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  • 本发明涉及硅单晶炉技术领域, 具体涉及一种连续加料装置及加料速度控制方法, 其中加料装置包括竖直安装在单晶炉上并延伸至坩埚上方的进料管, 以及滑动安装在单晶炉一侧设置的机架上的料仓, 料仓底部设置有竖直的出料管, 出料管的输出端与进料管的输...
  • 本发明属于半导体材料制备技术领域, 本发明提供了一种碳化硅晶体及其生长装置与生长方法, 所述生长装置设置有主副坩埚;其中, 所述主坩埚的内部包括碳化硅原料区及第一气相传输区, 用于碳化硅的晶体生长反应;所述副坩埚的内部包括硅补充原料区及第二...
  • 本发明涉及碳化硅晶体加工技术领域, 更具体的公开了一种碳化硅晶体生长设备, 包括定位底座, 所述定位底座的顶部固定连接有加热炉体, 所述加热炉体的顶部安装有顶部密封盖, 所述定位底座的顶部安装有石墨坩埚组件;本发明将需要进加工的碳化硅原料放...
  • 本申请公开了一种分子束外延系统的钼托组件, 涉及半导体技术, 包括:钼托本体, 材料为钼, 呈环状结构, 所述钼托本体内环设置有台面结构, 所属钼托结构底部配有氮化硼(PBN)环状结构, 所述钼托本体内环的台面结构的规格与晶圆结构的规格相适...
  • 本发明提供了一种寄生碳化硅的去除方法, 包括采用甲硅烷和含氢气和氟化氢气体的无氧清洁气体, 保持清洁腔室内的清洁温度不低于1300摄氏度, 清洁压力不低于100mbar下去除寄生碳化硅, 有利于提升清洁速率。利用氢气对氟化氢气体起到稀释作用...
  • 本发明公开一种半导体工艺腔室及半导体设备, 所公开的半导体工艺腔室包括腔室本体和设置于腔室本体内的基座、预热环和环形内衬, 腔室本体通过基座分为第一腔室和第二腔室;环形内衬环绕基座设置, 且与基座之间形成环形间隙;预热环与环形内衬连接, 且...
  • 本发明公开了一种多梯度电流与甲烷协同调控的单晶金刚石形核方法, 包括:将具有Ir薄膜的氧化物复合衬底置于形核试验用MPCVD设备的腔室内, 对Ir薄膜进行氢刻蚀清洗;向腔室内通入预设体积分数的甲烷气体, 并使甲烷气体与腔室内的气体充分混匀;...
  • 本发明公开了一种在非金属衬底上生长磷烯的方法, 采用分子束外延技术, 在高真空环境下以磷化铟为前驱体, 在外延生长的硅衬底上生长磷烯, 实现对磷烯生长过程的精确控制。步骤包括:在新鲜剥离的云母表面沉积金层并进行离子清洗和退火处理获得洁净的 ...
  • 本发明公开了一种重掺硼直拉硅外延片的内吸杂工艺, 包括步骤:1)将重掺硼直拉硅片在惰性气氛下进行高温预处理, 包括依次进行高温快速热处理和高温普通热处理;2)硅片进行抛光消除表面损伤层;3)沉积轻掺外延层或本征外延层制得所述外延片。所述外延...
  • 本申请涉及用于制备多晶碳化硅的装置和方法、多晶碳化硅及其应用。该装置包括:坩埚;石墨基板, 设置于坩埚且位于坩埚的上部;气道结构, 设置于坩埚, 用于向坩埚内通气;挡板, 设置于坩埚内, 与石墨基板具有间隔且投影覆盖石墨基板, 挡板与坩埚的...
  • 本申请属于晶体生长领域, 公开了一种单晶金刚石及其生长方法, 该单晶金刚石, 由籽晶在持续通入氢气和氧气的氛围下循环刻蚀、生长得到, 所述单晶金刚石的长度≥10.5mm。本申请得到的单晶金刚石长度超过10.5mm且能够避免多晶化严重的问题,...
  • 本发明提出了一种锡铅混合卤化物晶体及其制备方法, 属于锡铅混合卤化物光电材料技术领域, 本发明在真空密封条件下, 通过高温熔融反应实现SnX2与PbX2的晶格混合, 制备出晶格均一、抗氧化性优良的PbxSn2‑xX4晶体。真空环境有效隔绝了...
  • 本发明涉及一种钬镨掺杂的无序高熵氟化物中红外激光晶体及其制备方法, 所述晶体的化学式为Ho, Pr : Me1Me2CaSrBaF12, 其中钬的掺杂浓度为0.5~1.5at.%, 镨的掺杂浓度为0.05~0.15at.%, Me1和Me2...
  • 本发明涉及一种钬镨掺杂的无序中熵氟化物中红外激光晶体及其制备方法, 所述晶体的化学式为Ho, Pr : CaSrBaF6或Ho, Pr : MeCaSrBaF9, 其中钬的掺杂浓度为0.5~1.5at.%, 镨的掺杂浓度为0.05~0.15...
  • 本发明涉及基于液氮温控的碳化硅晶锭激光剥离方法及系统, 属于晶体加工技术领域, 包括以下步骤:通过单脉冲激光对碳化硅晶锭的内部形成轻微分裂的改质层;通过液氮喷头对改质层进行冷冻处理, 在改质层上部形成冷区, 改质层下部为热区;冷区与热区之间...
  • 本发明公开了碳化硅长晶炉用保温筒, 涉及碳化硅长晶炉技术领域, 其技术方案要点包括拼接条, 所述拼接条为圆弧状结构, 至少两个所述拼接条沿圆周方向等距拼接排列组合形成圆筒状主体结构, 且相邻两个拼接条之间预留有间歇, 以减少环形电流导致的自...
  • 本申请公开一种拓扑晶体绝缘体结构及其制备方法。拓扑晶体绝缘体结构由下至上依次包括:CdTe基底、第一Pb0.98Eu0.02Te薄膜、SnTe薄膜、第二Pb0.98Eu0.02Te薄膜;其中, 所述第一Pb0.98Eu0.02Te薄膜和所述...
  • 本发明公开了一种基于微胶囊分散与控温策略的熔融纺丝工艺方法及系统, 涉及熔融纺丝的技术领域, 其中方法包括制备步骤、给料步骤、控制步骤、汇流步骤、纺丝步骤和冷却成型步骤, 系统包括芯层注入模块、皮层输送模块、控温模块、控压模块、皮芯复合纺丝...
  • 本发明公开了一种电子与光电子纤维拉丝塔, 属于电子与光电子纤维拉丝技术领域, 包括塔体、悬挂系统、馈丝系统、加热系统、测径系统、牵伸系统、收丝系统以及属性赋予系统, 悬挂系统驱动预制棒空间移动和旋转;馈丝系统向预制棒馈送内芯丝;加热系统用于...
  • 本申请涉及纺织材料技术领域, 尤其涉及一种可再生纤维棉及其制备方法。一种可再生纤维棉, 包括:纤维主体层, 由长度为15‑25mm的莱赛尔纤维构成;中空微管结构, 通过纺丝工艺形成, 占单丝截面积的30%;表面改性层, 为厚度1‑2μm的疏...
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