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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 驱动组件和可变焦摄像模组
    驱动组件和可变焦摄像模组_宁波舜宇光电信息有限公司_202111414230.9
    公开了一种驱动组件和可变焦摄像模组，其中，所述驱动组件中用于引导载体移动的引导装置由特殊材料制成以与磁吸构件相配合产生使得所述引导装置被定位地保持于预设位置的磁吸作用力，这样所述引导装置能够在平稳地引导镜头载体的移动。
    2025-09-10
  • 紫外单倍率投影曝光光刻镜头结构
    紫外单倍率投影曝光光刻镜头结构_成都联江科技有限公司_202210639268.4
    本发明公开一种紫外单倍率投影曝光光刻镜头结构，包括观察镜筒、旋转件、伸缩筒及传动结构，所述观察镜筒形成有沿第一方向贯通设置的第一腔体，所述旋转件沿第二方向所处轴线转动设置于所述观察镜筒，且所述旋转件具有沿径向呈延展设置的旋转驱动部，所述伸缩...
    2025-09-10
  • 相机胶卷冲洗装置
    相机胶卷冲洗装置_深圳市神牛摄影器材有限公司_202422833714.2
    本实用新型提供了一种相机胶卷冲洗装置，包括主机体及旋切组件，主机体用于冲洗相机胶卷：旋切组件连接至主机体，旋切组件包括外壳及切刀，外壳内部形成有用于安装相机胶卷的安装腔体，外壳位于安装腔体的一侧具有边沿部；切刀活动设置于外壳的内部，边沿部靠...
    2025-09-10
  • 一种可变光圈顶盖及可变光圈机构
    一种可变光圈顶盖及可变光圈机构_睿恩光电有限责任公司_202422820913.X
    本实用新型公开了一种可变光圈顶盖，包括环形的顶盖本体以及嵌合在顶盖本体上的环形加强件；所述环形加强件的材质强度高于顶盖本体材质强度。具有上述结构的可变光圈顶盖，利用强度更高的环形加强件与顶盖本体嵌合，使得顶盖本体的强度随之增加，从而在进行光...
    2025-09-10
  • 一种封装基板曝光台面治具
    一种封装基板曝光台面治具_上海美维科技有限公司_202422767119.3
    本实用新型提供一种封装基板曝光台面治具，该曝光台面治具为单层垫板，杜绝了叠置的双层结构存在厚度不均、容易夹杂异物的问题，保证封装基板放置于台面治具时的平整度，使得曝光良率得到显著提升。同时，还针对治具中用于抽真空的圆形通孔进行优化设计，将圆...
    2025-09-10
  • 基于PCM隔绝内部温度波动的温控装置和控制方法
    基于PCM隔绝内部温度波动的温控装置和控制方法_浙江大学_202211399963.4
    本发明公开了一种基于PCM隔绝内部温度波动的温控装置和控制方法。温控装置底部与被控物体接触，由PCM相变介质进行吸热控温，在被PCM相变介质四面包裹的微流道中通入冷却介质，通过协同控制算法使PCM维持在相变温度，利用相变潜热等温吸热的特性抑...
    2025-09-10
  • 一种高温环境下的镜头保护装置
    一种高温环境下的镜头保护装置_长沙理工大学_202422896129.7
    本实用新型涉及一种高温环境下的镜头保护装置，属于镜头保护技术领域，该一种高温环境下的镜头保护装置，包括镜管和保护组件，镜管的镜头插入保护组件内，保护组件包括气流分布结构体，气流分布结构体内开设有气流循环腔室，镜管的镜头位于气流循环腔室内，气...
    2025-09-10
  • 用于光刻胶曝光的装置、设备、系统和方法以及光刻设备
    用于光刻胶曝光的装置、设备、系统和方法以及光刻设备_张江国家实验室_202410239180.2
    本申请涉及用于光刻胶曝光的装置、设备、系统和激光加工系统。该装置包括：基板，基板上形成有光刻胶层，其中基板被布置成使得相干EUV光辐射的第一部分入射到光刻胶层的第一区域；以及EUV反射镜，其中EUV反射镜被布置成使得相干EUV光辐射的第二部...
    2025-09-10
  • 一种多功能背景板
    一种多功能背景板_江苏领印数码科技有限公司_202422888542.9
    本实用新型提供了一种多功能背景板，其包括顶盒，所述顶盒的顶端开设有多个吊装孔，所述顶盒的内部固定安装有第一电机，所述第一电机的输出端连接有转轴，所述顶盒的底端固定连接有垫圈，所述顶盒的底部设有底盒，所述底盒的内部设有卷轴，所述卷轴上转动连接...
    2025-09-10
  • 显影机及显影方法
    显影机及显影方法_广东中图半导体科技股份有限公司_202511009427.2
    本发明属于半导体技术领域，公开了显影机及显影方法。显影机包括机台、显影台、吸附组件以及升降驱动件。显影台设置于机台并具有容纳显影液的显影池；吸附组件滑动连接于机台并位于显影池上方，吸附组件用于吸附晶圆的背面；升降驱动件与吸附组件连接以驱动吸...
    2025-09-10
  • 热矫正装置、对准偏差矫正系统以及光刻设备
    热矫正装置、对准偏差矫正系统以及光刻设备_中国科学院光电技术研究所_202510975548.6
    本公开提供一种热矫正装置、对准偏差矫正系统以及光刻设备，涉及半导体设备技术领域。热矫正装置包括：吸盘，吸盘第一表面上设有阵列排布的多个凸起和围设于多个凸起外围的密封环，各个凸起中设有凹槽，凹槽中设有贯穿吸盘第一表面和第二表面的第一通孔，第一...
    2025-09-10
  • 光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质
    光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202111416385.6
    一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，方法包括：提供初始版图层，包括多个沿第一方向排布的图形行，每个图形行均包括沿第二方向规律排布的多个图形，第一方向垂直于第二方向；将初始版图层拆分为第一版图层和第二版图层，将间隔相邻的图形行...
    2025-09-10
  • 光掩模、光掩模的制造方法、显示装置用器件的制造方法
    光掩模、光掩模的制造方法、显示装置用器件的制造方法_HOYA株式会社_202110095839.8
    本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、显示装置用器件的制造方法，提供具有通过利用曝光装置进行曝光而将微细的线条图案转印至被转印体上的优异的转印性能的光掩模。一种在透明基板上具备转印用图案的显示装置制造用的光掩模，其中，转印用图案包含线条图案。...
    2025-09-10
  • 投影设备
    投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202010647723.6
    本申请实施例公开了一种投影设备，属于投影技术领域。该投影设备包括：光学引擎和投影屏幕；投影屏幕包括基座、控制机构、幕片、导向辊、传动机构和驱动电机；控制机构固定在基座上，控制机构用于撑起幕片；基座具有位置相对的两个第一导向槽，导向辊的两端分...
    2025-09-10
  • 具有基体和至少一个旋转单元的驱动装置
    具有基体和至少一个旋转单元的驱动装置_犹斯姆有限公司_202480008756.2
    在一种具有基体和至少一个旋转单元的驱动装置中，其中，所述旋转单元具有至少一个被驱动的驱动轴，其中，所述驱动轴驱动至少一个旋转体，其中，所述旋转体具有至少两个摆动重量，其中，所述摆动重量布置成能够相对于所述驱动轴径向滑移，其中，所述摆动重量布...
    2025-09-10
  • 一种多重物组合式重力储能系统
    一种多重物组合式重力储能系统_聊城唐发储能科技有限公司_202422398244.1
    本实用新型属于重力储能系统技术领域，尤其是一种多重物组合式重力储能系统，针对现有的重力储能系统因为无法有效的对重物进行夹持固定，从而导致在转化重力势能的过程中，重物从移动平台上滚落，造成转化效果不好的问题，现提出如下方案，其包括：底座；升降...
    2025-09-10
  • 方孔图形的光学邻近校正方法
    方孔图形的光学邻近校正方法_上海华力集成电路制造有限公司_202210936271.2
    本发明提供一种方孔图形的光学邻近校正方法，提供待光学邻近校正的目标图形，选取出其中距周围图形距离小于设定值的每个方孔图形；在方孔图形每相邻两条边上分别设有一互不重叠的折线段；在每个折线段上且靠近折线段两顶点的位置设置至少一个光强采样点；利用...
    2025-09-10
  • 一种筒式投影机用壳体
    一种筒式投影机用壳体_江苏复芯云物联科技有限公司_202421988699.2
    本实用新型公开了一种筒式投影机用壳体，包括柱状结构的前置壳体和后置壳体，前置壳体与后置壳体的外周表面顺接，后置壳体的一端内周开设限位槽，限位槽容纳一密封圈，密封圈露出限位槽和后置壳体，前置壳体的内周设置若干条形凸筋，条形凸筋的一端一体成型大...
    2025-09-10
  • 用于光刻胶曝光的样品台和系统以及光刻设备
    用于光刻胶曝光的样品台和系统以及光刻设备_张江国家实验室_202410239260.8
    本申请涉及用于光刻胶曝光的样品台和系统以及光刻设备。该样品台包括：样品转盘，具有多个安装位置，其中多个曝光组件被分别固定在多个安装位置上；旋转装置，配置成使样品转盘绕旋转轴旋转以使得多个曝光组件中的一个曝光组件处于工作区域；移动装置，配置成...
    2025-09-10
  • 一种基于谐振腔的微波等离子体EUV光源
    一种基于谐振腔的微波等离子体EUV光源_电子科技大学_202411935554.0
    本发明公开了一种基于谐振腔的微波等离子体EUV光源，包括微波及出光共形系统、微波馈入系统、工质供给系统和腔体冷却系统，其中微波及出光共形系统采用球形谐振腔作为微波能量耦合和等离子体产生的核心结构，并通过在谐振腔内表面引入微波亚波长尺寸的镂空...
    2025-09-10
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