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最新专利技术
  • 一种模压镜头的检测设备及方法
    一种模压镜头的检测设备及方法_广东金鼎光学技术股份有限公司_202510953155.5
    本发明涉及镜头检测技术领域， 且公开了一种模压镜头的检测设备及方法， 包括：S1、预制镜片基体， 将镜片基体进行界面强化处理及深低温稳定化后， 进行在轴旋转镀膜， 生成镀膜镜片；S2、对所述镀膜镜片进行三维光场扫描检测， 获取镀膜镜片的膜厚...
    2026-02-05
  • 带有遮光膜的基板的制造方法
    带有遮光膜的基板的制造方法_日铁化学材料株式会社_202510324093.1
    本发明提供一种带有遮光膜的基板的制造方法， 其中， 遮光膜的透明基板侧的面以及其相反侧的面这两个面的反射率得到抑制。一种带有遮光膜的基板的制造方法， 包括：在透明基板上形成防反射层用树脂组合物层的工序；在其上形成含有遮光成分(D)、光聚合引...
    2026-02-05
  • 光学元件和仪器
    光学元件和仪器_佳能株式会社_202510352986.7
    光学元件和仪器。一种光学元件包括基体构件和设置在所述基体构件上的光学结构。所述光学结构包括氧化物层和氟化物层。所述氧化物层和所述氟化物层之间的距离小于所述氟化物层的厚度。满足0.095≤[Si]/([Si]+[Hf])<0.902， 这里[...
    2026-02-05
  • 多层膜、光学部件、摄像设备及多层膜的制造方法
    多层膜、光学部件、摄像设备及多层膜的制造方法_富士胶片株式会社_202510364120.8
    本发明提供一种具有优异的亲水性及光催化性的多层膜、光学部件、摄像设备及多层膜的制造方法。一种多层膜， 其设置于基板上， 所述多层膜具备：氧化硅层， 在表面具有蛾眼结构且显现亲水性；及氧化钛层， 与氧化硅层接触而配置并显现光催化功能。
    2026-02-05
  • 一种光刻胶微透镜阵列制备方法及系统
    一种光刻胶微透镜阵列制备方法及系统_浙江优众新材料科技有限公司_202510850161.8
    本申请公开了一种光刻胶微透镜阵列制备方法及系统， 涉及微纳光学器件制造领域；光刻胶微透镜阵列制备方法包括如下步骤：对硅片进行化学机械抛光处理后， 在基板上旋涂光刻胶形成圆柱阵列， 并通过预烘消除溶剂梯度；通过等离子体沉积在光刻胶表面形成氟碳...
    2026-02-05
  • 一种透镜阵列的排布工艺与排布装置
    一种透镜阵列的排布工艺与排布装置_北京超视未来光电科技有限公司_202511096449.7
    本发明公开了一种透镜阵列的排布工艺与排布装置， 涉及成像光学技术领域， 包括步骤：S1、将待排列的透镜棒放入透镜储纳工装中；S2、驱动透镜储纳工装平移， 使得透镜储纳工装与透镜棒定位装置底部边缘对齐；S3、打开透镜棒定位装置的真空系统， 将...
    2026-02-05
  • 一种多焦点液体透镜及其光学模式切换系统
    一种多焦点液体透镜及其光学模式切换系统_南京邮电大学_202511141416.X
    本发明提供了一种多焦点液体透镜及其光学模式切换系统， 属于光学成像领域， 所述多焦点液体透镜包括上端开口的储液腔和主体内芯， 主体内芯覆盖并固定在储液腔的上端开口处；所述主体内芯， 从下至上依次包括无孔透明弹性薄膜、开孔硬质板和至少一层开孔...
    2026-02-05
  • 一种Micro-LED芯片的光隔离薄膜及其制备方法
    一种Micro-LED芯片的光隔离薄膜及其制备方法_广东省科学院半导体研究所_202510936482.X
    本发明实施例提出一种Micro‑LED芯片的光隔离薄膜及其制备方法， 涉及半导体显示技术领域， 方法包括：对目标基板进行光刻处理， 得到目标凹模板；向目标凹模板内浇注有机硅聚合物， 固化形成目标凸模板， 目标凸模板包括基底和多个位于基底上的...
    2026-02-05
  • 一种无支撑层光学微腔器件及其制备方法和应用
    一种无支撑层光学微腔器件及其制备方法和应用_太原师范学院_202511212037.5
    本发明属于光学微腔技术领域， 具体涉及一种无支撑层光学微腔器件及其制备方法和应用。本发明提供的制备方法在主模板的基础上， 采用牺牲层材料制作牺牲层子模板或者平面牺牲层， 利用溶剂溶解的方法去除牺牲层子模板或者平面牺牲层， 在溶剂中得到光学微...
    2026-02-05
  • 湿度响应变色辐射制冷材料及其制备方法和应用
    湿度响应变色辐射制冷材料及其制备方法和应用_苏州大学_202511211809.3
    本发明公开了一种湿度响应变色辐射制冷材料， 包括散射层和设置于散射层表面的虹彩光子薄膜， 所述虹彩光子薄膜为纤维素纳米晶体/聚乙二醇复合薄膜， 所述散射层为聚乳酸‑二氧化硅‑氧化铝复合纳米纤维膜。本发明通过顶部纤维素纳米晶体/聚乙二醇虹彩光...
    2026-02-05
  • 一种光伏电池间隙反光膜及其制备方法和应用
    一种光伏电池间隙反光膜及其制备方法和应用_江苏中来新材科技有限公司_202510881152.5
    本发明涉及光伏技术领域， 公开了一种光伏电池间隙反光膜及其制备方法和应用。该制备方法包括：将金属络合剂和PET材料按质量比1‑5 : 100混合， 经熔融挤出造粒， 得到PET母粒；将特定重量份的PET母粒、粘合树脂、离子聚合物粒子经三层熔...
    2026-02-05
  • 一种太阳能聚光用复合玻璃反射镜及其制造方法
    一种太阳能聚光用复合玻璃反射镜及其制造方法_全美投资(海口)有限公司_202510974826.6
    本发明涉及应用于太阳能光热相关领域的一种太阳能聚光用复合玻璃反射镜及其制造方法， 通过多层复合， 可在不影响反射效果的情况下， 有效提高反射镜的强度， 并且在意外破碎时， 碎片不易四散分离， 有效保证安全性， 另外在双环监测单元的设置下， ...
    2026-02-05
  • 一种球面反射镜及其制备方法
    一种球面反射镜及其制备方法_中国建筑材料科学研究总院有限公司_202510845879.8
    本发明涉及光学装置技术领域， 公开了一种球面反射镜及其制备方法， 球面反射镜包括依次层叠连接的基层、中间夹层和曲面层， 所述曲面层具有凹面和凸面， 所述中间夹层具有与所述曲面层的凸面相配合的凹面， 所述中间夹层采用发泡陶瓷， 所述基层和曲面...
    2026-02-05
  • 一次刻蚀形成二元光栅结构的方法
    一次刻蚀形成二元光栅结构的方法_上海鲲游科技有限公司_202410381789.3
    本发明提供了一种一次刻蚀形成二元光栅结构的方法， 包括：提供基底， 基底包括：依序设置的第一光栅区域与第二光栅区域；在基底表面形成光栅膜层， 且第一光栅区域上的光栅膜层的厚度大于第二光栅区域上的光栅膜层的厚度；在光栅膜层的表面形成掩膜层并图...
    2026-02-05
  • 偏光件保护薄膜、偏光板、液晶面板及丙烯酸类树脂组合物
    偏光件保护薄膜、偏光板、液晶面板及丙烯酸类树脂组合物_株式会社钟化_202510221490.6
    本发明涉及偏光件保护薄膜、偏光板、液晶面板及丙烯酸类树脂组合物。提供一种偏光件保护薄膜， 其包含丙烯酸类树脂组合物， 该偏光件保护薄膜的波长590nm下的厚度方向相位差Rth为‑35.0nm以上且‑5.0nm以下， 前述丙烯酸类树脂组合物包...
    2026-02-05
  • 偏光件保护薄膜、偏光板、液晶面板及丙烯酸类树脂组合物
    偏光件保护薄膜、偏光板、液晶面板及丙烯酸类树脂组合物_株式会社钟化_202510221491.0
    本发明涉及偏光件保护薄膜、偏光板、液晶面板及丙烯酸类树脂组合物。提供偏光件保护薄膜， 其包含丙烯酸类树脂组合物， 且波长590nm下的厚度方向相位差Rth为‑35.0nm以上且‑5.0nm以下， 该丙烯酸类树脂组合物包含主链中具有环结构的丙...
    2026-02-05
  • 线栅偏振器及制造其的方法
    线栅偏振器及制造其的方法_三星显示有限公司_202510325423.9
    本公开涉及线栅偏振器和制造线栅偏振器的方法。根据实施方式的线栅偏振器包括衬底和位于衬底上的金属纳米图案， 金属纳米图案包括金属化合物， 并且其中， 金属化合物包括银聚集体和银纳米颗粒。
    2026-02-05
  • 光学层叠体和光学层叠体的制造方法
    光学层叠体和光学层叠体的制造方法_住友化学株式会社_202510325889.9
    本发明提供光学层叠体和光学层叠体的制造方法。所述光学层叠体抑制变形缺陷， 并且在热冲击环境下也具有充分的耐裂纹性。所述光学层叠体具备第一保护层、第一贴合层和第一相位差膜， 第一保护层与第一相位差膜经由第一贴合层而贴合， 第一相位差膜包含第一...
    2026-02-05
  • 偏振板
    偏振板_住友化学株式会社_202510355220.4
    本发明提供高温下的耐剥离性优异的偏振板。偏振板(100)依次具有热塑性树脂膜A(40)、偏振片(30)、(甲基)丙烯酸系树脂膜B(20)和粘合剂层(10)。膜A(40)为聚酯系树脂膜或(甲基)丙烯酸系树脂膜， 在将膜A在80℃时的拉伸弹性模...
    2026-02-05
  • 偏振板
    偏振板_住友化学株式会社_202510355224.2
    本发明提供高温下的耐剥离性优异的偏振板。偏振板具备：依次具备热塑性树脂膜A、偏振片和(甲基)丙烯酸系树脂膜B的偏振层叠体和设置于偏振层叠体的(甲基)丙烯酸系树脂膜B上的粘合剂层。偏振层叠体在80℃的环境中暴露2小时时， 该偏振层叠体以上述热...
    2026-02-05
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