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最新专利技术
  • 一种紫外光钝感陶瓷粉末及基于其制备的高精度陶瓷光固化浆料
    一种紫外光钝感陶瓷粉末及基于其制备的高精度陶瓷光固化浆料_武汉理工大学_202511228788.6
    本发明公开了一种紫外光钝感陶瓷粉末及基于其制备的高精度陶瓷光固化浆料， 所述陶瓷粉末由硅烷偶联剂接枝于陶瓷粉体后， 再与酰基化改性的具有磺酸盐基团的紫外光钝感色素进行取代反应并后处理得到。本发明的紫外光钝感陶瓷粉末能够实现粉体本征光学性能调...
    2026-03-28
  • 包含蒽基查尔酮光敏剂的感光树脂组合物及应用
    包含蒽基查尔酮光敏剂的感光树脂组合物及应用_湖南初源新材料股份有限公司_202510943111.4
    本发明公开了一种包含蒽基查尔酮光敏剂的感光树脂组合物及应用。所述感光树脂组合物包括有蒽基查尔酮光敏剂， 所述蒽基查尔酮光敏剂至少包含一种通式(Ⅲ)所示的蒽类衍生物；其中：R1为C1‑C5的直链或支链烷基、N‑甲基吡咯‑2‑基、呋喃‑2‑基、...
    2026-03-28
  • 用于形成膜密度提高了的抗蚀剂下层膜的组合物
    用于形成膜密度提高了的抗蚀剂下层膜的组合物_日产化学株式会社_202511233588.X
    本发明的课题是提供用于形成膜密度、硬度、杨氏模量、扭曲耐性(图案的弯曲耐性)高， 由此具有高的蚀刻耐性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物， 其包含具有下述式(1)所示的重复单元结构的酚醛清漆树脂...
    2026-03-28
  • 导孔层版图及导孔层辅助图形添加方法
    导孔层版图及导孔层辅助图形添加方法_重庆芯联微电子有限公司_202510691825.0
    本发明提供了一种导孔层版图及导孔层辅助图形添加方法， 属于半导体领域。该导孔层辅助图形添加方法包括获取导孔层的原始版图， 所述导孔层包括若干导孔图形；在优先顺序排列高的两个目标图形之间添加第一辅助图形， 所述第一端部和第二端部分别靠近优先顺...
    2026-03-28
  • 大曝光场的光刻技术实现方法及芯片级芯片互连方法
    大曝光场的光刻技术实现方法及芯片级芯片互连方法_北京中科彼岸集成电路科技有限公司_202510840429.X
    本申请公开了一种大曝光场的光刻技术实现方法、芯片级芯片互连方法以及光刻设备。该大曝光场的光刻技术实现方法应用于光刻设备， 光刻设备包括0.1至2.5倍缩小倍率的投影系统， 包括：将有图形的待曝光衬底装载至载物台， 通过衬底上的对准标记进行对...
    2026-03-28
  • 用于光刻设备的防护膜隔膜
    用于光刻设备的防护膜隔膜_ASML荷兰有限公司_202511040705.0
    提供了一种用于光刻设备的防护膜隔膜， 所述隔膜包括未被覆盖的碳纳米管。还提供一种再生防护膜隔膜的方法， 所述方法包括分解前体化合物， 并且将至少一些分解产物沉积到防护膜隔膜上。还提供一种降低防护膜隔膜的蚀刻速率的方法， 所述方法包括在防护膜...
    2026-03-28
  • 一种光罩辐射型线宽差异的改善方法
    一种光罩辐射型线宽差异的改善方法_兴华芯(绍兴)半导体科技有限公司_202511079890.4
    本发明公开了一种光罩辐射型线宽差异的改善方法， 属于半导体光罩技术领域。本发明通过选取一片光罩基板， 依次经过预设曝光量的曝光、显影、蚀刻以及去光阻处理， 获得光罩测试片；测量光罩测试片中十字图形阵列中每个十字图形的线宽， 根据光罩测试片中...
    2026-03-28
  • 一种掩膜版制造方法及曝光系统
    一种掩膜版制造方法及曝光系统_寰采星科技(宁波)有限公司_202511172495.0
    本发明公开了制造掩膜版的方法， 包括对料带进行曝光， 得到具有多个第一图形的第一带段， 其中， 所述料带包括带状箔材和形成在所述带状箔材表面的光刻胶层， 相邻两个所述第一图形之间存在间隔区， 所述第一图形包括多个母标记图形和多个像素孔图形；...
    2026-03-28
  • DBC陶瓷覆铜基板专用曝光机
    DBC陶瓷覆铜基板专用曝光机_安徽陶芯科半导体新材料有限公司_202511276897.5
    本发明公开了DBC陶瓷覆铜基板专用曝光机， 属于曝光机技术领域， 其包括机台， 所述机台顶部设置有热交换散热端口， 所述机台一侧固定连接有照明板， 所述照明板的底部设置有LED灯板， 所述机台对应照明板一侧开设有台框交换口， 所述台框交换口...
    2026-03-28
  • 匀光控制方法、复眼透镜单元及光刻系统
    匀光控制方法、复眼透镜单元及光刻系统_东莞泽攸科技有限公司_202511305881.2
    本发明提供了一种匀光控制方法、复眼透镜单元及光刻系统， 该方法基于LED紫外光源对应的光斑入射参数在光刻系统中设置与光源对应的复眼透镜单元；其中， 复眼透镜单元中包含双排复眼透镜和聚光透镜；然后获取双排复眼透镜对应的第一焦距、双排复眼透镜与...
    2026-03-28
  • 一种红外双面套刻的独立自动被测物焦距与透射光焦距调节结构
    一种红外双面套刻的独立自动被测物焦距与透射光焦距调节结构_奈米科学仪器装备(杭州)有限公司_202511317367.0
    本发明提出了一种红外双面套刻的独立自动被测物焦距与透射光焦距调节结构， 包括：载物台， 其用于承载晶圆， 其为一中空结构， 其与载物台对焦单元的输出端连接；所述载物台对焦单元， 其可沿基座且沿Z向移动；成像光路单元， 其设置于载物台的上方；...
    2026-03-28
  • 液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质
    液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质_东京毅力科创株式会社_202511143341.9
    本发明提供一种液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质。液处理装置的一例包括：构成为能够保持基片的基片保持部；构成为能够向基片的表面供给处理液的处理液供给部；构成为能够向基片的表面供给气体的气体供给部；控制部。气体供给部包括扩散喷嘴，...
    2026-03-28
  • 一种光刻胶剥离液组合物及其制备方法
    一种光刻胶剥离液组合物及其制备方法_华璞微电子科技(宁波)有限公司_202511242962.2
    本申请公开了一种光刻胶剥离液组合物及其制备方法， 涉及电子材料技术领域， 包括按质量百分比为5‑10%的氢氧化钾、2‑5%的脂肪酸、10‑20%的苯甲醇、15‑25%的一乙醇胺、4.6‑15.5%的组合添加剂和作为余量的溶剂；其中， 所述组...
    2026-03-28
  • 一种显影盒
    一种显影盒_珠海纳思达信息技术有限公司_202510074966.8
    本申请涉及一种显影盒， 包括盒体， 盒体包括供粉腔和补粉腔， 第一搅拌架设置于供粉腔内， 第二搅拌架设置于补粉腔内；传动组件包括：第一齿轮组、第二齿轮组、第三齿轮组、第一搅拌齿轮和第二搅拌齿轮， 第一搅拌齿轮与第一搅拌架连接， 第二搅拌齿轮...
    2026-03-28
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202511240497.9
    提供了一种配置成在片材上形成图像的图像形成装置， 该图像形成装置包括装置本体和可拆卸单元。可拆卸单元包括第一被定位部分和第二被定位部分。装置本体包括具有第一定位部分和第二定位部分的框架构件， 第一定位部分和第二定位部分分别与第一被定位部分和...
    2026-03-28
  • 一种激光打印机的转印带安装结构
    一种激光打印机的转印带安装结构_恒科科技产业有限公司_202511275421.X
    本发明提出一种激光打印机的转印带安装结构， 属于打印机设备技术领域， 包括：转印架、主动转印辊、安装板、夹持块、弹性限位件和滑动壳体， 转印架与主动转印辊转动连接， 主动转印辊上安装有静电转印带， 夹持块通过滑槽与安装板连接， 弹性限位件一...
    2026-03-28
  • 一种合成孔径数字全息成像系统
    一种合成孔径数字全息成像系统_湖北华中长江光电科技有限公司_202511097635.2
    本发明公开了一种合成孔径数字全息成像系统， 属于数字全息技术领域， 包括激光器、分束器、准直镜、第一光束偏转模块、成像透镜、分光棱镜、第二光束偏转模块、时序控制模块、探测器和数据处理模块。激光器发射激光经过分束器分成信号光束和参考光束；信号...
    2026-03-28
  • 钟表日历系统
    钟表日历系统_劳力士有限公司_202510440133.9
    本发明涉及一种钟表日历系统(100)， 该系统包括：围绕第一轴线(A1)枢转的日期移动件(1)；驱动日期移动件的第一元件(32)， 诸如指状件；用于驱动日期移动件的第二元件(12)， 该第二元件包括例如用于驱动日期移动件的齿(12a)， 第...
    2026-03-28
  • 钟表日历系统
    钟表日历系统_劳力士有限公司_202510440471.2
    本发明涉及一种钟表日历系统(100)， 包括：包括能量累积器(4)和凸轮(33)的能量累积和恢复装置， 日期移动件(1)， 月份移动件(2)， 用于使日期移动件(1)转位的第一元件(7)， 用于使月份移动件(2)转位的第二元件(8)， 用于...
    2026-03-28
  • 一种原子钟原子气室充制方法
    一种原子钟原子气室充制方法_安徽感知未来电子科技有限公司_202511207526.1
    本申请公开了一种原子钟原子气室充制方法。其中， 该方法包括：依次采用丙酮溶液、盐酸溶液、超临界CO2对原子气室进行清洗；将清洗后的原子气室放入设置有紫外光辐照的烘箱内烘烤， 并通过原子气室的接口向原子气室内引入脉冲式真空‑惰性气体交换环境，...
    2026-03-28
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