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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 多光斑零位偏差标定方法
    多光斑零位偏差标定方法_上海微电子装备(集团)股份有限公司_202110750603.3
    本发明提供了一种多光斑零位偏差标定方法，包括：提供基板，所述基板上具有至少四个测量点；调焦调平系统将同一光束依次投影到每个所述测量点上进行第一次测量，所述光束包含至少两个测量光斑，每次投影至所述测量点上时，同一个所述测量光斑与所述测量点对准...
    2025-09-02
  • 调焦调平装置及光刻机
    调焦调平装置及光刻机_上海微电子装备(集团)股份有限公司_202110739483.7
    本发明提供了一种调焦调平装置及光刻机，投影微镜阵列组件的j个投影微镜组将入射至其上的所述检测光束转换为j个投影光斑并投影成像在基底的表面，探测微镜阵列组件的j个探测微镜组分别将j个探测光斑分光后形成j个第一标记光斑和j个第二标记光斑，投影微...
    2025-09-02
  • 应用于图案转移的掩模板及其制备方法、图案转移方法
    应用于图案转移的掩模板及其制备方法、图案转移方法_光科芯图(北京)科技有限公司_202410203903.3
    本发明涉及半导体器件制造领域，具体提供一种应用于图案转移的掩模板及其制备方法、图案转移方法。应用于图案转移的掩模板包括：薄膜窗口结构，薄膜窗口结构具有透射作用；薄膜窗口结构包括半导体衬底、位于半导体衬底的一侧表面的刻蚀停止层以及位于刻蚀停止...
    2025-09-02
  • 厚膜化学增幅正型抗蚀剂组合物及使用其的制造抗蚀剂膜的方法
    厚膜化学增幅正型抗蚀剂组合物及使用其的制造抗蚀剂膜的方法_默克专利有限公司_202380091640.5
    本发明提供一种厚膜化学增幅型正型抗蚀剂组合物。一种厚膜化学增幅型正型抗蚀剂组合物，其包含具有特定结构的碱可溶性树脂(A)、光酸产生剂(B)以及溶剂(C)。
    2025-09-02
  • 掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法
    掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法_HOYA株式会社_202310002958.3
    本发明提供一种掩模坯料(100)，利用由氮化硅系材料形成的单层膜构成的遮光膜(2)具有对于ArF曝光用光的较高的遮光性能，并且能够降低遮光膜的图案的EMF偏差。掩模坯料在透光性基板(1)上具备遮光膜。遮光膜对于ArF曝光用光的光学浓度为3....
    2025-09-02
  • 一种双层调节镜头结构
    一种双层调节镜头结构_深圳市纽尔科技有限公司_202421991598.0
    本实用新型涉及相机配件技术领域，具体涉及一种双层调节镜头结构，包括：第一安装环；第二安装环，与第一安装环可转动连接；第一镜片，与第二安装环同轴设置在第二安装环内；第三安装环，可转动设置在第二安装环内；第二镜片，与第三安装环同轴设置在第三安装...
    2025-09-02
  • 一种化学放大光刻胶及其制备与使用方法
    一种化学放大光刻胶及其制备与使用方法_江苏汉拓光学材料有限公司_202111486540.1
    本发明涉及一种化学放大光刻胶及其制备与使用方法，所述光刻胶包括如下质量百分比的各组分：聚合物树脂，光刻胶的5～10％；光酸，聚合物树脂的4～10％；猝灭剂，光酸的10～40％；UV吸收剂，聚合物树脂的0.5～5％；流平剂，光刻胶的0.1～0...
    2025-09-02
  • 显示装置
    显示装置_深圳光峰科技股份有限公司_202010705583.3
    本发明提供一种显示装置，包括图像处理模块、阵列光源、光源位移模块和成像模块，图像处理模块用于将一帧图像拆分成多个以时分复用方式显示的子帧，每个子帧包括多个像素。阵列光源包括阵列排布的多个光源，多个光源用于一一对应地形成多个光斑，多个光斑对应...
    2025-09-02
  • 曝光装置、显示面板标记系统及标记方法
    曝光装置、显示面板标记系统及标记方法_合肥维信诺科技有限公司_202510559355.2
    本申请适用于曝光装置技术领域，提供了一种曝光装置、显示面板标记系统及标记方法，曝光装置包括：光学投影模块、装载对位模块及打标模块，其中，光学投影模块包括光源组件及掩模版；装载对位模块包括载物台组件及对位组件，载物台组件可移动的设置于掩模版的...
    2025-09-02
  • 遮光罩及铁路巡检设备
    遮光罩及铁路巡检设备_中国铁路北京局集团有限公司北京科学技术研究所_202422623439.1
    本申请涉及一种遮光罩及铁路巡检设备，涉及铁路检测领域。该遮光罩包括遮光框架和连接折弯件；遮光框架围合形成容纳区域，且遮光框架的下边沿安装有滤光片；连接折弯件包括第一连接段、第二连接段和第三连接段，第二连接段的两端分别与第一连接段和第三连接段...
    2025-09-02
  • 一种分数阶涡旋光束相位板及其制备方法
    一种分数阶涡旋光束相位板及其制备方法_上海交通大学_202510926082.0
    本发明提供了分数阶涡旋光束相位板，包括径向相移的透镜相位和分数阶螺旋相位，所述径向相移的透镜相位叠加所述分数阶螺旋相位，得到所述分数阶涡旋光束相位板。本发明还提供了分数阶涡旋光束相位板的制备方法。本发明通过单器件实现了多种分数阶涡旋光束的生...
    2025-09-02
  • 成像镜头驱动模块、相机模块与电子装置
    成像镜头驱动模块、相机模块与电子装置_大阳科技股份有限公司_202422247711.0
    本实用新型公开一种成像镜头驱动模块包含成像镜头、镜头载体、基座、第一和第二球体、对焦组件、缓冲对应件及挠曲缓冲件。成像镜头安装于镜头载体。镜头载体包含平行光轴的第一及第二导引轨道。基座包含平行光轴的第三及第四导引轨道。第一和第二球体分别设置...
    2025-09-02
  • 一种基于矢量全息术生成可调斯格明子阵列的方法
    一种基于矢量全息术生成可调斯格明子阵列的方法_上海理工大学_202510706069.4
    本发明公开了一种基于矢量全息术生成可调斯格明子阵列的方法，包括：S1、通过预设斯格明子阵列空间构型与多个阵元的拓扑态，设计并生成矢量全息图，对入射高斯光束进行相位、幅度及偏振的联合调制，生成多个斯格明子光束的相干叠加场；S2、在构造矢量全息...
    2025-09-02
  • 一种车载抬头显示装置以及汽车
    一种车载抬头显示装置以及汽车_合肥工业大学_202310589991.0
    本发明提供一种车载抬头显示装置，包括：多个全息透镜，设于挡风玻璃上；散射膜，设于所述全息透镜上；散射镜，设于所述散射膜的一侧，所述散射镜包括实像散射镜与虚像散射镜；以及投影仪，设于所述散射镜的一侧；其中，当所述投影仪通过所述实像散射镜、所述...
    2025-09-02
  • 光学邻近校正方法、电子设备及存储介质
    光学邻近校正方法、电子设备及存储介质_全芯智造技术有限公司_202511036765.5
    本公开的实施例涉及光学邻近校正方法、电子设备及存储介质。该方法包括：多个运算核心中的每个运算核心分别引用共享的内存中存储的版图中的待校正区块的相邻区块的信息，以确定相邻区块对待校正区块的影响；基于待校正区块的信息以及影响对待校正区块进行OP...
    2025-09-02
  • 一种曲线图形的联合校正方法、装置、设备及存储介质
    一种曲线图形的联合校正方法、装置、设备及存储介质_华芯程(杭州)科技有限公司_202511033368.2
    本发明涉及集成电路制造领域，特别是涉及一种曲线图形的联合校正方法、装置、设备及存储介质，通过接收目标晶片图案；根据所述目标晶片图案，通过预训练的光学邻近校正模型，确定对应的曲线掩膜图案；根据所述曲线掩膜图案，通过预训练的掩膜工艺校正模型，确...
    2025-09-02
  • 一种等离子体光刻掩模优化方法、装置、设备和介质
    一种等离子体光刻掩模优化方法、装置、设备和介质_中国科学院微电子研究所_202510927389.2
    本申请提供一种等离子体光刻掩模优化方法、装置、设备和介质，S1，获取等离子体光刻成像模型，S2，通过等离子体光刻成像模型进行成像计算，得到目标掩模图案在光刻胶层中的空间像光强分布；S3，基于空间像光强分布和光刻胶层的光刻胶模型，确定在光刻胶...
    2025-09-02
  • 包含多层薄膜的打印系统和方法
    包含多层薄膜的打印系统和方法_陶氏环球技术有限责任公司_202080030863.7
    本公开的实施例涉及打印系统和方法，所述打印系统和方法可以包含油墨组合物和多层薄膜，所述油墨组合物包含分散在烃液体中的带电油墨颗粒。所述多层薄膜可以包含聚合物芯层；以及与所述聚合物芯层相邻的一个或多个打印层。所述一个或多个打印层可以包含至少5...
    2025-09-02
  • 光学临近修正方法及其系统、计算机设备和存储介质
    光学临近修正方法及其系统、计算机设备和存储介质_北京超弦存储器研究院_202410182354.6
    本公开涉及一种光学临近修正方法及其系统、计算机设备和存储介质。该光学临近修正方法，包括：获取光罩的套刻误差；将光罩分割为多个区块，基于光罩的套刻误差分别获取各区块的套刻误差；获取用于光罩的设计版图，根据各套刻误差补偿设计版图，得到设计补偿版...
    2025-09-02
  • 光刻胶转移方法、半导体结构及显示基板
    光刻胶转移方法、半导体结构及显示基板_上海天马微电子有限公司_202510985037.2
    本申请提供了一种光刻胶转移方法、半导体结构及显示基板。该光刻胶转移方法包括：制备第一印章，第一印章包括第一印章基底及贴附于第一印章基底一侧的第一粘附图案；使第一印章的第一粘附图案接触第一光刻胶，第一光刻胶选择性地粘附于第一粘附图案远离第一印...
    2025-09-02
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