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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统
    热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统_深圳大学_202410622240.9
    本申请提供了热压印成型的微纳光学元件形性协同控制方法及系统，方法包括：获取第一微纳光学元件在热压印成型过程中产生的形状误差数据和折射率变化数据；根据形状误差数据和折射率变化数据，对模具几何模型进行补偿；判断第二微纳光学元件的形状精度是否满足...
    2026-02-03
  • 一种折叠式柔光箱卡盘
    一种折叠式柔光箱卡盘_温州捷宝科技有限公司_202520221393.2
    本实用新型公开了一种折叠式柔光箱卡盘，包括：第一基座，呈具有缺口部的开放环状结构，其圆心角大于180°；第二基座，转动连接于第一基座；锁定机构，用于锁定或解锁第一基座和第二基座；第一基座和第二基座至少具有收纳状态和展开状态；在展开状态，第一...
    2026-02-03
  • 一种基于原位制备的钙钛矿量子点光刻胶体系及其制备方法
    一种基于原位制备的钙钛矿量子点光刻胶体系及其制备方法_北京石油化工学院_202511848348.0
    一种基于原位制备的钙钛矿量子点光刻胶体系及其制备方法，以前驱体分散在可聚合单体中，加热直接合成钙钛矿量子点，得到的钙钛矿量子点又可聚合单体体系不需要加入光引发剂，直接以钙钛矿量子点作为光引发成分从而制备钙钛矿量子点光刻胶，可以实现光固化图案...
    2026-02-03
  • 微光刻投射曝光设备中的组件
    微光刻投射曝光设备中的组件_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480042658.0
    本发明涉及一种微光刻投射曝光设备中的组件，其中该组件(100、200、300、400)包含：光学元件(101、201、301、401)；至少一个重量补偿装置(110、210、310、410)，其具有用于产生磁场的无源磁路(111、211、3...
    2026-02-03
  • 一种运载索式重力流储能系统
    一种运载索式重力流储能系统_北京起重运输机械设计研究院有限公司_202520699425.X
    本申请涉及重力储能技术领域，具体而言，涉及一种运载索式重力流储能系统，包括运载子系统、上堆场、下堆场和储能块，所述运载子系统包括能量转化单元、传动单元和储能块运载单元，所述传动单元包括并列且竖向设置的两个运载索，所述储能块运载单元的相对两端...
    2026-02-03
  • 投影光源及投影设备
    投影光源及投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202210280912.3
    本申请公开了一种投影光源及投影设备，属于光电技术领域。所述投影光源中合光镜组位于激光器的出光侧，合光镜组、第一棱镜、第二棱镜以及匀光部件沿第一方向依次排布；第一棱镜与第二棱镜均为三棱镜，第一棱镜的主截面平行第二棱镜的主截面，且平行第一方向；...
    2026-02-03
  • 一种晶圆关键尺寸的补偿方法、装置及制造系统
    一种晶圆关键尺寸的补偿方法、装置及制造系统_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202211732697.2
    本发明提供了一种晶圆关键尺寸的补偿方法、装置及制造系统，该方法包括：获取前批晶圆产品的前批曝光能量值、前批曝光焦距和前批关键尺寸值；监测得到前批晶圆的光阻膜厚；当所述前批关键尺寸值不满足设定阈值时，利用所述光阻膜厚与晶圆的关键尺寸的对应关系...
    2026-02-03
  • 基于安全PLC的制氢系统中的故障检测及其处理方法
    基于安全PLC的制氢系统中的故障检测及其处理方法_中船(邯郸)派瑞氢能科技有限公司_202511697625.2
    本发明公开了基于安全PLC的制氢系统中的故障检测及其处理方法，具体涉及制氢系统安全控制技术领域；通过高频采集系统运行参数，构建多维特征张量，并基于滑动窗口提取微突变异常区间；将异常映射至参数–时间状态空间，构建异常分布图谱，并进行边界层重构...
    2026-02-03
  • 可调整负载端口的控制器及控制方法、设备及存储介质
    可调整负载端口的控制器及控制方法、设备及存储介质_珠海三友环境技术有限公司_202511706057.8
    本申请公开了一种可调整负载端口的控制器，包括设置有第一拨码开关、第一通信端口、第二通信端口和多个连接第一负载的第一负载端口的第一主板；设置有第二拨码开关、第三通信端口、第四通信端口和多个连接第二负载的第二负载端口的第二主板，第三通信端口与第...
    2026-02-03
  • 一种基于共形衍射原理的彩色球面全息显示系统
    一种基于共形衍射原理的彩色球面全息显示系统_北京航空航天大学_202311064468.2
    本发明提出一种基于共形衍射原理的彩色球面全息显示系统，该系统包括彩色激光器、扩束器、透镜Ⅰ、空间光调制器、半透半反镜、透镜Ⅱ、光阑、透镜Ⅲ和计算机。其中，彩色激光器经过扩束器和透镜Ⅰ后形成准直光束。计算机将基于共形衍射原理生成的彩色球面全息...
    2026-02-03
  • 一种光刻胶生产用曝光装置
    一种光刻胶生产用曝光装置_江苏龙东新材料有限公司_202511889027.5
    本发明涉及光刻胶曝光技术领域，具体是一种光刻胶生产用曝光装置，包括箱体，所述箱体上活动安装有箱门，还包括：安装在箱体内的变位光照结构；安装在箱体内的负压承载结构，所述负压承载结构包括与箱体相连接的支撑台，所述支撑台两侧分别固定安装有两组控制...
    2026-02-03
  • 一种混合曝光系统和光刻设备
    一种混合曝光系统和光刻设备_托托科技(苏州)有限公司_202520528220.5
    本实用新型涉及光刻技术领域，具体是一种混合曝光系统和光刻设备，包括：第一曝光装置，包括真空腔室，以及位于真空腔室中的电子束发射源、电子光路组件和扫描系统，电子束发射源出射的电子束经电子光路组件和扫描系统后能够投射至真空腔室的第一照射区域；第...
    2026-02-03
  • 电子笔
    电子笔_株式会社和冠_202480043807.5
    本发明提供一种电源部的取出容易的结构的电子笔。在轴心方向上，具备：壳体，能够分离为笔尖侧和笔尖侧的相反侧的后端侧；电子笔主体部，配设于壳体的中空部内的笔尖侧；及电源部，具备电池，配设于壳体的中空部内的后端侧。在电子笔主体部的轴心方向的后端侧...
    2026-02-03
  • 投影设备
    投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202520643850.7
    本申请公开了一种投影设备，属于投影设备领域。投影设备可以包括：投影设备本体、第一粘接层以及金属装饰层。通过第一粘接层将金属装饰层粘接至投影设备本体的顶部，这样，可以不要采用塑料支架的方式将金属装饰层固定在投影设备本体的顶部上，金属装饰层可以...
    2026-02-03
  • 一种阻焊DI曝光机透明夹具
    一种阻焊DI曝光机透明夹具_广州添利电子科技有限公司_202520581638.2
    本实用新型涉及PCB板生产技术领域，更具体地，涉及一种阻焊DI曝光机透明夹具，包括工作台、驱动机构和压膜条，所述驱动机构设于工作台的两侧，压膜条与驱动机构相连接，驱动机构能驱动压膜条上下移动，压膜条上设置有压条，所述压条透明。透明材质的压条...
    2026-02-03
  • 曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法
    曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法_佳能株式会社_202111018293.2
    本发明公开了曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法。曝光装置包括照明光学系统、投影光学系统、以及控制器，所述照明光学系统用于照明包括周期图案的原版，所述投影光学系统用于在基板上形成所述原版的图像，所述控制器被配置为使来自所述照明光...
    2026-02-03
  • 一种适用于水洗凸版的多层覆合装置
    一种适用于水洗凸版的多层覆合装置_乐凯华光印刷科技有限公司_202422710252.5
    本实用新型属于标签印刷领域，涉及水洗凸版的制作，尤其涉及一种适用于水洗凸版的多层覆合装置，包括喷雾单元、覆合压力单元以及覆合平台单元；所述喷雾单元位于所述覆合平台单元下方，并能平行于所述覆合平台单元移动和垂直于所述覆合平台单元移动；所述覆合...
    2026-02-03
  • 一种压轮装置及3D压印曝光设备
    一种压轮装置及3D压印曝光设备_张家港康得新光电材料有限公司_202520337692.2
    本实用新型公开了一种压轮装置及3D压印曝光设备，包括杠杆、压轮、配重块和第一气缸，所述压轮和所述配重块分别设置所述杠杆的两端并且二者之间保持平衡；所述第一气缸设置在所述压轮的上方，所述第一气缸能够与所述压轮接触并向其施加向下的压力。该压轮装...
    2026-02-03
  • 一种铜钼基光刻胶剥离液及湿法去胶方法
    一种铜钼基光刻胶剥离液及湿法去胶方法_江阴江化微电子材料股份有限公司_202511909218.3
    本发明公开了一种铜钼基光刻胶剥离液，按质量百分比计，包括：7%～28%的主胺类化合物、0.1%～10%的辅胺类化合物、61%～80%的醇醚溶剂、0.04%～4.4%的金属保护剂和10%～31%去离子水，所述主胺类化合物为具有N‑羟烷基的链烷...
    2026-02-03
  • 用于曝光衬底边缘的系统和方法及包括该系统的光刻设备
    用于曝光衬底边缘的系统和方法及包括该系统的光刻设备_ASML荷兰有限公司_202480045201.5
    本公开提供一种用于衬底边缘曝光的系统，包括：支撑台，所述支撑台用于支撑衬底且具有位于中心的开口，其中，所述支撑台被配置成热调节所述衬底；可旋转支撑单元，所述可旋转支撑单元能够在竖直方向上移动穿过所述支撑台的所述位于中心的开口；传感器，所述传...
    2026-02-03
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