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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种夹取装置及光刻机
    一种夹取装置及光刻机_上海新毅东半导体科技有限公司_202520509374.X
    本实用新型属于微电子技术领域，尤其涉及一种夹取装置及光刻机。夹取装置的支撑座上相对设置有两个夹取组件，两个夹取组件滑动设置于支撑座且能够配合夹取工件，支撑座安装的驱动机构包括驱动件、凸轮和随动组件，驱动件与凸轮传动连接，凸轮表面设置有螺纹槽...
    2026-02-03
  • 一种光罩光学层的斜向蚀刻方法
    一种光罩光学层的斜向蚀刻方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511863509.3
    本发明涉及半导体产品制备技术领域，具体提供了一种光罩光学层的斜向蚀刻方法，光阻剂膜通过电子束曝光让剩余的光阻剂膜形成全反射光学图案，再以光阻剂膜作为保护层，让全反射光学图案蚀刻到硬遮蔽膜上，最后将硬遮蔽膜作为保护层，通过斜向干式蚀刻，让光学...
    2026-02-03
  • 投影光闸装置
    投影光闸装置_杭州宋城演艺谷科技文化发展有限公司_202520176109.4
    本实用新型涉及舞台机械装置技术领域，尤其是涉及一种投影光闸装置。投影光闸装置包括：控制组件、传动件和挡光件，控制组件与传动件信号连接，传动件与挡光件传动连接，挡光件设置于投影机的镜头前方；挡光件能够在控制组件和传动件的作用下移动至投影机镜头...
    2026-02-03
  • 面向曲线型芯片版图的掩模优化方法、装置、设备及介质
    面向曲线型芯片版图的掩模优化方法、装置、设备及介质_广州市香港科大霍英东研究院_202511687468.7
    本申请公开了一种面向曲线型芯片版图的掩模优化方法、装置、电子设备及可读存储介质，属于半导体制造技术领域。该方法包括步骤：获取目标曲线型芯片版图对应的设计图形；基于所述设计图形，生成用于表示初始掩模版图形的目标曲线；基于所述目标曲线确定边缘放...
    2026-02-03
  • 含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板
    含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板_信越化学工业株式会社_202511014778.2
    本发明涉及含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板。本发明目的为提供在喷墨适应性平坦化所使用的覆板中，用以使接触面平坦化，并借由等离子处理而提供适当的接触角的透明的含硅的膜形成用组成物及使用该组成物的膜的形成方法与覆板本体。该课题的解决手段...
    2026-02-03
  • 用于移除来自含金属的抗蚀剂的边缘珠粒的组合物以及使用其形成图案的方法和系统
    用于移除来自含金属的抗蚀剂的边缘珠粒的组合物以及使用其形成图案的方法和系统_三星SDI株式会社_202510543757.3
    一种用于移除来自含金属的抗蚀剂的边缘珠粒的组合物包括有机溶剂、至少一种从二醇化合物和环状醇化合物中选出的醇类化合物以及具有1.0 ≤ pKa1 ≤ 4.5的酸化合物。此外，还提供了使用所述组合物形成图案的方法和系统。
    2026-02-03
  • 振动能量回收装置、轮毂及车辆
    振动能量回收装置、轮毂及车辆_广州汽车集团股份有限公司_202520778936.0
    本申请提供一种振动能量回收装置、轮毂及车辆，振动能量回收装置应用于车辆的轮毂；振动能量回收装置包括转动件、至少一个吸振组件、电能回收组件；转动件被配置为可转动地连接于轮毂的轮毂主体；吸振组件包括第一弹性件、第一质量件、第一能量转换件，第一弹...
    2026-02-03
  • 光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品
    光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品_北京超弦存储器研究院_202411005966.4
    本申请涉及一种光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品。方法包括：获取输入掩膜图形，以及输入掩膜图形的近场特性图像，近场特性图像为入射电磁波透过输入掩膜图形后的电磁场分布图像；根据输入掩膜图形、近场特性图像，以及训练好的目标机器学习模型，...
    2026-02-03
  • 掩模及曝光方法
    掩模及曝光方法_株式会社尼康_202380099879.7
    本发明的目的在于提供一种相移掩模，其与使用具有透射率为5%左右的相移膜的掩模的情况相比能够以更短的所需时间来形成。掩模(300)具备：曝光用光(波长λ)的透射率为35%、并具有正方形的接触孔图案(20a)的相移膜(20)，其形成在掩模基板上...
    2026-02-03
  • 一种光刻胶组合物及其制备方法
    一种光刻胶组合物及其制备方法_吴佳敏_202310105690.6
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种光刻胶组合物及其制备方法；包括原料为对羟基苯乙烯共聚物30～45份、三苯基硫鎓盐2～4份、金属团簇物8～15份、环氧乙烷10～20份、自由基光引发剂2～3份、溶剂30～40份；以对羟基苯乙烯共聚物为主体...
    2026-02-03
  • 检测并行冗余协议通信中的路径故障
    检测并行冗余协议通信中的路径故障_霍尼韦尔国际公司_202111637806.8
    本发明题为“检测并行冗余协议通信中的路径故障”。本发明提供一种电子设备和其它电子设备，该电子设备和该其它电子设备包括第一端口和第二端口，该第一端口和该第二端口在包括第一通道和第二通道的通信网络中利用并行冗余协议。该设备包括：处理电路；PRP...
    2026-02-03
  • 一种增益计算器和自动增益控制系统
    一种增益计算器和自动增益控制系统_北京神经元网络技术有限公司_202210774588.0
    本发明公开了一种增益计算器和自动增益控制系统。该增益计算器包括：增益计算单元，用于根据与可变增益放大器的输出信号对应的增益信号生成初始增益系数；极性判断单元，用于根据数字自动增益控制器的反馈信号生成极性信号；迟滞控制单元，用于根据极性信号生...
    2026-02-03
  • 掩模坯料基板及其制造方法
    掩模坯料基板及其制造方法_信越化学工业株式会社_202511022736.3
    本发明涉及掩模坯料基板，当限定以所述主表面的对角线的交点为中心并且由位于距152mm或更大×152mm或更大的矩形主表面的四条边的向内方向上的5mm处且平行于所述主表面的四条边的四条边围成的矩形区域时，所述矩形区域的平坦度为100nm或更小...
    2026-02-03
  • 基于可移动单相机的非接触式位移监测方法和相关设备
    基于可移动单相机的非接触式位移监测方法和相关设备_中国建筑第二工程局有限公司_202511577152.2
    本申请公开了一种基于可移动单相机的非接触式位移监测方法和相关设备，可应用于位移监测技术领域。本申请通过预先在待监测区域中设置固定不动的不动点标靶以及可移动单相机后，从而可以利用已知尺寸的不动点标靶来进行单目测距，无需设置多相机的设置，有效降...
    2026-02-03
  • 一种用于光刻机台中热板降温的冷却板及烘烤装置
    一种用于光刻机台中热板降温的冷却板及烘烤装置_重庆芯联微电子有限公司_202520371039.8
    本实用新型提供了一种用于光刻机台中热板降温的冷却板及烘烤装置，包括本体，所述本体的侧边设置有与内部连通的入口和出口；所述本体内部为空腔设计，并设有导向结构，所述导向结构至少包括第一导流板和第二导流板，所述第一导流板设置在所述入口和所述出口之...
    2026-02-03
  • 反射镜系统、操作反射镜系统的方法和微光刻投射曝光设备的投射镜头
    反射镜系统、操作反射镜系统的方法和微光刻投射曝光设备的投射镜头_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480043819.8
    本发明关于一种反射镜系统，其包括EUV反射镜(M1‑M6)，其中该EUV反射镜(M1‑M6)包括镜体(38)和形成在该镜体(38)上具有高EUV辐射反射率的光学表面(32)。该反射镜系统还包括框架结构(31)，该框架结构承载该镜体(38)；...
    2026-02-03
  • 一种曝光系统
    一种曝光系统_寰采星科技(宁波)有限公司_202520063332.8
    本申请公开了一种曝光系统，所述曝光系统包括传送机构和多个曝光装置，多个所述曝光装置分别用于设置在不同的位置处，所述传送机构用于带动待曝光的箔材依次经过多个所述曝光装置，以利用多个所述曝光装置对所述箔材的不同区域进行曝光。
    2026-02-03
  • 曝光装置、平板显示器的制造方法及电子器件制造方法
    曝光装置、平板显示器的制造方法及电子器件制造方法_株式会社尼康_202180012073.0
    本发明提供一种光学装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及器件制造方法，所述光学装置包括：多个激光光源(20)；具有光调变器的输出模块(30)；以及配置于所述多个激光光源与所述输出模块之间，在时间上分割自所述多个激光光源射出的激光的时间分割器...
    2026-02-03
  • 光刻模型建立方法、装置、计算机设备、存储介质
    光刻模型建立方法、装置、计算机设备、存储介质_北京超弦存储器研究院_202411000835.7
    本申请涉及一种光刻模型建立方法、装置、旁瓣图形预测方法、光刻方法、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。光刻模型建立方法包括：获取位于至少一组测试图形的曝光后的旁瓣图形信息，测试图形为测试相移掩膜上的透光掩膜图形且包括阵列排布的多个主图形，...
    2026-02-03
  • 一种曝光机焦点补偿方法及曝光机焦点补偿系统
    一种曝光机焦点补偿方法及曝光机焦点补偿系统_合肥晶合集成电路股份有限公司_202512016732.0
    本发明提供一种曝光机焦点补偿方法及曝光机焦点补偿系统，曝光机焦点补偿方法通过旋转获得多组旋转后GRP形变校正映射图和旋转后Z向波动量，并将其与第一Z向波动量进行计算得到Z向波动差异值，并通过Z向波动差异值识别出晶圆表面是否异常，并在异常时中...
    2026-02-03
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