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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种光刻机上版夹具
    一种光刻机上版夹具_安徽国芯光刻技术有限公司_202422345402.7
    本实用新型公开了一种光刻机上版夹具，包括桌台、通过转轴转动设置于桌台顶部的转盘，所述转盘上固定连接有涡状条，所述涡状条上方设置有四个呈X型分布的驱动条，所述驱动条底部固定连接有多个驱动齿，所述驱动齿卡接在涡状条上，所述驱动条远离转盘一端固定...
    2025-09-04
  • 曝光装置、其控制方法、信息处理装置和信息处理方法
    曝光装置、其控制方法、信息处理装置和信息处理方法_佳能株式会社_202510216588.2
    本发明提供了曝光装置、其控制方法、信息处理装置和信息处理方法。该曝光装置用于通过投影光学系统将原版的图案投影到曝光区域来对基板的曝光区域进行曝光，所述曝光装置包括：测量系统，其被构造为测量在曝光区域中的多个测量点中的各个测量点处基板的高度；...
    2025-09-04
  • 一种稳定开合的快门
    一种稳定开合的快门_佛山柏瑞光电技术有限公司_202510731777.3
    本发明公开一种稳定开合的快门，包括安装框，具有相对的第一面和第二面，安装框上设有视窗；叶片组转动设于第一面上，叶片组上设有导向槽；摇柄转动设于第二面上，第二面上设有开槽，摇柄具有异型端，异型端穿过开槽与导向槽滑动连接；驱动件的固定端固定于第...
    2025-09-04
  • 一种投影显示设备及其投影光机
    一种投影显示设备及其投影光机_杭州光粒科技有限公司_202011540741.0
    本发明公开了一种投影显示设备的投影光机，包括光源部件、光波导、图像源芯片和投影镜头；光波导为板状结构，光波导的第一端的表面设有耦入元件，光波导的第二端的表面设有耦出元件；光波导用于通过耦入元件将光源部件输出的光线耦入至光波导内，光线传导至光...
    2025-09-04
  • 晶圆面型的检测及补偿方法、系统、装置、介质和程序
    晶圆面型的检测及补偿方法、系统、装置、介质和程序_智慧星空(上海)工程技术有限公司_202510980999.9
    本发明公开了一种晶圆面型的检测及补偿方法、系统、装置、介质和程序，方法包括：对晶圆进行扫描，得到多组原始数据；对所有的原始数据进行滤波处理，得到扫描条带数据；对晶圆进行曝光，并对曝光位的扫描条带数据进行预设补偿值的动态补偿，得到曝光条带数据...
    2025-09-04
  • 一种多目摄像头测试方法、系统及存储介质
    一种多目摄像头测试方法、系统及存储介质_江西盛泰精密光学有限公司_202211224314.0
    本发明涉及摄像头测试技术领域，具体为一种多目摄像头测试方法、系统及存储介质，该方法包括：S1：获取待测模组在测试过程中采集的原始Raw图；S2：根据原始Raw图进行图像识别出每个摄像头的几何中心所在格子的四个角点坐标，并计算原始Raw图的几...
    2025-09-04
  • 市政污水管网动态排水系统及控制方法
    市政污水管网动态排水系统及控制方法_苏州凯达市政景观建设有限公司_202510640876.0
    本申请涉及城市排水管理技术领域，公开了市政污水管网动态排水系统及控制方法，其中系统包括：污水管网，中央控制器，泵站，阀门，边缘控制终端；控制方法包括以下步骤：从布设在污水管网中的多个传感器中获取实时数据，所述多个传感器包括流量传感器、水位传...
    2025-09-04
  • 投影仪
    投影仪_精工爱普生株式会社_202510215598.4
    投影仪。提供能提高检测光的检测精度的投影仪。投影仪具备：外装壳体，其具有分别设有投射口和通过口的第1面；投射光学装置，其经由投射口投射图像光；罩，其具有透光性，设于通过口；以及测距装置，其经由罩射出和接收检测光，投射光学装置具有前透镜，在将...
    2025-09-04
  • 一种提升光刻胶均匀性的光刻胶生产方法及系统
    一种提升光刻胶均匀性的光刻胶生产方法及系统_北京北旭电子材料有限公司_202510726110.4
    本申请提出了一种提升光刻胶均匀性的光刻胶生产方法及系统，其中方法包括：获得预设胶液配方的旋涂转速区间时序信息和温湿度区间时序信息，结合旋涂转速区间时序信息和温湿度区间时序信息，配置光刻胶生产控制边界条件；统计厚度均匀性系数和表面粗糙度均匀性...
    2025-09-04
  • 一种光阻喷头装配工具和光刻系统
    一种光阻喷头装配工具和光刻系统_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202422581293.9
    本申请涉及半导体集成电路制造装备领域，公开了一种光阻喷头装配工具和光刻系统，包括：用于容纳光阻喷头的工具主体，包括至少两个套设并连接的装配单元体；摩擦结构，位于相邻两个装配单元体之间；连接部件，与底部的装配单元体的内壁连接；具有刻度的旋转部...
    2025-09-04
  • 一种浮重力发电装置
    一种浮重力发电装置_上海沃能环保科技有限公司_202510580954.2
    本发明公开了一种浮重力发电装置，包括浮塔，浮塔内部充有水，浮塔下部设有阀门，阀门关闭时将浮塔下部隔开形成浮塔底仓，浮塔底仓设有浮球入口以及将浮球入口开/关的底仓阀门二，储水仓位于浮塔底仓下方，用于接收浮塔底仓排放的水，并通过抽水泵将接收的水...
    2025-09-04
  • 影像信号传送装置及信号输出电路
    影像信号传送装置及信号输出电路_瑞昱半导体股份有限公司_202110233979.7
    本申请公开一种影像信号传送装置及其具有直流增益维持机制的信号输出电路，应用于影像信号传送装置中，包括：前级驱动电路以及后级驱动电路。前级驱动电路包括具有可变电容的连续时间线性均衡器，并配置以接收数字输入信号进行高频强化，以提升数字输入信号的...
    2025-09-04
  • 感光性组合物及其应用
    感光性组合物及其应用_爱天思株式会社_202410218924.2
    本发明的目的在于提供一种组合物不易析出、可形成经时稳定性及低温煅烧工序后的耐溶剂性良好、耐高温高湿性优异的硬化膜的感光性组合物及其应用。一种感光性组合物，包含色素(A)、碱可溶性树脂(B)、聚合性化合物(C)、光聚合引发剂(D)、及溶剂(E...
    2025-09-04
  • 一种可重配置超宽带高精度可变增益放大器核心电路
    一种可重配置超宽带高精度可变增益放大器核心电路_网络通信与安全紫金山实验室_202111532535.X
    本发明公开了一种可重配置超宽带高精度可变增益放大器核心电路，该可变增益放大器核心电路主要包括三级宽带可变增益单元以及数字可控电流源阵列。该电路采用新型的增益控制方式，不仅实现了高精度的增益精确控制，而且使得增益粗调和增益细调完全独立，大大减...
    2025-09-04
  • 一种基于远程在线监测技术的动态称重设备检定方法
    一种基于远程在线监测技术的动态称重设备检定方法_福建省计量科学研究院(福建省眼镜质量检验站)_202510605718.1
    一种基于远程在线监测技术的动态称重设备检定方法，包括：对全部动态称重设备获取一系列参考称重值TMVref1，选取其中一批车辆总重计量性能稳定的参考动态称重设备称重结果形成一组参考称重值TMVref2
    2025-09-04
  • 玻璃基板、黑色矩阵基板和显示面板
    玻璃基板、黑色矩阵基板和显示面板_AGC株式会社_202310259391.8
    本发明涉及玻璃基板、黑色矩阵基板和显示面板。本发明涉及一种玻璃基板，其具有一对主表面和端面，其中，将从主表面起算的深度0.1μm～深度0.3μm的区域内的Sn原子浓度设为玻璃基板表层部的Sn原子浓度、并将从主表面起算的深度9.0μm～深度9...
    2025-09-04
  • 一种适配温室大棚的集约化雨水收集系统及方法
    一种适配温室大棚的集约化雨水收集系统及方法_山东省水利科学研究院_202510937034.1
    本发明提出了一种适配温室大棚的集约化雨水收集系统及方法，属于雨水收集技术领域。系统包括大棚主体与前墙侧的弃流组件，弃流组件含带开口的箱体及可翻转箱盖。未下雨时箱盖闭合防杂物；降雨初期，箱盖闭合使初期雨水经箱体与前墙间的过流通道排走，实现弃流...
    2025-09-04
  • 一种偏振片可调向摄像头
    一种偏振片可调向摄像头_杭州途视信息技术有限公司_202422675500.7
    一种偏振片可调向摄像头，涉及摄像头设备技术领域，包括外壳及其内的镜头本体和镜头安装架，外壳包括摄像头舱体和保护前盖，保护前盖中间设置有镜头通道；所述镜头本体设置有偏振片，外壁等距分布有若干条螺旋导向槽；所述镜头安装架顶部设置有驱动电机，驱动...
    2025-09-04
  • 成像设备
    成像设备_武汉高德智感科技有限公司_202422621416.7
    本实用新型涉及成像设备技术领域，提供了一种成像设备，包括主机以及安装于所述主机上的安装模块，还包括导向结构和定位结构，所述主机具有供所述安装模块的凸出部可拆卸插设的凹陷部，所述导向结构和所述定位结构均安设于所述凹陷部和所述凸出部的配合面上。...
    2025-09-04
  • 研磨的二氧化硅和包括其的液体可辐射固化组合物
    研磨的二氧化硅和包括其的液体可辐射固化组合物_赢创运营有限公司_202380084085.3
    气相法或沉淀二氧化硅，其在第一压缩研磨步骤中被研磨至振实密度为气相法或沉淀二氧化硅的初始振实密度的200％‑1200％，并且在第二膨胀研磨步骤中被研磨至振实密度为在第一压缩研磨步骤之后的振实密度的10％至50％。
    2025-09-04
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