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一种北斗PTP时间源设备、时钟信号及控制脉冲触发方法
本发明公开一种北斗PTP时间源设备、时钟信号及控制脉冲触发方法,该设备包括第一时钟板、第二时钟板、卫星接收模块、通讯控制核心板和逻辑控制板;第一时钟板、第二时钟板均与卫星接收模块连接,卫星接收模块接收卫星信号并传输给第一时钟板和第二时钟板;...
电子设备
本申请提供了一种电子设备,属于电子设备技术领域,包括:框体,框体包括轨道;装饰件,活动连接于框体,装饰件包括第一电极;滚动件,位于框体和装饰件之间,滚动件与第一电极相接触,滚动件与轨道相接触,当装饰件活动的情况下,装饰件带动滚动件沿轨道滚动...
一种新型时间测量内插电路
本发明公开了一种新型时间测量内插电路,其特征在于,包括控制器、使能受控延迟内插电路、k路环振延迟链、粗计数器、k个量化锁存电路、编码器和串行器;控制器根据事例脉冲生成使能信号EN和时间测量锁存信号Latch;使能受控延迟内插电路根据信号EN...
一种基于FPGA实现的动态高精度PTP对时系统
本发明提供了一种基于FPGA实现的动态高精度PTP对时系统,包括主设备和从设备,主设备和从设备通过PHY连接以进行PTP对时;主设备和从设备结构相同,包括FPGA、压控晶振;主设备中,FPGA获取主设备与外部输入的参考源的频差和相差,进而调...
成像设备
在一种成像设备中,盒可拆卸地安装到其上并且被配置为能够在位于设备主体内的内部位置和位于外部的外部位置之间移动的托盘单元包括被配置为支撑所述盒的第一侧板和第二侧板,并且它们均由金属制成,并且包括支撑部分和外侧部分,支撑部分包括定位部分,定位部...
图像形成装置
公开了图像形成装置。一种图像形成装置包括感光鼓、充电设备、充电偏压施加部分、转印设备、转印偏压施加部分、在转印位置的下游且充电部分的上游的刮刀清洁位置处与感光构件的表面接触的清洁刮刀、在转印位置的下游且刮刀清洁位置的上游的刷子清洁位置处与该...
定影装置
一种定影装置,包括环形的带、拉伸辊、张力辊和润滑剂供应辊。张力辊可在张力辊推压带的第一推压位置和张力辊不推压带的第一推压释放位置之间移动。润滑剂供应辊可在张力辊位于第一推压位置的状态下润滑剂供应辊推压带的第二推压位置和润滑剂供应辊不推压带的...
图像形成装置
一种图像形成装置,包括:可旋转的转印构件,被配置为与图像承载构件接触以形成转印辊隙部,并在转印辊隙部处将供给至图像承载构件的表面的调色剂转印至转印材料;静电电荷去除构件,被配置为在转印辊隙部的在转印构件的旋转方向和转印材料的移动方向二者上的...
一种双腔体防漏粉的激光打印机硒鼓
本发明公开了应用于打印机硒鼓领域的一种双腔体防漏粉的激光打印机硒鼓,针对现有硒鼓因密封设计局限、部件老化导致的墨粉泄漏问题,通过原粉仓与废粉仓协同防护实现双重防漏;原粉仓内设置回流混合机制:主隔断结构内的活动隔板与格栅板协同密封控制出粉,延...
成像设备
一种成像设备,其包括主组件并且包括调色剂盒,所述主组件包括感光鼓、显影单元和旋转体。所述调色剂盒包括:框架,所述框架沿纵向方向延伸并包括容纳室、第一排出开口和第二排出开口,从所述容纳室排出到所述显影单元的调色剂通过所述第一排出开口,从所述容...
成像设备
一种成像设备,设有排出开口的调色剂盒可拆卸地安装到其上,包括:旋转体,所述旋转体包括显影辊和容纳框架,所述容纳框架设有接收开口;主组件框架;可打开构件,所述可打开构件包括支撑表面和限制部分并且能够移动到关闭位置和打开位置;以及支撑构件。在所...
成像设备
公开了一种成像设备,它包括:感光构件;旋转体,该旋转体包括设有入口开口的存储框架、显影辊和供应辊;以及调色剂盒,该调色剂盒设有排出开口。在由显影辊的外周表面、供应辊的外周表面以及显影辊的外周表面和供应辊的外周表面之间的公切线包围的区域在供应...
成像设备
公开了一种成像设备,所述成像设备包括感光构件、旋转体以及调色剂盒,所述旋转体包括设有调色剂存储部分和连通的入口开口的存储框架、显影辊和供应辊。在由所述显影辊的外周表面、所述供应辊的所述外周表面以及所述显影辊的所述外周表面与所述供应辊的所述外...
曝光头
本公开涉及一种曝光头,包括:发光芯片,所述发光芯片包括沿感光构件的旋转轴线方向布置并且构造成发光以曝光所述感光构件的多个发光部分;板,所述发光芯片安装在所述板上;透镜,所述透镜构造成将由所述发光芯片发出的光会聚到所述感光构件的表面上;壳体,...
套刻标记、套刻误差量测方法及量测装置
本申请提供了一种套刻标记、套刻误差量测方法及量测装置,上述套刻标记设置于裸晶的其中一层的非功能区域内,上述套刻标记的最小结构单元内部结构的周期与上述其中一层的至少一个功能区域的关键结构周期保持一致。在本申请中,套刻标记可以设置于裸晶的非功能...
基板处理方法、基板处理装置和物品制造方法
本公开涉及基板处理方法、基板处理装置和物品制造方法。一种基板处理方法,包括执行基板的预对准,以及在执行预对准之后执行基板的精细对准,其中,执行预对准包括通过多种方法并行地计算基板的多个位置偏差量,并且执行精细对准包括基于计算的多个位置偏差量...
一种高精度窄线宽的负胶显影液及其制备方法与应用
本发明属于光刻胶技术领域,具体涉及一种高精度窄线宽的负胶显影液及其制备方法与应用。本发明的负胶显影液,以质量百分数之和为100%计,其组成如下:无机碱3%‑10%、聚氧乙烯醚类表面活性剂4%‑15%、磺酸盐表面活性剂3%‑10%、硼酸盐1%...
用于确定边缘位置误差的方法、设备和存储介质
根据本公开的示例实施例提供了用于确定边缘位置误差的方法、设备和存储介质。该方法包括确定针对掩模图案中的控制点的光刻模拟信号在光刻模拟图案的当前位置处的信号变化程度;根据控制点的光刻模拟信号在当前位置处的信号变化程度更新控制点在光刻模拟图案中...
一种图像处理方法
本申请实施例公开了一种图像处理方法,包括:步骤1:定义待曝光的初始图像包括1行若干列均布的图像条,将初始图像的右边的第一列图像条所在的水平位置定义为初始位置0,将位于安装座上的呈一行均匀分布的K颗激光器的右边的第一颗的起始位置设置为与初始位...
一种陶瓷片双面光刻装置及方法
本发明涉及陶瓷片光刻技术领域,本发明提供了一种陶瓷片双面光刻装置及方法,其中,一种陶瓷片双面光刻装置,包括工作箱,工作箱的前端开设有工作口,还包括光源系统、第一限位板、第二限位板、第一相对移动机构、定位机构、掩模板以及第二相对移动机构,工作...
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