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最新专利技术
  • 一种制备高均匀性芳纶纤维的连续纺丝工艺
    一种制备高均匀性芳纶纤维的连续纺丝工艺_华北电力大学(保定)_202511678472.7
    本发明公开一种制备高均匀性芳纶纤维的连续纺丝工艺，涉及纺丝加工技术领域，包括以下步骤：原液制备与脱泡、计量与输送、挤出与成形、分级凝固、热拉伸以及在线检测与卷绕；本发明通过三级梯度凝固浴模拟纤维皮芯层慢相分离，配合逆流循环系统维持各层浴液浓...
    2026-04-08
  • InDel分子标记文库及其应用
    InDel分子标记文库及其应用_上海益诺思生物技术股份有限公司_202511779417.7
    本发明公开了一种InDel分子标记文库及其应用。所述InDel分子标记文库包含选自人染色体上的30个InDel位点中的一种或多种。本发明提供的InDel分子标记文库能够应用于同种异体细胞治疗药物的临床样本药代动力学的生物分析，无须标准品可以...
    2026-04-08
  • 一种单晶生长炉内腔清洁结构
    一种单晶生长炉内腔清洁结构_保定三晶电子材料有限公司_202610201304.7
    本发明公开了一种单晶生长炉内腔清洁结构，涉及单晶炉清洁技术领域，本发明包括软化组件与刮除组件，所述软化组件包括检测结构、储液筒与PTFE海绵，所述供液结构对PTFE海绵供液，所述刮除组件包括铲刀、喷头与内部开设有输液腔的旋转柱，所述喷头倾斜...
    2026-04-08
  • 真空竖式单晶提纯装置
    真空竖式单晶提纯装置_合肥中晶新材料有限公司_202311461604.1
    本发明公开真空竖式单晶提纯装置，涉及单晶提纯技术领域；而本发明包括反应釜，通过第一电机与转动轴的相互配合，使第一电机带着转动轴转动，进而转动轴带着同步轮转动，然后通过同步轮与同步带的相互配合，使同步轮驱动同步带转动，进而使同步带驱动安装板上...
    2026-04-08
  • 一种晶片防粘传输机构
    一种晶片防粘传输机构_苏州芯指南科技有限公司_202511865690.1
    本发明涉及一种晶片防粘传输机构，包括基座、支承转轮组、多个支承杆、与支承转轮组连接的传动模块以及驱动模块，支承转轮组包括两个可转动地设于基座上的支承转轮，且同一组内的两个支承转轮位于同一高度且彼此间隔；多个支撑杆与支承转轮一一对应设置，且与...
    2026-04-08
  • SiC晶体、SiC晶棒、以及SiC晶体的制造方法
    SiC晶体、SiC晶棒、以及SiC晶体的制造方法_株式会社力森诺科_202511384777.7
    本发明的目的是提供在使用多线锯切断将晶体彼此接合而成的接合体时不易产生不良情况的SiC晶体、SiC晶棒、以及SiC晶体的制造方法。本实施方式涉及的SiC晶体，具有作为层叠方向的一个面的第1面，当沿着穿过所述第1面的中心并在＜1‑100＞方向...
    2026-04-08
  • 一种基于快速焦耳热法的掺杂单晶材料绿色合成方法及应用
    一种基于快速焦耳热法的掺杂单晶材料绿色合成方法及应用_山东大学_202511811115.3
    本发明中公开了一种基于快速焦耳热法的掺杂单晶材料绿色合成方法及应用，包括如下步骤：S1：对初始单晶进行预处理，得到预处理后的初始单晶，所述初始单晶选自铌酸锂单晶或钽酸锂单晶；S2：使用金属箔对步骤S1中预处理后的初始单晶进行全方位包覆，得到...
    2026-04-08
  • 一种AlBN纳米晶薄膜及其制备方法
    一种AlBN纳米晶薄膜及其制备方法_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202512013904.9
    本发明提供了一种AlBN纳米晶薄膜及其制备方法。所述制备方法包括：在衬底表面形成三元非晶AlBN薄膜；将表面形成有所述三元非晶AlBN薄膜的衬底置于电子显微镜或者激光直写系统配备的显微镜的视野中，采用电子显微镜自带的电子束或者激光直写系统的...
    2026-04-08
  • 一种Cr2Se3单晶及其制备方法
    一种Cr2Se3单晶及其制备方法_宁波大学_202610243250.0
    本发明提供一种Cr2Se3单晶及其制备方法，涉及晶体材料技术领域。所述Cr2Se3单晶制备方法从原料配比、熟粉制备到单晶生长工艺各步骤协同配合抑制杂质引入与杂相生成，同时促进原子有序排列、消除晶格空位与位错，制备出单相性好、结晶度高、缺陷密...
    2026-04-08
  • 一种气相沉积法制备P型碳化硅晶体的工艺及装置
    一种气相沉积法制备P型碳化硅晶体的工艺及装置_苏州冠岚新材料有限公司_202512021082.9
    本发明公开了一种气相沉积法制备P型碳化硅晶体的工艺及装置，涉及碳化硅晶体制备技术领域。该气相沉积法制备P型碳化硅晶体的装置，所述装置包括反应腔，所述反应腔外壁固定连接有送气机构，所述反应腔顶部活动连接有出料机构，所述反应腔底部固定连接有排气...
    2026-04-08
  • 一种碳包覆磷酸钛钠纳米材料及其制备方法
    一种碳包覆磷酸钛钠纳米材料及其制备方法_贲安能源科技(上海)有限公司_202511740229.3
    本发明涉及一种碳包覆磷酸钛钠纳米材料及其制备方法，属于钠离子电池技术领域。本发明的制备方法包括以下步骤：S1、将钠源、钛磷源和补充剂混合均匀后，进行煅烧处理，得到单晶型磷酸钛钠；钛磷源选自磷酸钛和/或焦磷酸钛；S2、将单晶型磷酸钛钠与碳源进...
    2026-04-08
  • 一种片状氧化铝及其制备方法
    一种片状氧化铝及其制备方法_中国石油化工股份有限公司_202411365506.2
    本发明公开一种片状氧化铝及其制备方法，片状氧化铝为四方片状，具有单晶结构，片状氧化铝的晶粒尺寸为300‑1300nm，晶粒厚度≤150nm。制备方法包括：将焙烧后的SB粉与季铵碱溶液在耐压容器中固液两相分离放置，在一定热处理条件下进行气固反...
    2026-04-08
  • 一种Ⅱ型红磷单晶片材料及其制备方法
    一种Ⅱ型红磷单晶片材料及其制备方法_东莞理工学院_202610052181.5
    本发明公开了一种Ⅱ型红磷单晶片材料及其制备方法，属于红磷制备技术领域，本发明以红磷和矿化剂为前驱体升温反应，通过矿化剂诱导红磷升华得到的红磷气体分子结构的定向转变，再以两个降温阶段的准确调控，使红磷气体分子发生结构重组和转化，制备得到特征尺...
    2026-04-08
  • 一种MPCVD法单晶金刚石籽晶的复制方法
    一种MPCVD法单晶金刚石籽晶的复制方法_超硬材料产业技术研究院_202610108919.5
    本发明公开了一种MPCVD法单晶金刚石籽晶的复制方法，包括以下步骤：(1)将质量较差的单晶金刚石籽晶先进行预处理；(2)将钼基片台置于MPCVD设备的沉积腔内并将预处理后的单晶金刚石籽晶摆在钼基片台上沉积；(3)沉积完成后进行退火刻蚀，降温...
    2026-04-08
  • 一种梯度硼掺杂单晶金刚石及其制备方法
    一种梯度硼掺杂单晶金刚石及其制备方法_西安交通大学_202511956129.4
    本发明公开了一种梯度硼掺杂单晶金刚石及其制备方法，在金刚石衬底上生长本征层；采用微波等离子体化学沉积法在本征层上依次生长三层硼掺杂单晶金刚石层；对每次生长后的硼掺杂单晶金刚石层进行原位退火处理，得到梯度硼掺杂单晶金刚石；本发明在生长完每层后...
    2026-04-08
  • 外延设备大盘平面调整方法及装置
    外延设备大盘平面调整方法及装置_杭州昆元量子科技有限公司_202511880131.8
    本发明涉及半导体技术领域，提供一种外延设备大盘平面调整方法及装置，该方法包括：S1：获取大盘中各参考点的初始高度；S2：获取各螺栓单独调整预定圈数后各参考点的参考高度，并基于预定圈数、各参考点的参考高度和对应的初始高度确定响应矩阵；S3：得...
    2026-04-08
  • 半导体工艺设备
    半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202411366182.4
    本申请公开一种半导体工艺设备，属于半导体加工技术领域，半导体工艺设备包括护壁、上罩体和进气件，所述护壁环绕设置于用以承载晶圆的承载件之外，所述进气件设置于所述护壁的外侧，所述进气件设有清洁气体通道，所述护壁朝向所述进气件的一侧设有第一导流斜...
    2026-04-08
  • 一种晶圆承载装置及半导体成膜装置
    一种晶圆承载装置及半导体成膜装置_中微半导体(上海)有限公司_202411383469.8
    本发明公开了一种晶圆承载装置及半导体成膜装置，所述晶圆承载装置包括：包括旋转筒和托盘，旋转筒包括分体式连接的本体和上盖；本体包括筒体部和沿筒体部的径向向内延伸的承载部，承载部位于筒体部上方，承载部包括承载面和环绕承载面的延伸面；托盘设置在承...
    2026-04-08
  • 一种MgGa2O4外延薄膜及其制备方法
    一种MgGa2O4外延薄膜及其制备方法_山东大学_202512012161.3
    本发明涉及半导体技术领域，具体为一种MgGa2O4外延薄膜及其制备方法，包括如下步骤：将衬底清洗后放置在反应腔室内；配制乙酰丙酮镓溶液；向乙酰丙酮镓溶液中加入四水合乙酸镁，配制浓度为0.3mol/L的MgGa2O4前驱体溶液，MgGa2O4...
    2026-04-08
  • 半导体处理系统及相关方法
    半导体处理系统及相关方法_ASMIP私人控股有限公司_202511386620.8
    公开了用于通过等离子体增强化学气相沉积在衬底上沉积外延层的半导体处理系统。半导体处理系统包括室主体、布置在室内部内的衬底支撑件以及配置用于在室内部内产生反应性物质的等离子体产生装置。还公开了通过等离子体增强化学气相沉积过程在衬底上沉积外延层...
    2026-04-08
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