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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 调整光罩变形的方法与系统
    调整光罩变形的方法与系统_利易达半导体设备股份有限公司_202510253552.1
    一种调整光罩变形的方法及系统，旨在提高对于半导体制造至关重要的微影过程的精确度。该方法涉及将结构光投射到光罩上以捕捉一个基准影像，在光罩接触晶圆之前。如果这个基准影像，称为第一影像，未被预先储存，系统通过将结构光投射到光罩的表面上来捕捉它。...
    2025-09-24
  • 一种幕布支撑用支架结构
    一种幕布支撑用支架结构_浙江恒洋伞业有限公司_202422901861.9
    本实用新型公开的属于幕布支架技术领域，具体为一种幕布支撑用支架结构，包括安装架，安装架顶部连接有调节齿一，弯转部件连接于安装架顶端，包括与安装架连接的连接架，连接架与安装架转动配合，连接架内开设有连接槽，且连接架外侧设有与调节齿一配合的调节...
    2025-09-24
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510295996.1
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供一种抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法，该抗蚀剂组成物在使用了高能射线的光刻中，为高对比度且极限分辨率会提升，又感度、LWR亦优良。本发明的解决手段是一种抗蚀剂组成物，包...
    2025-09-24
  • 一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶
    一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶_乾宇微纳技术(深圳)有限公司_202511165164.4
    本发明公开了一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶，属于光刻胶技术领域，所述的抗电镀可快速碱退的负性光刻胶，包括以下质量份的组分：60~80份基体树脂、3~10份光引发剂、7~15份溶剂、5~10份活性稀释剂、3~8份小分子酸单体、0.2~2份流...
    2025-09-24
  • 一种光刻掩模方法及装置
    一种光刻掩模方法及装置_中国科学院微电子研究所_202511042279.4
    本申请实施例公开了一种光刻掩模方法及装置，应用于半导体领域。该方法通过获取待光刻图像，利用目标网络对待光刻图像进行处理，得到粗化掩模图像，利用ILT对粗化掩模图像进行再次处理，得到目标掩模图像，以利用目标掩模图像进行光刻掩模。目标网络为基于...
    2025-09-24
  • 一种掩模版防摔保护方法
    一种掩模版防摔保护方法_青岛芯微半导体科技有限公司_202511102395.0
    本申请涉及半导体技术领域，提供了一种掩模版防摔保护方法，通过在晶圆下方设置由气动元件、延长臂和柔性橡皮劈尖组成的保护设施，在真空吸附失效时，可通过柔性橡皮劈尖快速包裹并卡死下落的掩模版，同时确保掩模版与晶圆保持安全距离；利用气动元件的气路与...
    2025-09-24
  • 一种医用胶片成像仪
    一种医用胶片成像仪_柯尼达控股集团有限公司_202422934992.7
    本实用新型涉及成像仪技术领域，尤其涉及一种医用胶片成像仪。其技术方案包括医用胶片成像仪主体和医用胶片承载盒，所述医用胶片成像仪主体前表面设置有医用胶片出口，所述医用胶片出口内部通过滑轨滑动安装有医用胶片承载盒，所述医用胶片承载盒内壁的底部设...
    2025-09-24
  • 激光投影设备、激光投影设备散热方法和散热装置
    激光投影设备、激光投影设备散热方法和散热装置_青岛海信激光显示股份有限公司_202010996454.4
    本发明公开了一种激光投影设备、激光投影设备散热方法和散热装置，属于成像技术领域。激光投影设备中的温度检测组件用于获取红色激光器运行时的温度；处理组件用于控制散热器对红色激光器进行散热，以使红色激光器的温度位于第一温度值和第二温度值之间，第一...
    2025-09-24
  • 曝光装置以及曝光方法
    曝光装置以及曝光方法_株式会社斯库林集团_202510294962.0
    本发明提供一种技术，该技术在制造多层布线基板的情况下，能够减轻各层间的图案的偏移并且能够减少形成于最外层的图案和设计上的图案的差异。曝光装置(100)具有：载物台(2)，保持形成有基准标记的基板W；基准标记检测部(711)，检测形成于基板W...
    2025-09-24
  • 一种酯型光敏聚酰亚胺复合材料、制备方法及半导体装置
    一种酯型光敏聚酰亚胺复合材料、制备方法及半导体装置_深圳先进电子材料国际创新研究院_202211064479.6
    本申请提供的酯型光敏聚酰亚胺材料及其制备方法，通过引入含有低极性氟原子的氟化石墨烯量子点来降低介电常数，因为氟原子具有强的电负性，可以牢牢的固定电子，从而降低极化率；小尺寸、大比表面积的氟化石墨烯量子点更易在光敏聚酰亚胺基质中均匀分散，从而...
    2025-09-24
  • 光学邻近修正方法
    光学邻近修正方法_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202010999790.4
    一种光学邻近修正方法，包括：提供基底，基底上具有若干缺陷图形；提供初始版图；获取初始图形与缺陷图形的重叠区域；在初始版图中去除重叠区域，获取第一版图；根据重叠区域获取第二版图；对第一版图进行若干次第一光学邻近修正，获取初始第一光学邻近修正版...
    2025-09-24
  • 极紫外光刻用掩模防尘系统的制备方法
    极紫外光刻用掩模防尘系统的制备方法_江苏科麦特科技发展有限公司_202411642565.X
    本发明涉及极紫外光刻用掩模防尘系统的制备方法，包括以下步骤：制备陶瓷框架；制备有机氟聚合物薄膜，测试均匀度；粘合陶瓷框架与有机氟聚合物薄膜；于有机氟聚合物薄膜表面沉积催化剂；石墨烯碳纳米管复合薄膜成型；石墨烯碳纳米管复合薄膜减薄；陶瓷框架下...
    2025-09-24
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510282665.4
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：超原子价铋化合物、羧酸化合物及...
    2025-09-24
  • 用于OPC数据收集的方法及OPC建模方法
    用于OPC数据收集的方法及OPC建模方法_重庆芯联微电子有限公司_202510973509.2
    本发明提供了一种用于OPC数据收集的方法及OPC建模方法，所述用于OPC数据收集的方法包括：对OPC测试光罩图案进行光学仿真，并获取各测试点在光学仿真后的第一尺寸数据；将各测试点的第一尺寸数据与对应的预设尺寸进行比较，将第一尺寸数据在预设尺...
    2025-09-24
  • 一种沉浸式透声内球幕影院
    一种沉浸式透声内球幕影院_深圳市建达强创意科技有限公司_202510945554.7
    本发明涉及一种沉浸式透声内球幕影院，包括基座、连接于基座且沿着基座的经向方向设置的经向框架及连接于经向框架且与基座同轴设置的纬向框架，经向框架设有多个，多个经向框架均连接于基座且平分基座的圆周，经向框架沿着纬度方向开设有多个用于连接纬向框架...
    2025-09-24
  • 动态范围控制电路、音频处理芯片及其音频处理方法
    动态范围控制电路、音频处理芯片及其音频处理方法_上海艾为电子技术股份有限公司_202010864271.7
    本发明公开了一种动态范围控制电路、音频处理芯片及其音频处理方法，具有第一增益支路、第二增益支路和输出模块。所述第一增益支路包括多个串联的第一增益生成模块。第二增益支路，所述第二增益支路包括多个并联的第二增益生成模块。输出模块，所述输出模块用...
    2025-09-24
  • 一种化学增幅型光刻胶及其制备方法
    一种化学增幅型光刻胶及其制备方法_常州格林感光新材料有限公司_202510895443.X
    本发明涉及光刻胶技术领域，尤其涉及一种化学增幅型光刻胶及其制备方法，按照重量份数计，化学增幅型光刻胶的原料包括如下组分：聚（甲基）丙烯酸类聚合物20‑40份；含萘基光敏剂0.1‑2份；位阻型酸扩散控制剂0.1‑1份；流平剂0.05‑0.2份...
    2025-09-24
  • 抗蚀剂组成物、叠层体、及图案形成方法
    抗蚀剂组成物、叠层体、及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510280113.X
    本发明涉及抗蚀剂组成物、叠层体、及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及分辨度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物、具备得自该抗蚀剂组成物的抗蚀剂膜的叠层膜、以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗...
    2025-09-24
  • 用于光致抗蚀剂底层的组合物
    用于光致抗蚀剂底层的组合物_罗门哈斯电子材料韩国有限公司_202210579372.9
    一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含：第一聚合物，该第一聚合物包含可交联基团；第二聚合物，该第二聚合物包含：第一重复单元以及第二重复单元，该第一重复单元包括包含光酸产生剂的重复单元，该第二重复单元包含羟基取代的C1‑30烷...
    2025-09-24
  • 一种无线充项目制造用PIC取代常规CVL+SM的方法
    一种无线充项目制造用PIC取代常规CVL+SM的方法_湖南金康电路板有限公司_202510808412.6
    本发明公开了一种无线充项目制造用PIC取代常规CVL+SM的方法，涉及无线充项目技术领域，包括以下步骤：S1：前处理，对基板已完成线路图形化的铜面进行清洗；S2：PIC真空压膜，采用真空压膜工艺将感光型PIC材料附着于铜基板表面；S3：预烤...
    2025-09-24
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