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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种收纳体积小的投影幕支架
    一种收纳体积小的投影幕支架_深圳市福佑铭信息技术有限公司_202422809445.6
    本实用新型公开了一种收纳体积小的投影幕支架，包括连接盘、多根第一支撑杆和两根支腿，所述第一支撑杆与连接盘旋转连接，多根所述第一支撑杆环绕连接盘的外侧排布，所述第一支撑杆上设有第一弹性挂件，所述第一弹性挂件上延伸有第一卡扣，所述第一卡扣卡入第...
    2025-09-11
  • 一种安装结构、镜头组件与拍摄设备
    一种安装结构、镜头组件与拍摄设备_影石创新科技股份有限公司_202422438236.5
    本公开提供了一种安装结构、镜头组件与拍摄设备，该安装结构用于拍摄设备的支架与盖体的拆装，安装结构包括锁紧结构，锁紧结构包括分别设置于盖体和支架的限位凹部和限位件，限位件包括可伸入或退出限位凹部的限位凸部。
    2025-09-11
  • 用于仪器放大器的增益控制电路和方法
    用于仪器放大器的增益控制电路和方法_半导体元件工业有限责任公司_202010750652.2
    本发明公开了一种具有电子可调增益的仪器放大器。通过电子地控制耦接到该仪器放大器的反馈部分的电阻来调节该增益。通过由在该仪器放大器的输入处出现的共模电压的电阻器控制信号基准控制的开关来调节该电阻。因此，该仪器放大器能够适应共模电压的高电压范围...
    2025-09-11
  • 一种光刻胶减压干燥装置
    一种光刻胶减压干燥装置_苏州欧名欣电子科技有限公司_202422864649.X
    本实用新型提供一种光刻胶减压干燥装置，尤其涉及半导体生产技术领域，包括箱体，该光刻胶减压干燥装置，在使用时，将涂胶后的半导体放置在放置板上，然后关闭箱体，启动第一真空泵，打开控制阀，通过第一抽气管将箱体内的气体吸出，并排出，从而实现减压干燥...
    2025-09-11
  • 调整模块、光机模块及投影装置
    调整模块、光机模块及投影装置_中强光电股份有限公司_202410532405.3
    一种调整模块、光机模块及包括调整模块及光机模块的投影装置。投影装置包含光源模块，光源模块提供照明光束。光机模块用以接收照明光束，光机模块将照明光束转换为影像光束。调整模块位于光源模块与光机模块的入光部之间。光源模块锁固于调整模块的基板。调整...
    2025-09-11
  • 确定采样方案的方法、相关联的设备以及计算机程序
    确定采样方案的方法、相关联的设备以及计算机程序_ASML荷兰有限公司_202180023410.6
    公开了一种确定采样方案的方法。该方法包括获得并行传感器描述，基于所述并行传感器描述和潜在量测位置来识别多个候选获取配置。在评估度量方面评估每个所述候选获取配置，并且基于所述评估来选择候选获取配置。将所选择的获取配置的相应量测位置添加到采样方...
    2025-09-11
  • 一种便携式摄影箱
    一种便携式摄影箱_砀山县陡兴网络科技有限公司_202422926517.5
    本实用新型公开了一种便携式摄影箱，涉及摄影箱领域，包括箱板。本实用新型通过设置有箱板、把手、移动槽、转动板、第一转动轴和第二转动轴，代替了现有技术多组板块拼接安装的方式，无需工作人员进行拼装，只需拉动把手使得转动板发生转动，在阻尼转轴的作用...
    2025-09-11
  • 一种套刻误差补偿方法及系统
    一种套刻误差补偿方法及系统_上海芯东来半导体科技有限公司_202511115280.5
    本发明提供一种套刻误差补偿方法及系统。所述方法包括：STEP1：获取目标硅片的每个曝光场中心标记的X向坐标设定值、Y向坐标设定值、X向套刻误差和Y向套刻误差；STEP2：获取所述目标硅片的每个标记的X向坐标设定值、Y向坐标设定值、X向套刻误...
    2025-09-11
  • 一种防止漏光的相位移掩膜及其应用方法
    一种防止漏光的相位移掩膜及其应用方法_和舰芯片制造(苏州)股份有限公司_202410242495.2
    本发明涉及相位移掩膜生产技术领域，公开了一种防止漏光的相位移掩膜，掩膜包括多个主图形区、划片道区以及漏光保护区，每一个主图形区包括白区和图案区，划片道区由下至上依次包括透明基板、部分透光层和不透光挡层，漏光保护区设置于划片道区最外围切割道的...
    2025-09-11
  • 一种曝光装置
    一种曝光装置_迪盛微(江苏)装备科技有限公司_202422653349.7
    本实用新型提供了一种曝光装置，属于曝光技术领域。该曝光装置包括：工作台、多个标记灯组件、多个辅助灯组件、视觉组件、曝光组件。其中工作台包括用于放置待曝光工件的预设区域；多个标记灯组件设置在预设区域内，待曝光工件正面曝光时在待曝光工件的反面形...
    2025-09-11
  • 开关式支撑机构
    开关式支撑机构_家登精密工业股份有限公司_202510090979.4
    本发明提供一种开关式支撑机构，适用于双层光罩容器的内盒基座。开关式支撑机构与内盒基座之间建立一静电消散导通路径的开关，当开关式支撑机构的支撑件受到光罩下压并接触到内盒基座的瞬间，即开启静电消散导通路径，使光罩正面所累积静电荷进行导通消散。反...
    2025-09-11
  • 一种PCB板加工的曝光设备及其方法
    一种PCB板加工的曝光设备及其方法_西安鸿谷恒通电子科技有限公司_202510978014.9
    本发明涉及PCB板生产的技术领域，尤其涉及一种PCB板加工的曝光设备及其方法，包括，曝光机构，其包括曝光台，所述曝光台顶部的左侧固定连接有曝光器，所述曝光台的顶部滑动连接有放置盒，所述曝光台左侧的两侧均固定连接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的...
    2025-09-11
  • 一种多功能投影香薰机
    一种多功能投影香薰机_广东科高电器有限公司_202422414399.X
    本实用新型公开了一种多功能投影香薰机，包括：机壳、香薰机组件、投影组件和音乐组件；所述香薰机组件包括用于容纳香薰的第一容纳仓，所述第一容纳仓内设有槽口；所述槽口内设有第二容纳仓，所述投影组件位于所述第二容纳仓内；所述投影组件包括彩灯、凸透镜...
    2025-09-11
  • 投影光路新型结构
    投影光路新型结构_佛山市顺德区德怡创展电子科技有限公司_202422671129.7
    本实用新型公开了一种投影光路新型结构，包括壳体、光源、透镜装置和LCD模组，透镜装置和LCD模组均设有壳体内，光源和LCD模组分别位于透镜装置的两侧，透镜装置包括平行设置的第一平凸镜和第二平凸镜，第一平凸镜的外径大于第二平凸镜的外径，第二平...
    2025-09-11
  • 碱溶性感光树脂及其制造方法、碱溶性感光树脂组合物、彩色滤光片
    碱溶性感光树脂及其制造方法、碱溶性感光树脂组合物、彩色滤光片_合肥鼎材科技有限公司_202410250234.5
    本发明公开了一种新型碱溶性感光性树脂聚合物，在树脂中引入耐热性的硅氧烷结构和具有潜在固化的氰基丙烯酸结构，解决像素被拆开的问题。包含该树脂组合物的彩色滤光片制作成的显示设备可以用于恶劣环境变化的场景，如车载显示等。
    2025-09-11
  • 感光性树脂组合物
    感光性树脂组合物_旭化成株式会社_202111430178.6
    一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有碱溶性高分子、具有烯属双键的化合物、以及光聚合引发剂，在层叠有18μm厚度的铜箔的覆铜层叠板上以25μm厚度层叠由前述感光性树脂组合物形成的感光性树脂层，经过线/间隔＝50μm/30μm的图案状的光照射...
    2025-09-11
  • 在光刻设备上执行维护动作的方法
    在光刻设备上执行维护动作的方法_ASML荷兰有限公司_202480009637.9
    公开了一种在维护动作之后执行的机器维护方法，在所述维护动作中，旧机器部件已经由替换机器部件替换。所述方法包括确定性能影响度量，所述性能影响度量描述由用所述替换机器部件替换所述旧机器部件引起的对机器性能的影响；以及降级所述替换部件，使得所述性...
    2025-09-11
  • 液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质
    液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质_东京毅力科创株式会社_202011464044.1
    本发明提供一种液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质。液处理装置的一例包括：构成为能够保持基片的基片保持部；构成为能够向基片的表面供给处理液的处理液供给部；构成为能够向基片的表面供给气体的气体供给部；控制部。气体供给部包括扩散喷嘴，...
    2025-09-11
  • 一种光绘线路板胶片
    一种光绘线路板胶片_乐凯华光印刷科技有限公司_202210270391.3
    本发明提供一种光绘线路板胶片，包括PET基材，PET基材的背面从近到远依次设有粘结抗静电层、防光晕层和抗刮磨砂层Ⅱ，其特征在于：PET基材的正面从近到远依次设有粘结层、吸收层、透明隔层、感光层、抗刮磨砂层Ⅰ。减少光绘出的线条线宽、线距与原电...
    2025-09-11
  • 一种校验方法、校验组件及光刻机
    一种校验方法、校验组件及光刻机_深圳市大族半导体装备科技有限公司_202510866885.1
    本申请提供一种校验方法、校验组件及光刻机，校验方法用于光刻机的曝光焦距一致性校验，校验方法包括：获取掩膜板图案的若干个曝光区域在曝光焦面上的静态图像；从若干个静态图像中选取清晰度最高的静态图像作为第一参考图像，并以第一参考图像对应的曝光区域...
    2025-09-11
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