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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本实用新型涉及可拆卸地安装至成像设备中的显影盒,显影盒包括:显影壳体,用于容纳碳粉;显影辊,可旋转地设置在显影壳体中;计数组件,设置在显影壳体一端,用于与检测部件相互作用;动力源,用于向计数组件输出动力;触发件,具有作用位置和非作用位置;在...
  • 本申请提供了一种光学膜材和显示设备。该光学膜材包括成膜树脂、可聚合单体、光敏剂、第一引发剂和第二引发剂,光敏剂可经还原生成光敏自由基,第一引发剂的氧化电位>第二引发剂的还原电位>光敏自由基的氧化电位。该光学膜材具有基态高温高压稳定性以及激发...
  • 本实用新型公开的属于幕布支架技术领域,具体为一种幕布支架用固定夹结构,包括连接管,连接管外侧一体成型连接有连接座,连接座上开设有螺纹槽,且连接管外侧设有限位板,限位板对应连接座上方设置,锁紧部件连接于连接管上没对应连接座位置设置,与限位板配...
  • 本申请涉及印刷设备的领域,尤其是一种节能的证书印刷设备,其包括储粉箱、储粉罐、储粉盒、连通管和汇总管,储粉箱的一侧设有安装槽,储粉罐滑动嵌于安装槽内,安装槽设有多个,多个安装槽沿着储粉箱的长度方向间隔设置,储粉罐设有多个,储粉罐与安装槽一一...
  • 本实用新型涉及一种防漏光高效散热投影仪,包括:外壳以及设置于外壳内的投影光机、第一涡流风机和第二涡流风机;外壳相对的两侧壁上分别设置有进风孔和出风孔;投影光机包括LCD屏和经过LCD屏两侧的散热风道;第一涡流风机的出风口通过第一导风结构与散...
  • 本申请提供实施例属于激光技术,提供一种激光投影设备,包括光源、光机、镜头和壳体;壳体为一体件,壳体具有光导通的至少两个开口,光机和镜头均位于壳体内,光机相对于其中一个开口靠近另外一个开口,镜头相对另外一个开口靠近其中一个开口,光源朝向靠近光...
  • 一种调整光罩变形的方法及系统,旨在提高对于半导体制造至关重要的微影过程的精确度。该方法涉及将结构光投射到光罩上以捕捉一个基准影像,在光罩接触晶圆之前。如果这个基准影像,称为第一影像,未被预先储存,系统通过将结构光投射到光罩的表面上来捕捉它。...
  • 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供一种抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法,该抗蚀剂组成物在使用了高能射线的光刻中,为高对比度且极限分辨率会提升,又感度、LWR亦优良。本发明的解决手段是一种抗蚀剂组成物,包...
  • 本实用新型公开的属于幕布支架技术领域,具体为一种幕布支撑用支架结构,包括安装架,安装架顶部连接有调节齿一,弯转部件连接于安装架顶端,包括与安装架连接的连接架,连接架与安装架转动配合,连接架内开设有连接槽,且连接架外侧设有与调节齿一配合的调节...
  • 本发明公开了一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶,属于光刻胶技术领域,所述的抗电镀可快速碱退的负性光刻胶,包括以下质量份的组分:60~80份基体树脂、3~10份光引发剂、7~15份溶剂、5~10份活性稀释剂、3~8份小分子酸单体、0.2~2份流...
  • 本申请实施例公开了一种光刻掩模方法及装置,应用于半导体领域。该方法通过获取待光刻图像,利用目标网络对待光刻图像进行处理,得到粗化掩模图像,利用ILT对粗化掩模图像进行再次处理,得到目标掩模图像,以利用目标掩模图像进行光刻掩模。目标网络为基于...
  • 本申请涉及半导体技术领域,提供了一种掩模版防摔保护方法,通过在晶圆下方设置由气动元件、延长臂和柔性橡皮劈尖组成的保护设施,在真空吸附失效时,可通过柔性橡皮劈尖快速包裹并卡死下落的掩模版,同时确保掩模版与晶圆保持安全距离;利用气动元件的气路与...
  • 本实用新型涉及成像仪技术领域,尤其涉及一种医用胶片成像仪。其技术方案包括医用胶片成像仪主体和医用胶片承载盒,所述医用胶片成像仪主体前表面设置有医用胶片出口,所述医用胶片出口内部通过滑轨滑动安装有医用胶片承载盒,所述医用胶片承载盒内壁的底部设...
  • 本发明公开了一种激光投影设备、激光投影设备散热方法和散热装置,属于成像技术领域。激光投影设备中的温度检测组件用于获取红色激光器运行时的温度;处理组件用于控制散热器对红色激光器进行散热,以使红色激光器的温度位于第一温度值和第二温度值之间,第一...
  • 本发明提供一种技术,该技术在制造多层布线基板的情况下,能够减轻各层间的图案的偏移并且能够减少形成于最外层的图案和设计上的图案的差异。曝光装置(100)具有:载物台(2),保持形成有基准标记的基板W;基准标记检测部(711),检测形成于基板W...
  • 一种光学邻近修正方法,包括:提供基底,基底上具有若干缺陷图形;提供初始版图;获取初始图形与缺陷图形的重叠区域;在初始版图中去除重叠区域,获取第一版图;根据重叠区域获取第二版图;对第一版图进行若干次第一光学邻近修正,获取初始第一光学邻近修正版...
  • 本发明涉及极紫外光刻用掩模防尘系统的制备方法,包括以下步骤:制备陶瓷框架;制备有机氟聚合物薄膜,测试均匀度;粘合陶瓷框架与有机氟聚合物薄膜;于有机氟聚合物薄膜表面沉积催化剂;石墨烯碳纳米管复合薄膜成型;石墨烯碳纳米管复合薄膜减薄;陶瓷框架下...
  • 本申请提供的酯型光敏聚酰亚胺材料及其制备方法,通过引入含有低极性氟原子的氟化石墨烯量子点来降低介电常数,因为氟原子具有强的电负性,可以牢牢的固定电子,从而降低极化率;小尺寸、大比表面积的氟化石墨烯量子点更易在光敏聚酰亚胺基质中均匀分散,从而...
  • 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中,感度及分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物,以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物,含有:超原子价铋化合物、羧酸化合物及...
  • 本发明提供了一种用于OPC数据收集的方法及OPC建模方法,所述用于OPC数据收集的方法包括:对OPC测试光罩图案进行光学仿真,并获取各测试点在光学仿真后的第一尺寸数据;将各测试点的第一尺寸数据与对应的预设尺寸进行比较,将第一尺寸数据在预设尺...
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