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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 晶圆调度方法、半导体工艺设备及方法
    晶圆调度方法、半导体工艺设备及方法_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202510866134.X
    本发明提供一种晶圆调度方法、半导体工艺设备及方法。其中，所述晶圆调度方法适用于双专用工作台设备，且在形成晶圆调度表的过程中，对于存在缺片的各个晶圆盒，优先进行同一晶圆盒内的各个载片卡槽的编号的奇偶对组合，再将剩余的载片卡槽的编号进行跨晶圆盒...
    2025-08-29
  • 影视灯
    影视灯_深圳市爱图仕影像器材有限公司_202210646416.5
    本申请属于照明技术领域，更具体地说，是涉及一种影视灯。该影视灯包括壳体、推杆和支架，壳体设有轴向平行于所述影视灯的出光方向的第一通孔，与第一通孔的轴线之间具有夹角的第二通孔；推杆穿设于第一通孔并能够沿第一通孔的轴向运动；支架设置于第一通孔与...
    2025-08-29
  • 一种光源系统以及极紫外光输出方法
    一种光源系统以及极紫外光输出方法_光科芯图(北京)科技有限公司_202410194179.2
    本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种光源系统以及极紫外光输出方法。光源系统包括箍缩装置、收集装置和过滤装置；箍缩装置包括发射装置和电路组件，发射装置开设中心孔道，电路组件的输出端靠近中心孔道设置；收集装置设于发射装置和过滤装置之间，收集装置...
    2025-08-29
  • 投影设备及其投影控制方法
    投影设备及其投影控制方法_深圳光峰科技股份有限公司_202010202309.4
    本发明实施例公开了一种投影设备以及投影控制方法。投影设备包括光源装置、空间光调制器和控制装置。光源装置用于点亮预定的区域。光源装置包括运动机构以及光源模组，运动机构包括驱动件以及连接于驱动件的转动件，转动件能够在驱动件的驱动下绕一中心轴转动...
    2025-08-29
  • 用于光刻图案化的方法、结构和系统
    用于光刻图案化的方法、结构和系统_ASMIP私人控股有限公司_202510180574.X
    用于光刻，特别是极紫外光刻(EUV)的方法、相关结构和相关系统。本公开的方法可以包括形成具有高sp3碳含量的碳底层。本公开的方法可以包括通过循环沉积过程比如等离子体增强原子层沉积形成碳底层。
    2025-08-29
  • 一种中空圆台形多通吸收池
    一种中空圆台形多通吸收池_吉林大学_202510725433.1
    本发明提出一种中空圆台形多通吸收池，涉及气体测量技术领域，中空圆台形多通吸收池包括：中空圆形平面镜、中空圆形凹球面镜、硬塑管、两个三脚镜架、三个支撑杆、两个窗口片、两个压片以及橡胶圈，硬塑管包括内周面和外周面，中空圆形平面镜与中空圆形凹球面...
    2025-08-29
  • 一种单体式快拆系统
    一种单体式快拆系统_梁亮欢_202510957697.X
    本申请涉及摄影器材技术领域，特别是涉及一种单体式快拆系统，包括主体；还包括一端位于所述主体内且另一端突出于所述主体表面的若干活动螺丝块，每个所述活动螺丝块突出于所述主体表面的一端的外侧壁上设有局部螺纹；还包括分别连接每个所述活动螺丝块并使其...
    2025-08-29
  • 一种风控模型稳定性提升方法
    一种风控模型稳定性提升方法_杭银消费金融股份有限公司_202510727522.X
    本发明涉及信用风险评估技术领域，具体为一种风控模型稳定性提升方法，包括对企业的预设风控模型进行识别分析，以确定预设风控模型的信用评估图谱；基于预设稳定性图谱对企业现有预设风控模型的信用评估图谱进行对比分析，查找到企业当前使用的预设风控模型稳...
    2025-08-29
  • 一种不易掉落的背景布
    一种不易掉落的背景布_义乌市德瀚纺织科技有限公司_202422119257.0
    本实用新型公开了一种不易掉落的背景布，包括支架和背景布本体，背景布本体包括两布片，两布片围绕形成有插设腔，支架设于插设腔中，布片的边沿设有连接件，连接件用于两布片边沿的封闭连接。本产品中，连接件可控制两布片边沿的连接状态，保证支架始终位于两...
    2025-08-29
  • 一种抗冲击和振动的光圈结构
    一种抗冲击和振动的光圈结构_佛山柏瑞光电技术有限公司_202510871504.9
    一种抗冲击和振动的光圈结构，包括光圈支撑座、光圈叶片、调节结构，光圈支撑座设有通光孔、第一转动轴、第二转动轴；调节结构包括调节摇柄、驱动结构、转动限位槽；其中，调节摇柄转动连接在第一转动轴，且调节摇柄设有驱动光圈叶片转动的叶片驱动轴；光圈叶...
    2025-08-29
  • 一种超声辅助牙钻打磨的胶片乳剂层粘接病害修复工艺及应用
    一种超声辅助牙钻打磨的胶片乳剂层粘接病害修复工艺及应用_陕西师范大学_202510643662.9
    本发明属于影像文物保护技术领域，具体涉及一种超声辅助牙钻打磨的胶片乳剂层粘接病害修复工艺及应用，包括以下步骤：S1、将待修复样品浸入正丁醇溶液中至界面完全润湿；然后进行超声处理；S2、将超声处理后的待修复样品晾干，固定并采用牙钻沿粘结处的纸...
    2025-08-29
  • 一种重力储能的重力块结构
    一种重力储能的重力块结构_华电科工股份有限公司_202421448390.4
    本实用新型公开了一种重力储能的重力块结构，包括底部横梁和顶部横梁，多跟底部横梁首尾连接构成多边形结构，多跟顶部横梁首尾连接构成多边形结构，底部横梁构成的多边形结构与顶部横梁构成的多边形结构相互平行且两者之间沿各角处竖直设立有侧面立柱，底部横...
    2025-08-29
  • 投影幕
    投影幕_台湾扬昕股份有限公司_202111195752.4
    一种投影幕，包括基材、下表层、中介层以及上表层。下表层位于基材上。下表层的材质包括丙烯酸酯、色浆或碳黑、以及第一型粒子。中介层位于基材上。中介层的材质包括丙烯酸酯以及第二型粒子。上表层位于基材上。上表层的材质包括丙烯酸酯以及第三型粒子。下表...
    2025-08-29
  • 一种光刻机系统及光刻方法
    一种光刻机系统及光刻方法_深圳市笨辉光电科技有限公司_202111544292.1
    本发明涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种光刻机系统及光刻方法。该光刻机系统包括光源模块，光源模块能够发射至少两种能量光束；能量光束调节模块，用于调整能量光束的波长和能量；光学组件模块，光学组件模块用于对能量光束进行共线合轴和聚焦形成贝塞尔光束...
    2025-08-29
  • 光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质
    光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202111216495.8
    一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供设计版图，包括多个设计图形；获取对应设计版图的网格状的初始边界线，初始边界线经过设计图形，且初始边界线与经过的设计图形具有至少两个第一交点；在初始边界线上获取分割点，分割...
    2025-08-29
  • 检测辐射束的光刻设备和方法
    检测辐射束的光刻设备和方法_ASML荷兰有限公司_202080067173.9
    一种被配置为保持衬底的衬底台，包括：多个传感器元件，被配置为检测来自投影系统的辐射束，辐射束形成在衬底水平具有细长形状的照射区域，细长形状具有长边缘和短边缘并且限定纵向方向和垂直于纵向方向的横向方向，传感器元件沿着纵向方向布置，其中多个传感...
    2025-08-29
  • 一种可开门的画框投影幕
    一种可开门的画框投影幕_广州市雄云视听设备有限公司_202422632935.3
    本实用新型涉及画框投影技术领域，公开了一种可开门的画框投影幕，包括画框幕边框，所述画框幕边框设置有两组，所述画框幕边框之间固定连接有两组所述画框支撑杆，所述画框支撑杆的内侧固定连接有门框支撑杆，所述门框支撑杆的顶端安装有门楣主体，所述门框支...
    2025-08-29
  • 紧凑型的单次超快分幅直接成像装置
    紧凑型的单次超快分幅直接成像装置_深圳大学_202510584174.5
    本发明适用于超快光学成像领域，提供了一种紧凑型的单次超快分幅直接成像装置，包括：飞秒激光器；倍频器；分光组件，用于将倍频光和剩余未倍频的基频光进行分光处理；展宽器，用于将基频光进行脉冲展宽，得到信号光；时序空间编码系统，用于将照射物体后的信...
    2025-08-29
  • 标定总成及具有其的曝光装置
    标定总成及具有其的曝光装置_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202421971890.6
    本实用新型公开了一种标定总成及具有其的曝光装置，标定总成包括支架、标定件和导光件，支架上设有安装槽；标定件设于安装槽上；导光件设于安装槽上且导光件设于标定件的出光侧，导光件用于调整标定件的标定光束延伸路径。通过在标定件的出光侧对应设置有导光...
    2025-08-29
  • 用于推断诸如焦距的处理参数的方法和相关联装置和制造方法
    用于推断诸如焦距的处理参数的方法和相关联装置和制造方法_ASML荷兰有限公司_202080075093.8
    公开了一种推断光刻工艺的第一处理参数的值的方法，第一处理参数受制于第二处理参数的耦合相关性。方法包括根据测量数据确定第一度量和第二度量，第一度量和第二度量中的每一者取决于第一处理参数和第二处理参数两者。第一度量表示与第二处理参数相比对第一处...
    2025-08-29
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