通过I/O接口连接有...
  • 本申请提供一种光源的光刻空间像的获取方法、装置、设备及介质。方法包括:对目标光源进行栅格化,每个栅格代表一个光源点,得到光源点矩阵;根据所述光源点矩阵中任意两个光源点之间的相干度,得到所述光源点矩阵对应的相干度矩阵;根据所述相干度矩阵从所述...
  • 本申请公开了一种安全控制器的主备系确定方法、装置、安全控制器及水下采油树,属于控制器技术领域,方法包括:读取自身识别码,两个控制系统的自身识别码不同;根据自身识别码生成本系通信数据;向对系控制系统发送本系通信数据并接收对系控制系统发送的对系...
  • 本发明提供一种多结构拼版纳米压印模具及其制作方法,模具,包括:承载基板,承载基板上开设有按预设阵列排布的定位槽;压印模板,设置于定位槽内,压印模板上形成有预设微纳结构;固定系统,固定系统设置于承载基板上,用于将各压印模板一一固定于对应定位槽...
  • 本公开涉及一种晶圆曝光的方法、装置、存储介质、设备及程序产品。针对晶圆上的每个待曝光区域,获取光刻机采集到的所述待曝光区域的第一曝光参数和所述待曝光区域对应的初始曝光参数,所述初始曝光参数为预先设置的曝光参数;根据所述第一曝光参数对所述初始...
  • 一种激发激光系统及操作激发激光系统的方法,操作激发激光系统的方法包括测量激光光束的工作功率、判断工作功率是否低于阈值功率值、光学测量从激光光束的增益介质发射的光谱以确定增益介质的成分,及根据光学测量调整增益介质的成分。一种装置包括:光学发射...
  • 本发明公开了基于私有云虚拟化技术的风电场数字孪生冗余控制系统,涉及工业自动化与控制技术领域,包括:风电场私有云虚拟化平台,部署在风电场内的私有云服务器上,基于虚拟化技术运行多个虚拟机;虚拟PLC实例若干个,每个对应于一台风力发电机组,在私有...
  • 本申请提供一种防护罩及具有防护罩的工业相机,防护罩包括底壳、上盖、控制电路板、连接器、防护盖和驱动机构。底壳包括底板及与底板连接的侧板,底板与侧板围成一个顶部开口的收纳空间。上盖与底壳可拆卸连接,用于密封顶部开口。控制电路板位于收纳空间内。...
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