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最新专利技术
  • 一种高效异构投影装置
    一种高效异构投影装置_浙江工业大学_202610018022.3
    本发明涉及非成像与成像光学领域，公开了一种高效异构投影装置，包括：非成像模组、掩模片、成像模组；所述非成像模组包括光源、自由曲面透镜，所述自由曲面透镜将光源发出的光线进行塑形，于掩模片前形成第一照度图像；所述第一照度图像能量通过掩模片，并于...
    2026-03-16
  • 一种跨光刻场铜互连工艺掩模版结构
    一种跨光刻场铜互连工艺掩模版结构_中国电子科技集团公司第五十八研究所_202610088016.5
    本发明公开一种跨光刻场铜互连工艺掩模版结构，左侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区与右侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区无交集；上侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区与下侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区无交集；左侧跨光刻场拼接区域掩模版的透光区与右侧...
    2026-03-16
  • OPC修正方法及系统、版图
    OPC修正方法及系统、版图_重庆芯联微电子有限公司_202511712957.3
    本发明提供了一种OPC修正方法及系统、版图，属于半导体领域。该OPC修正方法包括提供一版图，所述版图包括多个金属层图形；对所述切分线段进行OPC修正，将所述第一线边片段向外扩张至所述边角的外围，将所述第二线边片段和第三线边片段内缩至所述线条...
    2026-03-16
  • 掩模版图的优化方法及相关产品
    掩模版图的优化方法及相关产品_深圳晶源信息技术有限公司_202610081840.8
    本发明提供了一种掩模版图的优化方法及相关产品。掩模版图的优化方法包括一种掩模版图的优化方法，包括获取上一次光学邻近效应校正期间进行修正的坏点的信息；根据坏点的信息，在掩模版图中确定出新的待校正区域；对新的待校正区域再次进行光学邻近效应校正。...
    2026-03-16
  • 一种掩模版的版图获取方法及系统
    一种掩模版的版图获取方法及系统_合肥晶合集成电路股份有限公司_202610140395.8
    本发明提供了一种掩模版的版图获取方法及系统，方法包括：输入所述掩模版的版图设计图形，设置筛选区间，从所述版图设计图形中筛选出关键尺寸位于筛选区间内的稀疏图形，作为第一主图形，其中第一主图形的主图案按照阵列分布；设置筛选阈值，筛选图案间交错距...
    2026-03-16
  • 一种基于数字全息计算光刻的掩模构造方法
    一种基于数字全息计算光刻的掩模构造方法_合肥工业大学_202512041106.7
    本发明属于全息光刻技术领域，提出了一种基于数字全息计算光刻的掩模构造方法，包括：1、基于目标光刻图像逆向构造掩模出射波的复平面分布；2、针对光场调控方法进行建模, 数值计算照明波前初始值与掩模初始值；3、通过变分推断交替优化掩模Um与照明波...
    2026-03-16
  • 半导体光刻胶组合物和利用组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物和利用组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510877814.1
    公开了一种半导体光刻胶组合物和利用该半导体光刻胶组合物形成图案的方法。半导体光刻胶组合物可包括有机金属化合物、由化学式1表示的化合物和溶剂。化学式1的描述在本公开中有更详细的提供。
    2026-03-16
  • 半导体光刻胶组成物以及使用该组成物形成图案的方法
    半导体光刻胶组成物以及使用该组成物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510950371.4
    一种半导体光刻胶组成物和使用其形成图案的方法。该半导体光刻胶组成物包括有机金属化合物；有机酸化合物；由有机酸的共轭碱和有机碱的共轭酸所构成的集合体的盐化合物；以及溶剂。
    2026-03-16
  • 感光性树脂组合物及固化浮雕图案的制造方法
    感光性树脂组合物及固化浮雕图案的制造方法_旭化成株式会社_202511196049.3
    一种感光性树脂组合物及固化浮雕图案的制造方法。[课题]本公开的目的在于，提供耐化学药品性优异、即使固化温度为低温也表现出良好的伸长率、能够制造与铜布线的密合性良好的固化浮雕图案的感光性树脂组合物；及使用该感光性树脂组合物制造固化浮雕图案的方...
    2026-03-16
  • 低温着色感光性树脂组合物、着色涂层、彩色滤光片和图像显示装置
    低温着色感光性树脂组合物、着色涂层、彩色滤光片和图像显示装置_吉林奥来德光电材料股份有限公司_202511778659.4
    本发明涉及着色感光性树脂组合物技术领域，具体而言，涉及低温着色感光性树脂组合物、着色涂层、彩色滤光片和图像显示装置。低温着色感光性树脂组合物包含着色剂混合物、碱溶性树脂、光聚合化合物、咔唑类光聚合引发剂、全氟烷基(甲基)丙烯酸酯及溶剂。其中...
    2026-03-16
  • ArF光刻胶组合物及形成光刻图案的方法
    ArF光刻胶组合物及形成光刻图案的方法_宁波南大光电材料有限公司_202511871255.X
    本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及ArF光刻胶组合物及形成光刻图案的方法，该ArF光刻胶组合物包括：ArF光刻胶树脂、光致产酸剂、淬灭剂、溶剂；所述ArF光刻胶树脂由第一树脂和第二树脂组成，所述第一树脂与第二树脂的重量比为90～97：3～1...
    2026-03-16
  • 一种光致聚合物材料及其应用和体全息光栅
    一种光致聚合物材料及其应用和体全息光栅_深圳市光舟半导体技术有限公司_202511978487.5
    本发明公开了一种光致聚合物材料及其应用和体全息光栅，涉及聚合物感光材料技术领域。该光致聚合物材料的原料包括：粘结剂、活性单体、光引发剂、光敏剂、供氢体和增感剂；活性单体与光引发剂的摩尔比为8~12：1；光敏剂和光引发剂的摩尔比为1：15~2...
    2026-03-16
  • 一种黑色光刻胶树脂组合物及其用途
    一种黑色光刻胶树脂组合物及其用途_深圳市容大感光科技股份有限公司_202512060173.3
    本发明属于感光材料领域，具体涉及黑色光刻胶树脂组合物，其包含以下组分：(A)含氟环氧丙烯酸树脂、(B)含丙烯酸酯基团的活性稀释剂、(C)低温固化剂、(D)光引发剂、(E)有机黑色浆、(F)助剂和(G)溶剂；其中(A)含氟环氧丙烯酸树脂的含氟...
    2026-03-16
  • 一种基于聚己内酯的激光直写生物相容性光刻胶组合物及其光刻方法
    一种基于聚己内酯的激光直写生物相容性光刻胶组合物及其光刻方法_杭州玉之泉精密仪器有限公司_202511804683.0
    本发明公开了一种基于聚己内酯的激光直写生物相容性光刻胶组合物，按重量份数计，包括5‑10份的聚己内酯、5‑20份的生物相容性单体、0.5‑2份的光引发剂和80‑100份的溶剂。其光刻方法为按比例加入原料，得到的光刻胶组合物在石英或硅片上旋涂...
    2026-03-16
  • 化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
    化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511198011.X
    本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供可获得图案形成时的分辨性提升且LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，包含(A)由下式(A)表示的鎓...
    2026-03-16
  • 一种区分OPC修正图形线宽报错的方法
    一种区分OPC修正图形线宽报错的方法_重庆芯联微电子有限公司_202511721581.2
    本发明提供一种区分OPC修正图形线宽报错的方法，基于目标图形与OPC修正向内修正最大值生成目标对照图形，对目标图形进行OPC修正，获得OPC修正图形，OPC修正图形经过掩模规则检查产生线宽报错，通过判断线宽报错与目标对照图形的相交性，快速区...
    2026-03-16
  • 光刻测试图案的生成方法与计算机设备
    光刻测试图案的生成方法与计算机设备_东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司_202511803660.8
    本发明提供了一种光刻测试图案的生成方法与计算机设备。其中光刻测试图案的生成方法包括：构建初始测试图案；利用初始测试图案训练去噪扩散概率模型；通过训练后的去噪扩散概率模型结合随机噪声得到生成测试图案；以及对生成测试图案进行筛选处理，得到目标测...
    2026-03-16
  • 一种在各类医疗软管上制造任意定制电路的制备方法
    一种在各类医疗软管上制造任意定制电路的制备方法_南京工业大学_202511963085.8
    本发明公开了一种在各类医疗器械软管上制造任意定制电路的制备方法，属于微纳米制造领域。与现有技术中其他制备方法相比，本方法操作具备重复性，普适性，生产成本低廉且由于在极小曲率半径的锥度边缘进行图案化与传统的标准的平面微纳米加工技术不相同，如使...
    2026-03-16
  • 一种对柔性金属材料双面光刻的方法
    一种对柔性金属材料双面光刻的方法_强一半导体(苏州)股份有限公司_202610003734.8
    本发明涉及一种对柔性金属材料双面光刻的方法，包括：在磁性圆盘上铺设隔膜; 将柔性金属材料放置在隔膜上；然后涂覆光刻胶形成第一光刻胶层；对第一光刻胶层进行曝光并显影，使柔性金属材料正面的部分区域被遮挡形成第一遮盖区域，柔性金属材料正面的部分区...
    2026-03-16
  • 一种改善IC载板阻焊DI曝光机台面粘掉油的台面印方法
    一种改善IC载板阻焊DI曝光机台面粘掉油的台面印方法_深圳中科四合科技有限公司_202610015061.8
    本发明适用于台面印技术领域，尤其涉及一种改善IC载板阻焊DI曝光机台面粘掉油的台面印方法，所述方法包括：在曝光机台面上放置PET载膜，将PET载膜固定于曝光台面上方；将板件的Bot面朝下，将其放置在PET载膜上方，对板件进行真空吸附；进行对...
    2026-03-16
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