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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种OLED用光刻胶剥离液及其制备方法和应用
    一种OLED用光刻胶剥离液及其制备方法和应用_合肥中聚和成光电材料股份有限公司_202610030628.9
    本发明属于蚀刻液技术领域，具体涉及一种OLED用光刻胶剥离液及其制备方法和应用。光刻胶剥离液以配方总质量为100%计，包括有机醇胺1~10%、脒基化合物2~5%、多元醇0.1~3%、甜菜碱型缓蚀剂0.01~0.2%，其余为有机溶剂。该OLE...
    2026-04-02
  • 一种矩阵式精简控制64通道指令驱动微系统
    一种矩阵式精简控制64通道指令驱动微系统_中国电子科技集团公司第五十八研究所_202511799157.X
    本发明公开一种矩阵式精简控制64通道指令驱动微系统，属于多通道机电动作部件控制技术领域，基于陶瓷双腔三维堆叠封装技术，包括1片16通路总线驱动与电平转换芯片裸芯和4片16通路双冗余OE指令驱动裸芯。1片16通路总线驱动与电平转换芯片裸芯用于...
    2026-04-02
  • 多通道隔离式电流电压信号处理板卡
    多通道隔离式电流电压信号处理板卡_江苏理万电子科技有限公司_202520854719.5
    本实用新型公开了一种多通道隔离式电流电压信号处理板卡，包括板卡主体，板卡主体上设置有多个信号输入通道、信号隔离模块、信号处理模块、微处理器和信号输出接口。每个信号输入通道包括电流输入端口和电压输入端口，信号隔离模块的隔离单元包括电流隔离电路...
    2026-04-02
  • 风电场vPLC冗余控制智能故障切换方法与系统
    风电场vPLC冗余控制智能故障切换方法与系统_道莅智远科技(青岛)有限公司_202511647646.3
    本发明公开了风电场vPLC冗余控制智能故障切换方法与系统，涉及工业自动化控制技术领域，包括：S1、在风电场私有云虚拟化平台部署与每台风机本地硬件PLC逐一对应的vPLC实例，使vPLC与本地PLC持续进行心跳、状态与模型三域的并行监测及数据...
    2026-04-02
  • 金融业务决策方法及其装置、电子设备及存储介质
    金融业务决策方法及其装置、电子设备及存储介质_中国工商银行股份有限公司_202511781137.X
    本发明公开了一种金融业务决策方法及其装置、电子设备及存储介质，涉及人工智能领域或其他相关技术领域，其中，该方法包括：接收用户端的金融业务请求，并对金融业务请求进行解析，得到业务信息和业务类型；基于业务类型调用N个人工智能代理，并将N个人工智...
    2026-04-02
  • 曝光装置及曝光设备
    曝光装置及曝光设备_无锡影速半导体科技有限公司_202520661245.2
    本实用新型涉及曝光设备技术领域，公开一种曝光装置及曝光设备。其中曝光装置包括工件台、承载模块和曝光模块，承载模块用于承载待曝光零件，承载模块沿第一方向滑动设置于工件台；曝光模块包括至少一个第一曝光单元和至少一个第二曝光单元，第一曝光单元包括...
    2026-04-02
  • 一种光刻机的高精度温度控制方法及系统
    一种光刻机的高精度温度控制方法及系统_深圳市国仪兴科技有限公司_202511314566.6
    本发明公开了一种光刻机的高精度温度控制方法及系统，属于光刻机温控技术领域，采集掩模版下表面温度阵列、曝光台承载面热流密度分布及气浮层热压差信号，并进行特征编码，构建高维热耦合态势特征矩阵；随后基于该矩阵生成动态热权重关联图谱，将曝光关键节点...
    2026-04-02
  • 用于清洁光刻设备的部分的系统
    用于清洁光刻设备的部分的系统_ASML控股股份有限公司_202080077444.9
    所描述的系统包括清洁工具。所述清洁工具被配置为以第一配置插入光刻设备中，由所述光刻设备的工具处置器接合，并且用于清洁所述光刻设备的部分。所述清洁工具被配置为在由所述工具处置器接合之后从所述第一配置移动至扩展的第二配置，使得所述清洁工具在用于...
    2026-04-02
  • 激光干涉光刻设备和方法
    激光干涉光刻设备和方法_香港大学_202180073877.1
    本公开提供了一种激光干涉光刻方法，包括：对涂覆有光刻胶的晶片执行干涉曝光；以及对经干涉曝光的晶片执行图案化泛曝光，其中执行泛曝光包括：确定在所述经干涉曝光的晶片中的第一光场分布；基于所述第一光场分布、预期的图案分布和用于所述泛曝光的泛光光源...
    2026-04-02
  • 多带电粒子束描绘装置
    多带电粒子束描绘装置_纽富来科技股份有限公司_202210661233.0
    本实施方式提供抑制试样面上的射束位置偏移的多带电粒子束描绘装置。本实施方式的带电粒子束描绘装置为一种多带电粒子束描绘装置，具备：消隐孔径阵列基板，设有多个消隐器，该多个消隐器进行构成多射束的多个带电粒子束各自的消隐偏转；以及第一屏蔽部件，配...
    2026-04-02
  • 一种用于电子束曝光机的快速通断束闸装置
    一种用于电子束曝光机的快速通断束闸装置_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511968765.9
    本发明公开了一种用于电子束曝光机的快速通断束闸装置，包括由外至内依次设置的壳体组件、屏蔽组件、主体组件和偏转组件；所述壳体组件侧部设有泵接口和接线固定板，所述主体组件侧部设有真空电极和真空管道，所述真空管道嵌套在泵接口内侧，并连接至外部抽真...
    2026-04-02
  • 一种掩膜板图形蚀刻设备
    一种掩膜板图形蚀刻设备_南通卓力达金属科技有限公司_202511998195.8
    本发明涉及半导体及微电子制造设备技术领域，更具体的说，它涉及一种掩膜板图形蚀刻设备，包括设备外壳，所述设备外壳上设有盖板，所述设备外壳的内部设有腔室，所述腔室中设有上下料结构和掩膜板支撑结构，所述上下料结构包括齿轮一、两组螺纹杆和两组齿轮二...
    2026-04-02
  • 通过调控光刻掺杂窗口以改善功率器件击穿一致性的方法
    通过调控光刻掺杂窗口以改善功率器件击穿一致性的方法_上海鼎泰匠芯科技有限公司_202610222819.5
    本发明提供一种通过调控光刻掺杂窗口以改善功率器件击穿一致性的方法，包括获取光刻曝光参数与掺杂区图形开口尺寸的对应关系；提供一半导体衬底；提供一掩膜版，掩膜版上定义有在终端区形成掺杂区的目标图形；基于对应关系，设定目标光刻曝光参数；利用掩膜版...
    2026-04-02
  • 基于双MCU的智能断路器故障检测与维护方法
    基于双MCU的智能断路器故障检测与维护方法_广州市美硕生富能源科技有限公司_202610034821.X
    本发明提供一种基于双MCU的智能断路器故障检测与维护方法，通过主备冗余设计，单一MCU故障时自动无间断切换，避免系统瘫痪，极大提升可用性与可靠性。通过健康评估自检算法实现主控MCU状态的量化评分，保障故障判断准确性。通过智能切换仲裁机制，基...
    2026-04-02
  • 一种交联密度梯度变化的光刻胶组合物及其图案化的方法
    一种交联密度梯度变化的光刻胶组合物及其图案化的方法_重庆芯联微电子有限公司_202511897592.6
    本发明提供一种交联密度梯度变化的光刻胶组合物及其图案化的方法，通过在光刻胶组合物中引入低分子量第一交联剂和高分子量第二交联剂，使得光刻胶组合物在形成光刻图案的曝光后烘烤过程中发生交联反应，由于第一交联剂的扩散速率大于第二交联剂，能够实现光刻...
    2026-04-02
  • 运载火箭时序控制全冗余实现方法
    运载火箭时序控制全冗余实现方法_上海宇航系统工程研究所_202410253645.X
    本发明提供了一种运载火箭时序控制全冗余实现方法，为了提高时序控制系统故障适应能力与工作可靠性，本发明在时序控制系统中采用三路信息源冗余、三路传输线路冗余、三取二表决控制冗余和五管继电器指令驱动冗余的全冗余设计方法，具备适应全部一度故障和大部...
    2026-04-02
  • 多元金属中心-有机化合物光刻胶薄膜及其制备方法、器件
    多元金属中心-有机化合物光刻胶薄膜及其制备方法、器件_沈阳芯达科技有限公司_202512001008.0
    本申请实施例提供一种多元金属中心‑有机化合物光刻胶薄膜及其制备方法、器件。所述方法包括以下步骤：利用载气引入第一金属前驱体，使其吸附在衬底一侧表面，并通入惰性吹扫气体，移除未吸附的所述第一金属前驱体；利用所述载气引入有机前驱体，使其与所述第...
    2026-04-02
  • 光源装置以及投影仪
    光源装置以及投影仪_夏普NEC显示器解决方案株式会社_202290000967.8
    光源装置(3)具备：壳体构件(10)，具有第一开口(11)、连接口(12)及第二开口(13)，该第一开口(11)及该连接口(12)在第一方向上排列且相互反向地开口，该第二开口(13)在与第一方向正交的第二方向上开口；第一光源单元(20)，堵...
    2026-04-02
  • 一种可兼容多种掩膜板的光刻光罩盒
    一种可兼容多种掩膜板的光刻光罩盒_东莞鼎泉科技有限公司_202520957850.4
    本实用新型公开了一种可兼容多种掩膜板的光刻光罩盒，该光刻光罩盒包括光罩盒主体；光罩盒主体的内部设有多组放置板，多组放置板通过多组调节组件连接，放置板的上下两端均开设有容纳槽；调节组件用于调节多组放置板的位置，调节组件由连接框、移动框、第一转...
    2026-04-02
  • 直写式光刻机及其曝光同步诊断方法和信号同步处理单元
    直写式光刻机及其曝光同步诊断方法和信号同步处理单元_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202610093213.6
    本发明公开了一种直写式光刻机及其曝光同步诊断方法和信号同步处理单元，其中，直写式光刻机曝光同步诊断方法包括：在曝光过程中，获取每次运动平台移动位移达到理论触发间距时的第一位置同步信号，以及，获取运动平台的物理位置；根据第一位置同步信号计算运...
    2026-04-02
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