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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 异形密封圈、光学镜头及电子产品
    异形密封圈、光学镜头及电子产品_宁波舜宇车载光学技术有限公司_202421612870.X
    本申请公开了一种异形密封圈、使用该异形密封圈光学镜头及电子产品。该异形密封圈包括：密封圈本体和与所述密封圈本体连接的密封圈尾部，所述异形密封圈位于镜筒与所述镜筒内安装的镜片之间，其中，所述密封圈本体与所述镜筒及所述镜片的外侧边缘过盈配合，所...
    2025-09-04
  • 感光性树脂组合物、使用该组合物制备的感光性树脂膜和滤色器
    感光性树脂组合物、使用该组合物制备的感光性树脂膜和滤色器_三星SDI株式会社_202480008278.5
    本发明涉及感光性树脂组合物、使用该组合物制备的感光性树脂膜和滤色器，该感光性树脂组合物包含(A)着色剂、(B)光可聚合化合物、(C)光聚合引发剂、(D)粘合剂树脂和(E)溶剂，其中：(A)着色剂包括第一绿色染料、第二绿色染料和白色颜料；并且...
    2025-09-04
  • 一种纳米晶块压印机构
    一种纳米晶块压印机构_苏州威斯东山电子技术有限公司_202422139250.5
    本实用新型公开了一种纳米晶块压印机构，包括支撑架，所述支撑架的顶部设有压印组件，所述支撑架的底部内壁固定连接有凸块，凸块的顶部转动固定连接有转动杆，转动杆的顶端固定连接有连接板，连接板通过可拆卸的固定组件与凸块相固定，所述连接板的两侧均固定...
    2025-09-04
  • 新型不透光二元光掩模制备方法
    新型不透光二元光掩模制备方法_广州新锐光掩模科技有限公司_202510822247.X
    本申请提供一种新型不透光二元光掩模制备方法，包括以下步骤：在曝光工艺中，增加曝光剂量以使曝光区域的光化学反应更充分，从而提高已曝光区域和未曝光区域溶解度的差异；在显影工艺中，对显影液采用喷淋方式并调节显影液参数以确保显影液均匀覆盖光掩模表面...
    2025-09-04
  • 一种车辆底盘控制器的冷备份控制系统及方法
    一种车辆底盘控制器的冷备份控制系统及方法_湖南行必达网联科技有限公司_202310113594.6
    本发明提供了一种车辆底盘控制器及冷备份控制系统和方法，包括主控制系统、备份控制系统以及备份切换电路，主控制系统包括主控制器MCU1和与MCU1连接的主电源芯片SBC，备份控制系统包括备份控制器MCU2和与MCU2连接的备份电源，供电电源Vi...
    2025-09-04
  • UV光源的复合式机械减振支撑装置
    UV光源的复合式机械减振支撑装置_河南东微电子材料有限公司_202510936461.8
    本发明提供一种UV光源的复合式机械减振支撑装置，属于光刻设备技术领域，包括基座、UV光源和减振模块，减振模块包括连接件和支撑缓冲件，UV光源通过连接件连接至支撑缓冲件，支撑缓冲件环绕UV光源轴线对称分布，支撑缓冲件还连接至基座；基座上安装有...
    2025-09-04
  • 一种曝光机解析度提升结构
    一种曝光机解析度提升结构_浙江长兴合利光电科技有限公司_202422457395.X
    本实用新型涉及曝光机技术领域，具体涉及一种曝光机解析度提升结构，包括灯板，所述灯板的底部固定安装有散热器,所述灯板的顶部固定安装有多组LED灯珠，所述灯板的顶部且位于LED灯珠的外侧固定安装有灯罩，所述灯罩的内侧且位于多组LED灯珠的顶部均...
    2025-09-04
  • OPC建模量测图形数据选择方法
    OPC建模量测图形数据选择方法_上海华力集成电路制造有限公司_202111426254.6
    本申请涉及半导体集成电路制造技术领域，具体涉及一种OPC建模量测图形数据选择方法。方法包括：提供对应半导体器件特定层的掩模版数据文件和OPC初始模型；从掩模版数据文件中，选取实际特征尺寸属于第一特征尺寸范围的掩模图形作为测试图形，所有测试图...
    2025-09-04
  • 一种底面压印装置
    一种底面压印装置_武汉芯力科技术有限公司_202422601090.1
    本实用新型公开了一种底面压印装置，属于压印装置技术领域，包括钢带、驱动组件、第一连接件、第二连接件和控制组件。钢带上印有图案。钢带两端分别连接第一连接件和第二连接件，驱动组件连接于第一连接件，驱动组件能够驱动第一连接件转动，第一连接件带动钢...
    2025-09-04
  • 从EUV光刻设备中的表面移除分子
    从EUV光刻设备中的表面移除分子_ASML荷兰有限公司_202480010112.7
    一种被配置为将EUV辐射投影到衬底位置的光刻设备，该光刻设备包括：照射系统，该照射系统包括用于沿着束路径引导EUV辐射的多个反射表面；以及IR源，该IR源被配置为产生IR辐射；其中所述IR源和照射系统被布置为使得IR辐射沿着束路径投影。
    2025-09-04
  • 底切结构的形成方法及底切结构
    底切结构的形成方法及底切结构_上海新微技术研发中心有限公司_202510722350.7
    本申请涉及半导体制造领域，具体地说，是涉及一种底切结构的形成方法及底切结构，该底切结构的形成方法包括：在晶圆上形成第一正性光刻胶层；对第一正性光刻胶层分别进行两次曝光，以形成第一底部曝光图形和第二底部曝光图形，其中，第一底部曝光图形和第二底...
    2025-09-04
  • 一种顶面压印装置
    一种顶面压印装置_武汉芯力科技术有限公司_202422603775.X
    本实用新型公开了一种顶面压印装置，属于压印装置技术领域，包括移动平台、基座和压辊组件，移动平台上设置有第一驱动组件，基座通过第一驱动组件连接于移动平台，第一驱动组件包括第一驱动件，第一驱动件能够带动基座沿第一方向移动，第一方向平行于压印件的...
    2025-09-04
  • 一种光刻胶涂布装置
    一种光刻胶涂布装置_深圳市百利合新材料发展有限公司_202422644340.X
    本实用新型涉及光刻胶涂布技术领域，且公开了一种光刻胶涂布装置，包括基板，所述基板的顶部固定安装有用于进行承载的环座，且所述环座的内部固定安装有用于进行吸附固定的吸附座，且所述吸附座的底部与真空泵固定连接在一起，所述基板的顶部还固定安装有用于...
    2025-09-04
  • 曝光装置、曝光方法和物品的制造方法
    曝光装置、曝光方法和物品的制造方法_佳能株式会社_202510206215.7
    本发明涉及一种曝光装置、曝光方法和物品的制造方法。一种曝光装置，使来自光源的光经由原版曝光到基板，其中，该曝光装置具备包含与原版或者基板接触的接触部件的接触机构，接触部件至少由在与原版或者基板接触的面附加有氮原子的氟橡胶构成。
    2025-09-04
  • 模型性能评估方法、装置、设备与存储介质
    模型性能评估方法、装置、设备与存储介质_深圳前海微众银行股份有限公司_202210080989.6
    本发明公开了一种模型性能评估方法、装置、设备与存储介质，属于计算机信息处理技术领域。本发明通过获取实验组新模型的第一拒绝率和对照组与实验组的实际样本数比值，根据所述第一拒绝率和所述实际样本数比值，计算得到对照组的还原权重，获取对照组的坏样本...
    2025-09-04
  • 一种UV-LED移动扫描式光刻方法及装置
    一种UV-LED移动扫描式光刻方法及装置_浙江载力科技有限公司_202510899718.7
    本发明公开了一种UV‑LED移动扫描式光刻方法及装置，包括有如下步骤：选择使用指定范围内的UV‑LED灯组从线性照度计上方匀速移动经过，各个测量单元采集其正上方的辐射照度，对应的电流调整模块分别记录对应的电流值；计算各自接受的累积辐射照度，...
    2025-09-04
  • 光刻胶剥离液组合物及其制备方法和应用
    光刻胶剥离液组合物及其制备方法和应用_上海盛剑微电子有限公司_202511080414.4
    本发明公开了一种光刻胶剥离液组合物及其制备方法和应用，涉及光刻胶剥离材料技术领域。通过加入酰胺类溶剂，并控制其Hansen溶度参数δ达到接近光刻胶溶度参数的范围，使得光刻胶剥离液组合物溶解光刻胶的能力达到最大化。同时由于酰胺类溶剂的存在，醇...
    2025-09-04
  • 一种双轴定位运动装置
    一种双轴定位运动装置_无锡富创得精密设备有限公司_202422026141.2
    本申请实施例提供了一种双轴定位运动装置，包括运动平台、激光发射装置、第一激光处理部件、第二激光处理部件、驱动部件和中控装置，中控装置与驱动部件、第一激光处理部件和第二激光处理部件块均对应连接，以使中控装置能够根据第一激光处理部件、第二激光处...
    2025-09-04
  • 一种低腐蚀光刻胶剥离液及其制备方法与应用
    一种低腐蚀光刻胶剥离液及其制备方法与应用_浙江奥首材料科技有限公司_202510840458.6
    本发明提供一种低腐蚀光刻胶剥离液及其制备方法与应用，所述低腐蚀光刻胶剥离液包括重量配比如下的各组分：有机碱1‑15份；胺类化合物2‑10份；有机溶剂70‑90份；腐蚀抑制剂0.1‑4份；所述腐蚀抑制剂包括多肽类化合物和多糖化合物。本发明还公...
    2025-09-04
  • 扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法
    扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法_佳能株式会社_202110847346.5
    本公开涉及扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法。扫描曝光装置针对由照明光学系统照明的照明区域扫描原版，并且一边与原版的扫描同步地扫描基板，一边对基板进行扫描曝光。扫描曝光装置具备：第1调整机构，在进行基板的第1区域的扫描曝光以及与第1...
    2025-09-04
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