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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本发明公开了一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶,属于光刻胶技术领域,所述的抗电镀可快速碱退的负性光刻胶,包括以下质量份的组分:60~80份基体树脂、3~10份光引发剂、7~15份溶剂、5~10份活性稀释剂、3~8份小分子酸单体、0.2~2份流...
  • 本申请实施例公开了一种光刻掩模方法及装置,应用于半导体领域。该方法通过获取待光刻图像,利用目标网络对待光刻图像进行处理,得到粗化掩模图像,利用ILT对粗化掩模图像进行再次处理,得到目标掩模图像,以利用目标掩模图像进行光刻掩模。目标网络为基于...
  • 本申请涉及半导体技术领域,提供了一种掩模版防摔保护方法,通过在晶圆下方设置由气动元件、延长臂和柔性橡皮劈尖组成的保护设施,在真空吸附失效时,可通过柔性橡皮劈尖快速包裹并卡死下落的掩模版,同时确保掩模版与晶圆保持安全距离;利用气动元件的气路与...
  • 本实用新型涉及成像仪技术领域,尤其涉及一种医用胶片成像仪。其技术方案包括医用胶片成像仪主体和医用胶片承载盒,所述医用胶片成像仪主体前表面设置有医用胶片出口,所述医用胶片出口内部通过滑轨滑动安装有医用胶片承载盒,所述医用胶片承载盒内壁的底部设...
  • 本发明公开了一种激光投影设备、激光投影设备散热方法和散热装置,属于成像技术领域。激光投影设备中的温度检测组件用于获取红色激光器运行时的温度;处理组件用于控制散热器对红色激光器进行散热,以使红色激光器的温度位于第一温度值和第二温度值之间,第一...
  • 本发明提供一种技术,该技术在制造多层布线基板的情况下,能够减轻各层间的图案的偏移并且能够减少形成于最外层的图案和设计上的图案的差异。曝光装置(100)具有:载物台(2),保持形成有基准标记的基板W;基准标记检测部(711),检测形成于基板W...
  • 本申请提供的酯型光敏聚酰亚胺材料及其制备方法,通过引入含有低极性氟原子的氟化石墨烯量子点来降低介电常数,因为氟原子具有强的电负性,可以牢牢的固定电子,从而降低极化率;小尺寸、大比表面积的氟化石墨烯量子点更易在光敏聚酰亚胺基质中均匀分散,从而...
  • 一种光学邻近修正方法,包括:提供基底,基底上具有若干缺陷图形;提供初始版图;获取初始图形与缺陷图形的重叠区域;在初始版图中去除重叠区域,获取第一版图;根据重叠区域获取第二版图;对第一版图进行若干次第一光学邻近修正,获取初始第一光学邻近修正版...
  • 本发明涉及极紫外光刻用掩模防尘系统的制备方法,包括以下步骤:制备陶瓷框架;制备有机氟聚合物薄膜,测试均匀度;粘合陶瓷框架与有机氟聚合物薄膜;于有机氟聚合物薄膜表面沉积催化剂;石墨烯碳纳米管复合薄膜成型;石墨烯碳纳米管复合薄膜减薄;陶瓷框架下...
  • 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中,感度及分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物,以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物,含有:超原子价铋化合物、羧酸化合物及...
  • 本发明提供了一种用于OPC数据收集的方法及OPC建模方法,所述用于OPC数据收集的方法包括:对OPC测试光罩图案进行光学仿真,并获取各测试点在光学仿真后的第一尺寸数据;将各测试点的第一尺寸数据与对应的预设尺寸进行比较,将第一尺寸数据在预设尺...
  • 本发明涉及一种沉浸式透声内球幕影院,包括基座、连接于基座且沿着基座的经向方向设置的经向框架及连接于经向框架且与基座同轴设置的纬向框架,经向框架设有多个,多个经向框架均连接于基座且平分基座的圆周,经向框架沿着纬度方向开设有多个用于连接纬向框架...
  • 一种光致抗蚀剂底层组合物,其包含:第一聚合物,该第一聚合物包含可交联基团;第二聚合物,该第二聚合物包含:第一重复单元以及第二重复单元,该第一重复单元包括包含光酸产生剂的重复单元,该第二重复单元包含羟基取代的C1‑30烷...
  • 本发明涉及抗蚀剂组成物、叠层体、及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中,感度及分辨度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物、具备得自该抗蚀剂组成物的抗蚀剂膜的叠层膜、以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗...
  • 本发明公开了一种无线充项目制造用PIC取代常规CVL+SM的方法,涉及无线充项目技术领域,包括以下步骤:S1:前处理,对基板已完成线路图形化的铜面进行清洗;S2:PIC真空压膜,采用真空压膜工艺将感光型PIC材料附着于铜基板表面;S3:预烤...
  • 本发明涉及一类式(I)所示基于四核的有机锡配合物及其在光刻中的应用。所述式(I)所示的化合物既可以作为单组分光刻胶使用,还可以作为添加剂加入到现有的单组分有机锡配合物光刻胶中。其作为单组分光刻胶使用时,具有高的灵敏度和高的分辨率。而作为添加...
  • 一种缺陷检测方法、掩膜版制作方法及半导体结构形成方法,其中缺陷检测方法包括:提供目标版图,所述目标版图中包括若干目标图形,若干所述目标图形均沿第二方向延伸;根据所述目标版图获取待修正图像,所述待修正图像中包括若干待修正图形,所述待修正图形与...
  • 本发明涉及着色感光性树脂组合物技术领域,具体而言,涉及低温着色感光性树脂组合物、着色涂层、彩色滤光片和图像显示装置。低温着色感光性树脂组合物包括着色剂混合物,粘结剂树脂,光聚合性化合物,光聚合引发剂和溶剂。其中,粘结剂树脂由第一粘结剂树脂和...
  • 本申请公开了一种投影系统及其控制方法,属于电子技术领域。该投影系统包括柜体,以及位于柜体中的控制器、投影设备、音箱和麦克风;柜体具有盖体,投影设备用于在盖体打开后进行画面投射;控制器用于:在接收到针对盖体的关闭指令后,通过音箱发出超声波信号...
  • 本发明的目的在于提供一种感光性着色组合物、硬化物、图像显示面板、彩色滤光片、图像显示装置及硬化物的制造方法,所述感光性着色组合物的保存稳定性优异,在图案形成时感度优异且可抑制残渣与逸气的产生。一种感光性着色组合物,包含具有下述式(1)所表示...
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