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最新专利技术
  • 一种水泵叶轮加工用打磨装置
    一种水泵叶轮加工用打磨装置_鲁尔泵(中国)有限公司_202610122963.1
    本发明提供了一种水泵叶轮加工用打磨装置，属于叶轮加工技术领域，包括工作台，所述工作台的顶部固定设置有固定架，所述固定架通过升降件连接有安装盘，所述安装盘的下方通过弹性件限位滑动设置有第一打磨组件；所述安装盘内限位滑动设置有若干连接杆，所述第...
    2026-03-11
  • 一种用于海洋工程装备的除锈设备
    一种用于海洋工程装备的除锈设备_唐山海运职业学院有限公司_202511798003.9
    本发明提供一种用于海洋工程装备的除锈设备，包括移动底座，移动底座顶端固定设有升降框架，升降框架上设置有升降组件，升降组件上固定设有移动方板，移动方板上转动式安装有纵向除锈组件。本发明具有如下的有益效果，通过移动方板上转动式安装纵向除锈组件，...
    2026-03-11
  • 一种竿体矫直磨削复合加工中心
    一种竿体矫直磨削复合加工中心_威海名洋体育用品有限责任公司_202610096214.6
    本发明公开了一种竿体矫直磨削复合加工中心，涉及金属棒材精密加工技术领域，包括固定架和用于矫直竿体的辊式矫直机，固定架上安装有环体，环体上安装有磨削组件和清理组件；清理组件用于清理竿体表面因经过辊式矫直机的矫直后残留的润滑剂；磨削组件用于对完...
    2026-03-11
  • 一种用于手板制作的抛光装置
    一种用于手板制作的抛光装置_深圳市金沃林科技有限公司_202610113936.8
    本发明公开了一种用于手板制作的抛光装置，属于手板抛光技术领域，包括固定架，所述固定架的内部开设有放置槽，所述放置槽的内壁两侧均安装有定位结构，所述固定架上安装有移动调节结构，移动调节结构上安装有电动推杆，所述电动推杆的输出端固定连接有双端连...
    2026-03-11
  • 不锈钢零部件抛光工装
    不锈钢零部件抛光工装_沈阳富创精密设备股份有限公司_202511884170.5
    本发明涉及不锈钢加工辅助设备技术领域，具体为不锈钢零部件抛光工装，包括：固定架，所述固定架的中部铰接有第一铰接臂和第二铰接臂，所述第一铰接臂和第二铰接臂远离固定架位置的一端铰接有铰接头；所述第一铰接臂和第二铰接臂的中部活动设有第一驱动架。本...
    2026-03-11
  • 基于球墨铸铁型材表面的抛光处理装置及使用方法
    基于球墨铸铁型材表面的抛光处理装置及使用方法_江苏华龙精密智造股份有限公司_202610047530.4
    本发明涉及抛光装置技术领域，尤其为基于球墨铸铁型材表面的抛光处理装置及使用方法，包括驱动组件和抽吸组件，抽吸组件上端固定连接有第一防护组件，第一防护组件左侧与电动液压缸的缸体固定连接，第一防护组件内侧固定连接有抛光设备，电动液压缸的活塞杆末...
    2026-03-11
  • 化学机械抛光装置、抛光系统和抛光晶圆的方法
    化学机械抛光装置、抛光系统和抛光晶圆的方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202511655516.4
    在实施例中，抛光系统可以包括抛光台。该抛光系统还可以包括：位于抛光台上的抛光垫；配置为保持晶圆与抛光垫接触的抛光头；电容传感器，配置为在抛光工艺期间测量晶圆上的介电薄膜的电容；以及电连接到电容传感器的控制器。控制器可以配置为基于测量到的电容...
    2026-03-11
  • 一种双工位化学机械抛光设备及其抛光液检测方法
    一种双工位化学机械抛光设备及其抛光液检测方法_东莞市正钜智能装备有限公司_202511965405.3
    本发明公开了一种双工位化学机械抛光设备及其抛光液检测方法，涉及半导体加工技术领域，该化学机械抛光设备包括抛光盘、承载头、供液机构和清洗机构，抛光盘位于抛光盘的上方，承载头的输入端传动连接有抛光驱动组件，承载头承载工件至抛光盘并对工件待抛光面...
    2026-03-11
  • 一种具有恒定研磨压力的研磨装置
    一种具有恒定研磨压力的研磨装置_上海傲世控制科技股份有限公司_202512011285.X
    本发明属于工件端面研磨技术领域，提供一种具有恒定研磨压力的研磨装置，主要包括研磨底座，具有第一腔体；研磨杆，活动穿设于研磨底座上，在研磨杆位于第一腔体内一侧设有固定支架；位置传感器，用于检测固定支架相对研磨底座的移动距离；第一套筒，活动套设...
    2026-03-11
  • 研磨装置以及研磨方法
    研磨装置以及研磨方法_株式会社荏原制作所_202511944820.0
    提供一种研磨装置、研磨方法以及计算机可读取记录介质。在将顶环保持于摆动臂的端部的研磨方式中，能够提高研磨终点检测的精度。通过研磨台保持研磨垫。通过第一电动机旋转驱动研磨台。通过顶环用电机旋转驱动顶环，该顶环用于保持半导体晶片并且将半导体晶片...
    2026-03-11
  • 基于压力、热膨胀实时补偿式胶体研磨设备及工艺
    基于压力、热膨胀实时补偿式胶体研磨设备及工艺_中建材苏州防水研究院有限公司_202511816117.1
    本发明公开了基于压力、热膨胀实时补偿式胶体研磨设备及工艺，其设备包括动磨盘、静磨盘、动力单元。本发明一方面基于工程补偿模型，根据实际工作环境的压力、温度来动态调整目标间隙，自动计算并补偿因热变形引起的齿隙变化，而且基于实际间隙和目标间隙之间...
    2026-03-11
  • 一种半球阀、旋球阀用硬密封阀门阀瓣研磨工装
    一种半球阀、旋球阀用硬密封阀门阀瓣研磨工装_远大阀门集团有限公司_202610046823.0
    本发明涉及阀门加工技术领域，一种半球阀、旋球阀用硬密封阀门阀瓣研磨工装。包括平台架，磨具装置，磨具动力装置，工件动力装置，辅助装置；平台架固定在底座板上；磨具装置位于平台架上侧，磨具动力装置位于磨具装置上侧，工件动力装置位于平台架的平台下侧...
    2026-03-11
  • 一种自动调压式磨球机
    一种自动调压式磨球机_浙江葆普阀门制造有限公司_202610044717.9
    本发明公开了一种自动调压式磨球机，包括基座、固定座、第一研磨机构、第二研磨机构以及调节机构，所述基座设置在固定座端部一侧，所述第一研磨机构设置在基座上，在基座上设置有钢球放置架，在固定座上设置有第二研磨机构，第一研磨机构和第二研磨机构转动方...
    2026-03-11
  • 抛光方法、电子设备及存储介质
    抛光方法、电子设备及存储介质_华海清科股份有限公司_202610009656.2
    本申请提供一种抛光方法、电子设备和存储介质。抛光方法包括：设置工艺模式；基于工艺模式及与三个承载头对应的三个限位件的位置进行晶圆抛光，包括：在工艺模式为双盘抛光且第一抛光盘抛光时长大于第二抛光盘时，逆时针移动三个承载头，使第一承载头依次在第...
    2026-03-11
  • 一种圆柱形注塑件研磨装置
    一种圆柱形注塑件研磨装置_道县三湘源电子科技有限公司_202610064965.X
    本发明涉及研磨装置技术领域，尤其涉及一种圆柱形注塑件研磨装置，包括研磨平台以及安装在其顶部的下磨盘，下磨盘顶部安装有上磨盘，研磨平台顶部设置有清洁结构，下磨盘顶部安装有对工件进行支撑的多个定位板，本发明通过采用可滑动加可转动的清洁筒与外周清...
    2026-03-11
  • 一种化学机械抛光装置、抛光设备和抛光方法
    一种化学机械抛光装置、抛光设备和抛光方法_华海清科股份有限公司_202511680481.X
    本发明公开了一种化学机械抛光装置、抛光设备和抛光方法，属于半导体制造技术领域。该化学机械抛光装置包括：抛光盘，用于安装抛光垫；承载头，设置于抛光盘上方，以装载待抛光的晶圆；供液部，设置于抛光盘上方，以朝向晶圆与抛光垫之间供给抛光液；被构造成...
    2026-03-11
  • 一种光辅助催化金刚石化学机械抛光装置
    一种光辅助催化金刚石化学机械抛光装置_河南工业大学_202511797753.4
    本发明涉及半导体制造技术领域，特别是指一种光辅助催化金刚石化学机械抛光装置，解决了现有技术中光催化效率低、加工效率低的问题，包括支架，支架上设有旋转平台和用于装载金刚石晶片的工作转台，旋转平台的外侧设有环形挡板，旋转平台与环形挡板配合形成容...
    2026-03-11
  • 衬底处理刷以及包括该衬底处理刷的衬底处理装置
    衬底处理刷以及包括该衬底处理刷的衬底处理装置_细美事有限公司_202510625937.6
    提供了根据本公开的一些实施例的衬底处理刷。该衬底处理刷包括：支架；衬底处理垫，可拆卸地设置在支架中，并处理衬底；以及衬底处理清扫器，连接到支架，并与衬底处理垫一起处理衬底，其中，衬底处理垫的第一部分设置在支架内部，并且衬底处理垫的第二部分通...
    2026-03-11
  • 一种各向异性的无纺布抛光垫及其制备工艺
    一种各向异性的无纺布抛光垫及其制备工艺_东莞励治研磨科技有限公司_202511981149.7
    本发明涉及抛光材料技术领域，具体公开了一种各向异性的无纺布抛光垫及其制备工艺，制备工艺包括将聚氨酯溶剂均匀喷涂在模具上形成纤维层；采用针刺工艺交错铺放直线型和螺旋型纤维，形成具有各向异性回弹特性的纤维网络；将带有纤维网络的模具放入烘箱中进行...
    2026-03-11
  • 一种基于梯形沟槽单元的化学机械抛光垫及其制备方法
    一种基于梯形沟槽单元的化学机械抛光垫及其制备方法_安徽微芯长江半导体材料有限公司_202610014762.X
    本发明属于半导体制造技术领域，具体而言，涉及一种基于梯形沟槽单元的化学机械抛光垫及其制备方法。本申请公开了一种基于梯形沟槽单元的化学机械抛光垫及其制备方法，旨在解决硬脆半导体材料抛光中抛光液分布不均、碎屑排出不畅及表面缺陷率高的问题。该抛光...
    2026-03-11
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