Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 积分商城 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
  • 我要求购
  • 我要出售
官方微信客服

官方微信客服
官方微信客服

官方微信客服
摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 制造纳米压印光刻复制品及其模具以及半导体器件的方法
    制造纳米压印光刻复制品及其模具以及半导体器件的方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202511372089.9
    本公开涉及制造纳米压印光刻复制品及其模具以及半导体器件的方法。制造纳米压印光刻复制品的方法包括在衬底之上沉积第一抗蚀剂层，并选择性地将第一抗蚀剂层曝光于第一光化辐射。对选择性曝光的第一抗蚀剂层进行显影，以在第一抗蚀剂层中形成图案。第一抗蚀剂...
    2026-02-04
  • 光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质
    光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202111533657.0
    一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供主图形；根据相邻所述主图形的间距设定禁止边规则；在所述主图形的侧部添加辅助图形，其中，基于禁止边规则获得在所述主图形的侧部添加的辅助图形的数量。本发明有利于根据主图形周围...
    2026-02-04
  • 一种折叠式柔光箱卡盘
    一种折叠式柔光箱卡盘_温州捷宝科技有限公司_202520221393.2
    本实用新型公开了一种折叠式柔光箱卡盘，包括：第一基座，呈具有缺口部的开放环状结构，其圆心角大于180°；第二基座，转动连接于第一基座；锁定机构，用于锁定或解锁第一基座和第二基座；第一基座和第二基座至少具有收纳状态和展开状态；在展开状态，第一...
    2026-02-04
  • 宽频带增益可控限幅放大器电路和光模块
    宽频带增益可控限幅放大器电路和光模块_材料科学姑苏实验室_202520425874.5
    本公开实施例提供一种宽频带增益可控限幅放大器电路和光模块。宽频带增益可控限幅放大器电路包括：多个差分放大模块，其中，多个差分放大模块串联，用于对输入信号进行逐级放大；差分放大模块包括：差分放大电路、比例电流源和电流调节电路，其中，比例电流源...
    2026-02-04
  • 一种铜钼基光刻胶剥离液及湿法去胶方法
    一种铜钼基光刻胶剥离液及湿法去胶方法_江阴江化微电子材料股份有限公司_202511909218.3
    本发明公开了一种铜钼基光刻胶剥离液，按质量百分比计，包括：7%～28%的主胺类化合物、0.1%～10%的辅胺类化合物、61%～80%的醇醚溶剂、0.04%～4.4%的金属保护剂和10%～31%去离子水，所述主胺类化合物为具有N‑羟烷基的链烷...
    2026-02-04
  • 用于曝光衬底边缘的系统和方法及包括该系统的光刻设备
    用于曝光衬底边缘的系统和方法及包括该系统的光刻设备_ASML荷兰有限公司_202480045201.5
    本公开提供一种用于衬底边缘曝光的系统，包括：支撑台，所述支撑台用于支撑衬底且具有位于中心的开口，其中，所述支撑台被配置成热调节所述衬底；可旋转支撑单元，所述可旋转支撑单元能够在竖直方向上移动穿过所述支撑台的所述位于中心的开口；传感器，所述传...
    2026-02-04
  • 一种适用于水洗凸版的多层覆合装置
    一种适用于水洗凸版的多层覆合装置_乐凯华光印刷科技有限公司_202422710252.5
    本实用新型属于标签印刷领域，涉及水洗凸版的制作，尤其涉及一种适用于水洗凸版的多层覆合装置，包括喷雾单元、覆合压力单元以及覆合平台单元；所述喷雾单元位于所述覆合平台单元下方，并能平行于所述覆合平台单元移动和垂直于所述覆合平台单元移动；所述覆合...
    2026-02-04
  • 一种压轮装置及3D压印曝光设备
    一种压轮装置及3D压印曝光设备_张家港康得新光电材料有限公司_202520337692.2
    本实用新型公开了一种压轮装置及3D压印曝光设备，包括杠杆、压轮、配重块和第一气缸，所述压轮和所述配重块分别设置所述杠杆的两端并且二者之间保持平衡；所述第一气缸设置在所述压轮的上方，所述第一气缸能够与所述压轮接触并向其施加向下的压力。该压轮装...
    2026-02-04
  • 一种多光程气体吸收池
    一种多光程气体吸收池_中国科学院长春光学精密机械与物理研究所_202512021811.0
    本发明涉及光谱探测技术领域，具体提供一种多光程气体吸收池，包括：气室，以及设置在气室两端的第一腔镜和第二腔镜，第一腔镜和第二腔镜均至少包括：圆形积分区，以及套设在圆形积分区外的内环形反射区和外环形反射区；其中，第一腔镜的圆形积分区和第二腔镜...
    2026-02-04
  • 一种背投影屏幕及投影系统
    一种背投影屏幕及投影系统_四川菲斯特科技有限公司_202511282208.1
    本发明属于投影显示领域，公开了一种背投影屏幕，包括成像层、黑色吸光层和锯齿形微结构层；所述黑色吸光层由第一黑色吸光层和第二黑色吸光层组成；所述第一黑色吸光层包括若干第一黑色吸光条，所述第二黑色吸光层包括若干第二黑色吸光条，所述第一黑色吸光条...
    2026-02-04
  • 面向舵面卡死的可重复使用运载器控制力矩重分配方法
    面向舵面卡死的可重复使用运载器控制力矩重分配方法_大连理工大学_202512015298.4
    本发明属于可重复使用运载器控制技术领域，具体涉及一种面向舵面卡死的可重复使用运载器控制力矩重分配方法。本发明的目的是为了解决可重复使用运载器舵面卡死时控制力矩分配适配性差、鲁棒性不足的问题，引入考虑舵面协同效应的动态控制分配重构策略实现故障...
    2026-02-04
  • 无掩模光刻机
    无掩模光刻机_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202210892945.3
    本发明公开了一种无掩模光刻机和无掩模光刻机的控制方法，无掩模光刻机包括：激光器，匀光器，空间光调制器，投影物镜，基板，运动平台，控制器和光强传感器，空间光调制器相对于运动平台的XY平面绕Z旋转一个固定角度，其图形刷新同步由运动平台位置触发信...
    2026-02-04
  • 一种亚分辨率辅助图形二维结构厚掩模近场建模方法
    一种亚分辨率辅助图形二维结构厚掩模近场建模方法_武汉宇微光学软件有限公司_202511843470.9
    本申请属于计算光刻技术领域，具体公开了一种亚分辨率辅助图形二维结构厚掩模近场建模方法，包括：基于尺寸序列，生成尺寸序列中各个尺寸对应的二维参考掩模，尺寸序列包括多个尺寸，尺寸序列中相邻的两个尺寸之间相差预设步长；通过对各个尺寸对应的二维参考...
    2026-02-04
  • 镜头缺陷检测方法、装置及半导体结构的制备方法
    镜头缺陷检测方法、装置及半导体结构的制备方法_上海积塔半导体有限公司_202210878193.5
    本申请涉及一种镜头缺陷检测方法、装置及半导体结构的制备方法。本申请中的镜头缺陷检测方法包括：提供晶圆；所述晶圆包括多个曝光区域；对各所述曝光区域进行曝光，在所述多次曝光的过程中，至少采用两种不同的曝光能量；在所述多次曝光后，根据各所述曝光区...
    2026-02-04
  • 用于检测和/或量化制造不准确度的方法和系统
    用于检测和/或量化制造不准确度的方法和系统_多普勒实验室股份有限公司_202380047884.3
    本公开涉及一种用于检测和/或量化由光刻工艺产生的制造不准确度的方法。该方法包括：提供用于使用一组光刻工艺在基板上制造结构的至少一个设计，其中制造的结构限定计量传感器的阵列，其中每个计量传感器适于在应用物理过程时产生已知和有限的一组可能的不同...
    2026-02-04
  • 基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端
    基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端_华芯程(杭州)科技有限公司_202511971699.0
    本申请提供一种基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端，通过化学机械抛光工艺仿真工具，获得晶圆表面的三维轮廓高度图，并通过构建增强型光刻模型来感知晶圆表面的形貌变化，并在增强型光刻模型可以感知形貌变化的基础上通过光学...
    2026-02-04
  • 光刻胶剥离液组合物
    光刻胶剥离液组合物_合肥盛剑微电子有限公司_202511935239.2
    本发明公开了光刻胶剥离液组合物，原料按质量分数计，包括：质子极性溶剂30wt%‑80wt%；烷醇胺0.5wt%‑10wt%；酯类溶剂10wt%‑40wt%；金属保护剂0.01wt%‑1wt%；挥发抑制剂1wt%‑20wt%；余量若有，则为去...
    2026-02-04
  • 一种基于高频信息提取的快速全息图生成方法
    一种基于高频信息提取的快速全息图生成方法_北京航空航天大学_202311487094.5
    本发明提出一种基于高频信息提取的快速全息图生成方法，该方法包括以下三个步骤：第一步，基于高斯滤波器对物体进行预处理，将物体的高频信息和低频信息分离，并得到相对应的高频图像和低频图像；第二步，用新型查找表法对高频图像进行计算，得到对应的高频全...
    2026-02-04
  • 与套刻相关的计量方法
    与套刻相关的计量方法_ASML荷兰有限公司_202480045365.8
    一种计量方法，包括获得衬底上的第一层中的第一结构的第一绝对位置度量以及所述衬底的第二层中的第二结构的第二绝对位置度量；以及根据所述第一绝对位置度量和所述第二绝对位置度量确定以下一项或多项：曝光引起的第一层图案位移，描述由所述结构的曝光而产生...
    2026-02-04
  • 一种新型磁吸式纳米压印结构
    一种新型磁吸式纳米压印结构_吉林工业职业技术学院_202520588131.X
    本实用新型涉及一种新型磁吸式纳米压印结构，旨在解决传统纳米压印技术中设备成本高、压力来源单一等问题。该结构的核心创新在于，将永磁或强磁材料嵌入纳米压印膜的边缘，并在膜下方设置电磁线圈。通过调节电磁线圈的电流，控制其产生的磁场强度，进而实现对...
    2026-02-04
首页 上一页 3 下一页
技术分类

专利交易买卖与高校科技成果转化平台

主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务

Copyright ©龙图腾网 版权所有  营业执照  | 皖ICP备12007331号-2 lotut.com 皖公网安备 34010402703815号 中华人民共和国增值电信业务经营许可证