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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本发明属于半导体技术领域,公开了显影机及显影方法。显影机包括机台、显影台、吸附组件以及升降驱动件。显影台设置于机台并具有容纳显影液的显影池;吸附组件滑动连接于机台并位于显影池上方,吸附组件用于吸附晶圆的背面;升降驱动件与吸附组件连接以驱动吸...
  • 本公开提供一种热矫正装置、对准偏差矫正系统以及光刻设备,涉及半导体设备技术领域。热矫正装置包括:吸盘,吸盘第一表面上设有阵列排布的多个凸起和围设于多个凸起外围的密封环,各个凸起中设有凹槽,凹槽中设有贯穿吸盘第一表面和第二表面的第一通孔,第一...
  • 一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质,方法包括:提供初始版图层,包括多个沿第一方向排布的图形行,每个图形行均包括沿第二方向规律排布的多个图形,第一方向垂直于第二方向;将初始版图层拆分为第一版图层和第二版图层,将间隔相邻的图形行...
  • 本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、显示装置用器件的制造方法,提供具有通过利用曝光装置进行曝光而将微细的线条图案转印至被转印体上的优异的转印性能的光掩模。一种在透明基板上具备转印用图案的显示装置制造用的光掩模,其中,转印用图案包含线条图案。...
  • 本申请实施例公开了一种投影设备,属于投影技术领域。该投影设备包括:光学引擎和投影屏幕;投影屏幕包括基座、控制机构、幕片、导向辊、传动机构和驱动电机;控制机构固定在基座上,控制机构用于撑起幕片;基座具有位置相对的两个第一导向槽,导向辊的两端分...
  • 在一种具有基体和至少一个旋转单元的驱动装置中,其中,所述旋转单元具有至少一个被驱动的驱动轴,其中,所述驱动轴驱动至少一个旋转体,其中,所述旋转体具有至少两个摆动重量,其中,所述摆动重量布置成能够相对于所述驱动轴径向滑移,其中,所述摆动重量布...
  • 本实用新型属于重力储能系统技术领域,尤其是一种多重物组合式重力储能系统,针对现有的重力储能系统因为无法有效的对重物进行夹持固定,从而导致在转化重力势能的过程中,重物从移动平台上滚落,造成转化效果不好的问题,现提出如下方案,其包括:底座;升降...
  • 本发明提供一种方孔图形的光学邻近校正方法,提供待光学邻近校正的目标图形,选取出其中距周围图形距离小于设定值的每个方孔图形;在方孔图形每相邻两条边上分别设有一互不重叠的折线段;在每个折线段上且靠近折线段两顶点的位置设置至少一个光强采样点;利用...
  • 本申请涉及光学镜头技术领域,公开了一种双镜头产品定位机构,包括载台和设置于载台的载板、浮动压板、两组第一驱动模块、两组第二驱动模块以及第三驱动模块。载板设有定位槽,用于放置双镜头产品。第一驱动模块包括第一推杆、缓冲组件以及第一驱动装置,第一...
  • 本申请公开了一种多级冗余伺服控制系统及控制方法,控制系统包括:余度控制模块、舵机控制模块和位置采集模块。余度控制模块的各个余度控制器相互通信,基于第一选定机制确定某一余度控制器为主余度控制器,确定其他余度控制器为从余度控制器;主余度控制器根...
  • 本实用新型公开了一种筒式投影机用壳体,包括柱状结构的前置壳体和后置壳体,前置壳体与后置壳体的外周表面顺接,后置壳体的一端内周开设限位槽,限位槽容纳一密封圈,密封圈露出限位槽和后置壳体,前置壳体的内周设置若干条形凸筋,条形凸筋的一端一体成型大...
  • 本申请涉及用于光刻胶曝光的样品台和系统以及光刻设备。该样品台包括:样品转盘,具有多个安装位置,其中多个曝光组件被分别固定在多个安装位置上;旋转装置,配置成使样品转盘绕旋转轴旋转以使得多个曝光组件中的一个曝光组件处于工作区域;移动装置,配置成...
  • 本发明公开了一种基于谐振腔的微波等离子体EUV光源,包括微波及出光共形系统、微波馈入系统、工质供给系统和腔体冷却系统,其中微波及出光共形系统采用球形谐振腔作为微波能量耦合和等离子体产生的核心结构,并通过在谐振腔内表面引入微波亚波长尺寸的镂空...
  • 本申请公开了一种增益调节电路、方法和电子设备,涉及射频领域,能够通过减少LNA的导通数量,实现在低功耗LNA的基础上调节增益。该增益调节电路中的每个LNA的第一端、第二端、偏置端、控制端、接地端均分别与LNA模组的第一端、第二端、偏置端、控...
  • 本发明提供了一种基于双MCU的电池簇管理系统的故障检测方法及系统,该方法中首先进行主MCU和从MCU之间的通讯检测,之后进行主MCU的任务监督故障检测;主MCU执行BMS的关键任务,从MCU负责监控各任务的执行状态,当任务出现堵塞或者逻辑错...
  • 本发明公开了一种改善光刻图形与掩模版上图形的偏差的方法,包括以下步骤:步骤S1,建立PW OPC模型,收集曝光辅助图形主要参数的安全范围,并利用模型及OPC结果检查程序,将得到的工艺波动带宽值用作工艺窗口大小的评判标准;步骤S2,选出测试图...
  • 一种可变光圈装置(1000),包括基座(10)、转动件(20)、叶片组(40)和驱动单元(30)。转动件(20)被构造为能够产生相对于基座(10)的转动。叶片组(40)包括多个叶片(41),其被可转动地安装于基座(10)和被可滑动地连接于转...
  • 本发明涉及光学元器件加工技术领域,尤其涉及一种EUV光刻机光源系统中凹面镜表面钆去除装置及方法。装置包括:反应池的侧壁和底部分别设有注液口和排液口;凹面真空载台通过载台支架伸入反应池的内槽;凹面真空载台包括带有气孔的凹面真空吸盘和硅胶复合膜...
  • 本发明属于半导体器件的加工工艺,涉及属于其所用材料,具体涉及一种适用多种结构的水性剥离液及其制备方法和应用。本发明的剥离液,其包括以下重量份的组分:有机胺化合物9~10份、有机溶剂60~70份、缓蚀剂0.5~1份、改性EDTA复合物0.5~...
  • 本申请公开一种基于倏逝波场强衰减特性调制式的光学邻近效应校正方法及装置,涉及光刻分辨率增强技术领域。方法包括:通过对光刻胶内倏逝波的场强衰减特性进行建模分析,确定近场光学邻近效应对目标图形的有效作用范围;将目标图形作为表面等离子体光刻的输入...
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