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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本申请提供一种新型不透光二元光掩模制备方法,包括以下步骤:在曝光工艺中,增加曝光剂量以使曝光区域的光化学反应更充分,从而提高已曝光区域和未曝光区域溶解度的差异;在显影工艺中,对显影液采用喷淋方式并调节显影液参数以确保显影液均匀覆盖光掩模表面...
  • 本发明提供了一种车辆底盘控制器及冷备份控制系统和方法,包括主控制系统、备份控制系统以及备份切换电路,主控制系统包括主控制器MCU1和与MCU1连接的主电源芯片SBC,备份控制系统包括备份控制器MCU2和与MCU2连接的备份电源,供电电源Vi...
  • 本发明提供一种UV光源的复合式机械减振支撑装置,属于光刻设备技术领域,包括基座、UV光源和减振模块,减振模块包括连接件和支撑缓冲件,UV光源通过连接件连接至支撑缓冲件,支撑缓冲件环绕UV光源轴线对称分布,支撑缓冲件还连接至基座;基座上安装有...
  • 本实用新型涉及曝光机技术领域,具体涉及一种曝光机解析度提升结构,包括灯板,所述灯板的底部固定安装有散热器,所述灯板的顶部固定安装有多组LED灯珠,所述灯板的顶部且位于LED灯珠的外侧固定安装有灯罩,所述灯罩的内侧且位于多组LED灯珠的顶部均...
  • 本申请涉及半导体集成电路制造技术领域,具体涉及一种OPC建模量测图形数据选择方法。方法包括:提供对应半导体器件特定层的掩模版数据文件和OPC初始模型;从掩模版数据文件中,选取实际特征尺寸属于第一特征尺寸范围的掩模图形作为测试图形,所有测试图...
  • 本实用新型公开了一种底面压印装置,属于压印装置技术领域,包括钢带、驱动组件、第一连接件、第二连接件和控制组件。钢带上印有图案。钢带两端分别连接第一连接件和第二连接件,驱动组件连接于第一连接件,驱动组件能够驱动第一连接件转动,第一连接件带动钢...
  • 一种被配置为将EUV辐射投影到衬底位置的光刻设备,该光刻设备包括:照射系统,该照射系统包括用于沿着束路径引导EUV辐射的多个反射表面;以及IR源,该IR源被配置为产生IR辐射;其中所述IR源和照射系统被布置为使得IR辐射沿着束路径投影。
  • 本申请涉及半导体制造领域,具体地说,是涉及一种底切结构的形成方法及底切结构,该底切结构的形成方法包括:在晶圆上形成第一正性光刻胶层;对第一正性光刻胶层分别进行两次曝光,以形成第一底部曝光图形和第二底部曝光图形,其中,第一底部曝光图形和第二底...
  • 本实用新型公开了一种顶面压印装置,属于压印装置技术领域,包括移动平台、基座和压辊组件,移动平台上设置有第一驱动组件,基座通过第一驱动组件连接于移动平台,第一驱动组件包括第一驱动件,第一驱动件能够带动基座沿第一方向移动,第一方向平行于压印件的...
  • 本实用新型涉及光刻胶涂布技术领域,且公开了一种光刻胶涂布装置,包括基板,所述基板的顶部固定安装有用于进行承载的环座,且所述环座的内部固定安装有用于进行吸附固定的吸附座,且所述吸附座的底部与真空泵固定连接在一起,所述基板的顶部还固定安装有用于...
  • 本发明涉及一种曝光装置、曝光方法和物品的制造方法。一种曝光装置,使来自光源的光经由原版曝光到基板,其中,该曝光装置具备包含与原版或者基板接触的接触部件的接触机构,接触部件至少由在与原版或者基板接触的面附加有氮原子的氟橡胶构成。
  • 本发明公开了一种模型性能评估方法、装置、设备与存储介质,属于计算机信息处理技术领域。本发明通过获取实验组新模型的第一拒绝率和对照组与实验组的实际样本数比值,根据所述第一拒绝率和所述实际样本数比值,计算得到对照组的还原权重,获取对照组的坏样本...
  • 本发明公开了一种UV‑LED移动扫描式光刻方法及装置,包括有如下步骤:选择使用指定范围内的UV‑LED灯组从线性照度计上方匀速移动经过,各个测量单元采集其正上方的辐射照度,对应的电流调整模块分别记录对应的电流值;计算各自接受的累积辐射照度,...
  • 本发明公开了一种光刻胶剥离液组合物及其制备方法和应用,涉及光刻胶剥离材料技术领域。通过加入酰胺类溶剂,并控制其Hansen溶度参数δ达到接近光刻胶溶度参数的范围,使得光刻胶剥离液组合物溶解光刻胶的能力达到最大化。同时由于酰胺类溶剂的存在,醇...
  • 本申请实施例提供了一种双轴定位运动装置,包括运动平台、激光发射装置、第一激光处理部件、第二激光处理部件、驱动部件和中控装置,中控装置与驱动部件、第一激光处理部件和第二激光处理部件块均对应连接,以使中控装置能够根据第一激光处理部件、第二激光处...
  • 本发明提供一种低腐蚀光刻胶剥离液及其制备方法与应用,所述低腐蚀光刻胶剥离液包括重量配比如下的各组分:有机碱1‑15份;胺类化合物2‑10份;有机溶剂70‑90份;腐蚀抑制剂0.1‑4份;所述腐蚀抑制剂包括多肽类化合物和多糖化合物。本发明还公...
  • 本公开涉及扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法。扫描曝光装置针对由照明光学系统照明的照明区域扫描原版,并且一边与原版的扫描同步地扫描基板,一边对基板进行扫描曝光。扫描曝光装置具备:第1调整机构,在进行基板的第1区域的扫描曝光以及与第1...
  • 本申请公开一种微电子器件的制备方法,涉及半导体制造技术领域。制备方法包括:提供一基底,并在基底上涂覆预设厚度的光刻胶;对光刻胶依次进行曝光、显影,制备获得图形化光刻胶;在图形化光刻胶上进行金属沉积,并在光刻胶剥离后形成微电子器件;其中,光刻...
  • 本公开涉及一种光掩模及其制造方法,光掩模包括:透明基板,包括相位反转区域和与相位反转区域相邻的遮光区域;相位反转膜,设置在透明基板上的相位反转区域和遮光区域中,并且限定有在相位反转区域中暴露透明基板的上表面的第1‑1开口和在遮光区域中暴露透...
  • 本发明涉及一种形状记忆合金扭力转动装置,包括底座、扭力输出组件和从动组件,扭力输出组件安装在底座上,包括多个平行间隔且呈一排设置的形状记忆合金管,在形状记忆合金管的外侧沿轴向由一端至另一端缠绕有加热电缆,用于均匀加热形状记忆合金管。形状记忆...
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