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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种自动增益控制电路及方法
    一种自动增益控制电路及方法_西安微电子技术研究所_202511162253.3
    本发明属于信息与通信技术领域，公开了一种自动增益控制电路及方法，该控制电路包括信号增益调节器、模数转换器和能量检测模块；信号增益调节器位于电路的信号接收端，用于基于数字控制码调节接收信号的幅度或功率，模数转换器用于将信号增益调节器输出的模拟...
    2025-12-15
  • 一种光圈调节结构及其曝光机
    一种光圈调节结构及其曝光机_广州市兰田电子科技有限公司_202423087123.1
    本实用新型涉及曝光机技术领域，且公开了一种光圈调节结构及其曝光机，包括框架组件，所述框架组件包括有侧板、第一矩形条和第二矩形条；水平移动组件，所述水平移动组件包括有第一丝杠、移动杆、第一伺服电机和第二伺服电机；光圈组件，所述光圈组件包括有光...
    2025-12-15
  • 一种光刻对准结构及其制造方法
    一种光刻对准结构及其制造方法_中国科学院微电子研究所_202310111124.6
    本申请提供了一种光刻对准结构及其制造方法，该结构包括：第一部分衬底和第二部分衬底；第一部分衬底的厚度不等于第二部分衬底的厚度；位于第一部分衬底一侧的硬掩膜涂层；硬掩膜涂层在第一部分衬底的正投影真包含于第一部分衬底。从而在本申请中设置了三元系...
    2025-12-15
  • 一种均衡斜率线性度可调的温补均衡器
    一种均衡斜率线性度可调的温补均衡器_成都嘉纳海威科技有限责任公司_202511633412.3
    本发明公开了一种均衡斜率线性度可调的温补均衡器，涉及微波集成电路技术领域。该均衡器包括温补驱动模块和温补均衡模块。温补驱动模块利用二极管的负温度特性产生随温度变化的控制电压。温补均衡模块包含由谐振器构成的均衡电路和一对堆叠开关管，通过控制电...
    2025-12-15
  • 一种投影仪镜头伸缩结构
    一种投影仪镜头伸缩结构_滁州市大眼橙数字科技有限公司_202422673602.5
    本实用新型提供了一种投影仪镜头伸缩结构，属于投影仪技术领域，它解决了现有的投影仪镜头在投影仪内部实现伸缩移动灵活性差、使用寿命短的技术问题。一种投影仪镜头伸缩结构，包括机体、设置在机体表面的按键、开设在机体侧壁的散热槽和安装在机体前端的镜头...
    2025-12-15
  • 一种能兼容不同尺寸幕布的幕布支架
    一种能兼容不同尺寸幕布的幕布支架_深圳市福佑铭信息技术有限公司_202422374917.X
    本实用新型公开了一种能兼容不同尺寸幕布的幕布支架，包括两根横杆、两根竖杆和两个底座，横杆包括两根第一杆组，第一杆组包括第一杆体和第二杆体，第二杆体套设在第一杆体的外侧，第一杆体上开设有多个第一限位孔，第二杆体的外侧旋转连接有第一限位件，第一...
    2025-12-15
  • 一种用于涂胶显影设备的活动管路夹持器
    一种用于涂胶显影设备的活动管路夹持器_海创智能装备(烟台)有限公司_202520042273.6
    本实用新型属于涂胶显影辅助装置技术领域，具体涉及一种用于涂胶显影设备的活动管路夹持器，包括底座，所述底座上活动设有第一夹持机构，所述第一夹持机构上活动设有第二夹持机构，所述第一夹持机构和所述第二夹持机构共同夹持管路，所述第一夹持机构包括活动...
    2025-12-15
  • 投影设备
    投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202180041925.9
    一种投影设备，包括：壳体(10)、信号检测器(20)、投影幕片(30)、幕片驱动组件(40)以及位于所述壳体(10)内的控制组件(50)。当信号检测器(20)检测到容纳槽(00)的开口处存在异物时，向控制组件(50)发送第一检测信号。当控制...
    2025-12-15
  • 微影曝光系统及用于该系统的方法
    微影曝光系统及用于该系统的方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202110024259.X
    一种微影曝光系统及用于该系统的方法，用于微影曝光系统的方法包括在一曝光设备的曝光腔室的内壁形成光触媒材料。传送一集成电路晶圆进入曝光腔室。涂布光阻液于集成电路晶圆上。对光阻液执行曝光制程。通过光触媒材料催化光阻液的蒸气产生反应。
    2025-12-15
  • 光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品
    光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品_深圳晶源信息技术有限公司_202510307461.1
    本申请公开了一种光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品，涉及光刻仿真技术领域。该光刻仿真模型的误差确定方法包括：获取目标掩模图案的真实光刻轮廓，以及光刻仿真模型输出的目标掩模图案的仿真光刻轮廓；对真实光刻轮廓与仿真光刻轮廓分别进...
    2025-12-15
  • 一种用于双面同时曝光机高精密对位结构
    一种用于双面同时曝光机高精密对位结构_深圳市四元数半导体有限公司_202520262587.7
    本实用新型涉及对位技术领域，特别涉及一种用于双面同时曝光机高精密对位结构，包括：安装总成；驱动部分，所述驱动部分在所述安装总成上滑动；驱动台，所述驱动台设置在所述驱动部分的下方；框式放料平台，所述框式放料平台固定连接在所述驱动台的一侧，且由...
    2025-12-15
  • 图案生成器和用于驱动图案生成器的方法
    图案生成器和用于驱动图案生成器的方法_迈康尼股份公司_202480031597.8
    图案生成器(1)包括脉冲激光光源、空间光调制器、控制模块、光学终端系统(50)和台定位设备。光学终端系统被布置成用于将来自空间光调制器的激光照射图案(13)定位在写入平面(43)上。该光学终端系统还包括条带开关(70)，其经配置以在垂直于该...
    2025-12-15
  • 曝光机
    曝光机_江苏友迪激光科技有限公司_202423102820.X
    本实用新型公开了一种曝光机，包括：梁架，所述梁架上设有物体放置部；曝光头，其设于所述梁架上，为所述物体放置部提供光源；驱动组件，至少用于驱动所述曝光头沿Z轴方向移动，所述驱动组件包括电机和同步传动组件，所述同步传动组件包括由所述电机驱动的主...
    2025-12-15
  • 一种用于紫外光刻机的晶圆吸附结构
    一种用于紫外光刻机的晶圆吸附结构_顶旭(苏州)微控技术有限公司_202520292256.8
    本实用新型公开了一种用于紫外光刻机的晶圆吸附结构，涉及晶圆吸附技术领域，包括：底座、底座顶部设置的支架、支架顶部设置的承接台及承接台顶部设置的晶圆本体；吸附组件，吸附组件包括设置在承接台顶部的外吸盘，外吸盘顶部设置有内吸盘，内吸盘顶部开设有...
    2025-12-15
  • 一种具有新型散热结构的投影仪光机及投影仪
    一种具有新型散热结构的投影仪光机及投影仪_长沙创荣电子科技有限公司_202511154329.8
    本发明提供的一种具有新型散热结构的投影仪光机及投影仪，其中光机包括壳体、光源板、光斗、镜片模组、反射镜、投影镜头、第一散热器、内风机、第一导风罩、第二导风罩、第一外风机、第二散热器、第二外风机和第三导风罩，本发明还提供一种投影仪，包括外壳，...
    2025-12-15
  • 一种光学邻近效应修正优化方法
    一种光学邻近效应修正优化方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511544772.6
    本发明提供一种光学邻近效应修正优化方法，包括以下步骤：提供一初始版图，将所述初始版图划分为若干个小区块，所述小区块包括主图形区域和围设在所述主图形区域的扩展区域，每个所述小区块均与相邻的所述小区块的扩展区域重叠；对每个所述小区块OPC修正和...
    2025-12-15
  • 光刻设备和相关联的方法
    光刻设备和相关联的方法_ASML荷兰有限公司_202480026191.0
    一种光刻方法，包括：在衬底上多次形成掩模版的图像。每一这种图像形成过程包括：利用辐射束照射掩模版和表膜组件的第一部分；并且收集由掩模版散射的辐射，并且使用投影光学器件将该辐射投影到衬底的目标区域上。光刻方法还包括：利用辐射束周期性地照射掩模...
    2025-12-15
  • 一种带循环保温水的均流显影液喷嘴装置
    一种带循环保温水的均流显影液喷嘴装置_迈睿捷(南京)半导体科技有限公司_202511495368.4
    本发明涉及半导体制造设备技术领域，解决了传统显影液喷嘴存在温度控制不足、流量均匀性差以及维护成本高缺陷的技术问题，尤其涉及一种带循环保温水的均流显影液喷嘴装置，包括用以隔离保温水和显影液并形成相互独立流通的流道，在保温水循环流通过程中补偿显...
    2025-12-15
  • 密闭高效双引擎散热装置
    密闭高效双引擎散热装置_江西轰天炮光电科技有限公司_202520055910.3
    本实用新型涉及密闭高效双引擎散热装置，包括有壳体，壳体内开设有容纳腔，容纳腔的底部设置有光源组件，光源组件的上方由下至上依次间隔设置有后透镜、隔热玻璃、LCD屏和前透镜，后透镜、隔热玻璃、LCD屏和前透镜的竖直中轴线重合，容纳腔的顶部位于前...
    2025-12-15
  • 设计版图图形的线段搜索方法、装置、设备、介质及产品
    设计版图图形的线段搜索方法、装置、设备、介质及产品_深圳晶源信息技术有限公司_202411813167.X
    本申请公开了一种设计版图图形的线段搜索方法、装置、设备、介质及产品，涉及半导体集成电路技术领域。该设计版图图形的线段搜索方法包括：获取待搜索线段的搜索条件，搜索条件包括待搜索线段的第一线段参数以及场景属性参数；在设计版图各图形的线段中，搜索...
    2025-12-15
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