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最新专利技术
  • 一种咔唑衍生物及其有机电致发光器件
    一种咔唑衍生物及其有机电致发光器件_长春海谱润斯科技股份有限公司_202610083700.4
    本发明属于有机光电材料技术领域，具体涉及一种咔唑衍生物及其有机电致发光器件。本发明提供的咔唑衍生物的HOMO能级和LUMO能级能够与相邻的有机功能层很好的匹配，并且还具有恰当的电荷传输性能，同时还具有很好的稳定性，成膜性好，作为发光层中的主...
    2026-04-28
  • 一种磺酸酯类光产酸剂及其制备方法和应用
    一种磺酸酯类光产酸剂及其制备方法和应用_常州强力电子新材料股份有限公司_202411492591.9
    本发明提供一种磺酸酯类光产酸剂及其制备方法和应用，所述磺酸酯类光产酸剂具有如通式(I)所示结构，本发明的光产酸剂不含氟，且其光解生成的磺酸酸性不弱于传统含氟光酸，以解决现有的磺酸酯类光产酸剂存在酸根含氟，不含氟酸根酸性弱的问题，并且本发明的...
    2026-04-28
  • 土瓜狼毒中二萜类化合物及其提取方法和应用
    土瓜狼毒中二萜类化合物及其提取方法和应用_沈阳药科大学_202610059260.9
    本发明公开了土瓜狼毒中二萜类化合物及其提取方法和应用，属于中药提取领域，具体涉及一种从土瓜狼毒中分离的如式(Ⅰ)、(Ⅱ)、(Ⅲ)所示的二萜类化合物及化合物的提取方法；同时证实，该化合物或其在药学上可接受的盐，或包含该化合物的药物组合物或药物...
    2026-04-28
  • E3连接酶FEM1B配体及其衍生物的制备与应用
    E3连接酶FEM1B配体及其衍生物的制备与应用_重庆医科大学_202512048652.3
    本发明公开了E3连接酶FEM1B配体及其衍生物的制备与应用，属于药物合成技术领域。所述配体分子结构如式1所示：本发明提供的FEM1B配体在体内外对FEM1B均具有较高亲和力和特异性。本发明的配体分子及其衍生物能改变FEM1B底物特异性从而导...
    2026-04-28
  • 化学示踪剂及其应用和示踪方法
    化学示踪剂及其应用和示踪方法_中国石油化工股份有限公司_202411494733.5
    本发明属于油田钻井技术领域，涉及一种化学示踪剂及其应用和一种示踪方法；本发明的示踪剂含有结构式如式(I)所示的氮羟基二甲酰亚胺化合物：其中，R1为氢、烷基、烷氧基、硝基或羧基，R1为苯环的任意取代位置。本发明提供的化学示踪剂具有性能稳定、检...
    2026-04-28
  • 一类异吲哚-1-酮类衍生物及其在制备抗病毒药物中的应用
    一类异吲哚-1-酮类衍生物及其在制备抗病毒药物中的应用_中国医学科学院医药生物技术研究所_202411489010.6
    本发明公开了一类异吲哚‑1‑酮类衍生物及其在制备抗病毒药物中的应用。本发明属于医药技术领域。所述的异吲哚‑1‑酮类衍生物具有以下通式I所示结构。研究发现，该类异吲哚‑1‑酮类衍生物不仅具有显著的抗病毒活性，而且相比6位无取代异吲哚‑1‑酮类...
    2026-04-28
  • 一种杂环化合物、药物组合物及其应用
    一种杂环化合物、药物组合物及其应用_中科中山药物创新研究院_202511480270.1
    本发明公开了一种杂环化合物、药物组合物及其应用；提供一种杂环化合物，或其药学上可接受的盐、其立体异构体、其互变异构体、其多晶型物、其溶剂合物、其同位素衍生物或其前药；具有式(Ⅰ)所示的结构；。本发明提供的杂环化合物对TEAD蛋白具有抑制活性...
    2026-04-28
  • 一类对羟基苄基取代的色氨酸衍生物，其药物组合物和用途
    一类对羟基苄基取代的色氨酸衍生物，其药物组合物和用途_中国医学科学院药物研究所_202411489581.X
    本发明属于医药技术领域，公开了一类羟基苄基取代的色氨酸衍生物，其药物组合物和用途。具体公开了对羟基苄基取代色氨酸类化合物的NO释放抑制活性。实验结果证明：化合物1具有明显的NO释放抑制作用，有望成为与炎症相关的疾病的治疗药物。
    2026-04-28
  • 一种吲哚类化合物、合成方法及其用途
    一种吲哚类化合物、合成方法及其用途_南京雷正医药科技有限公司_202411485588.4
    本发明公开了一种吲哚类化合物、合成方法及其用途，属于化学医药领域。本发明提供如式(I)所示吲哚类化合物，或其药学上可接受的盐、水合物、溶剂化物、立体异构体、互变异构体、顺反异构体、同位素标记物、前药，具有与现有抑制剂相当甚至更优的STING...
    2026-04-28
  • 一种虫螨腈中间体溴代吡咯腈的制备方法
    一种虫螨腈中间体溴代吡咯腈的制备方法_山东亿嘉农化有限公司_202610385409.2
    本发明涉及化工合成技术领域，特别是涉及一种虫螨腈中间体溴代吡咯腈的制备方法，包括：三氟乙酰乙酸乙酯与液溴反应，得2‑溴‑3‑氧代‑4, 4, 4‑三氟丁酸乙酯，将对氯苯乙腈溶于甲苯，加入叔丁醇钾，反应得3‑氨基‑3‑(4‑氯苯基)丙‑2‑烯...
    2026-04-28
  • 一类含五氟苯和吡咯的硫醚化合物及其制备方法和应用
    一类含五氟苯和吡咯的硫醚化合物及其制备方法和应用_云南大学_202411471459.X
    本发明属于农药化学技术领域，提供了一类含五氟苯和吡咯的硫醚化合物及其制备方法和应用。本发明的硫醚化合物以五氟苯和吡咯为主环结构，使得硫醚化合物具有优异的杀虫效果，尤其是对蚊子具有优异的杀灭效果。同时，本发明的硫醚化合物扩宽了杀虫剂的结构，为...
    2026-04-28
  • 一种N-乙烯基吡咯烷酮合成的新工艺
    一种N-乙烯基吡咯烷酮合成的新工艺_天津科英石化工程设计有限公司_202411487680.4
    本发明公开了一种N‑乙烯基吡咯烷酮合成的新工艺，提供了一种高效、低成本和节能的N‑乙烯基吡咯烷酮的制备方法。原料α‑吡咯烷酮和催化剂钾盐在高真空的反应精馏塔反应，控制反应温度，反应产物水从塔顶蒸馏出去，生成的α‑吡咯烷酮钾盐经缓冲罐缓冲后送...
    2026-04-28
  • 高活性氧含量的过氧化2-乙基己基碳酸叔戊酯制备工艺
    高活性氧含量的过氧化2-乙基己基碳酸叔戊酯制备工艺_宿迁市万和泰化工有限公司_202610064143.1
    本发明涉及有机合成技术领域，具体为高活性氧含量的过氧化2‑乙基己基碳酸叔戊酯制备工艺。本发明克服了传统方法中收率低及活性氧含量低的问题。本发明将叔戊基过氧化氢、复合溶剂、改性催化剂及自由基捕获剂混合构建悬浮体系；在低温及特定pH条件下，滴加...
    2026-04-28
  • 一种回收TBHP生产废水中残留TBHP的方法
    一种回收TBHP生产废水中残留TBHP的方法_山东清创化工有限公司_202610054204.6
    本发明涉及有机过氧化物生产技术领域，具体涉及一种回收TBHP生产废水中残留TBHP的方法，包括：将叔丁醇、双氧水和第一硫酸进行混合反应，获得粗产物；对粗产物进行纯化，获得二叔丁基过氧化物、叔丁基过氧化氢和废水，废水中包括残留叔丁基过氧化氢；...
    2026-04-28
  • 一种稳定的多官能度硒醇及其制备方法
    一种稳定的多官能度硒醇及其制备方法_浙江大学_202610112043.1
    本发明公开了一种稳定的多官能度硒醇及其制备方法。本发明可解决硒醇稳定性差，在空气中极易氧化，无法制备得到高纯度硒醇的问题。含硒化合物具有良好动态特性、光学活性以及生物活性，具有广泛的应用前景。尽管硒醇具有与羟基、巯基类似的反应活性，但由于其...
    2026-04-28
  • 锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法
    锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511510294.7
    本发明涉及锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用能量射线的光学光刻中，为高感度，分辨度优良，改善了LWR、CDU、EL、DOF等光刻性能，又，可抑制抗蚀剂图案的崩塌的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的鎓盐、化学增幅抗蚀...
    2026-04-28
  • 锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法
    锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511509754.4
    本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优良，以及微细图案形成中亦抗图案崩塌，蚀刻耐性亦优良...
    2026-04-28
  • 锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法
    锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511509691.2
    本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且LWR、CDU、EL、DOF等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的锍盐型单体、含有来...
    2026-04-28
  • 锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法
    锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511509680.4
    本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且LWR、CDU、EL、DOF等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的锍盐型单体、含有来...
    2026-04-28
  • 锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法
    锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511504671.6
    本发明涉及锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度且LWR、CDU、MEF、EL、DOF等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的鎓盐、含有该鎓盐作为光酸产生...
    2026-04-28
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