Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 积分商城 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
最新专利技术
  • 本申请涉及摄像技术领域, 公开了一种可变光圈、摄像模组及电子设备。该可变光圈包括弹性件、第一挤压件、第二挤压件和驱动单元。弹性件呈环状, 其内周面围成进光孔。弹性件还包括上端面和下端面。第一挤压件设于弹性件的上端面。第二挤压件设于弹性件的下...
  • 本发明公开了一种光学模组及笔记本, 涉及笔记本拍摄技术领域, 该光学模组包括安装块和反光镜, 安装块沿第一方向的一端内凹设有凹槽, 凹槽沿第二方向的第一侧设置反光镜, 凹槽沿第二方向的第二侧设为敞口, 第一方向垂直第二方向, 且安装块还设有...
  • 本申请提供一种摄像模组以及电子设备。第一载体围绕摄像主体, 且转动连接摄像主体, 第二载体围绕第一载体, 且转动连接第一载体, 第一组SMA线用于驱动摄像主体绕第一转动轴线转动, 第一组SMA线的至少一条SMA线的延伸方向与第一转动轴线呈夹...
  • 本发明公开了一种双向镜头摄像机, 属于光学成像设备技术领域, 该双向镜头摄像机, 包括机体, 所述机体的顶部固定连接有把手, 所述机体的一侧固定连接有镜筒, 所述机体的内部靠一侧位置设置有调节机构, 所述调节机构的顶部设置有聚焦机构, 所述...
  • 本发明提供一种利用相变材料的连铸坯检测用相机冷却方法及装置, 涉及工业相机冷却方法技术领域。本发明方法包括:在连铸坯生产线的检测区域搭建耐高温镍基合金架子, 并将工业相机固定于架子上;将相变材料封装于铜制容器内, 形成与工业相机适配的凹槽环...
  • 本申请提供实施例属于显示技术, 提供一种显示设备, 包括:超短焦镜头, 包括对影像光束进行反射的反射镜;N个取像摄像头, 用于拍摄包括投影画面和投影屏幕的图像;取像摄像头与第一平面的垂直距离小于或等于显示设备的半宽, 与第二平面的垂直距离小...
  • 本发明公开了一种激光光源装置和投影系统, 至少包括第一激光器、第二激光器和合光组件;第一激光器包括多个第一激光芯片, 第二激光器包括多个第二激光芯片和多个第三激光芯片, 且第一激光芯片的数量大于第二激光芯片的数量, 第一激光芯片的数量大于第...
  • 本发明公开了一种自动调焦装置和投影光机, 涉及微型激光投影技术领域, 其中, 自动调焦装置包括支架、调焦机构、定位机构和屏蔽机构, 调焦机构包括驱动组件、传动组件和镜头组件, 驱动组件通过传动组件与镜头组件传动连接;定位机构包括磁性定位件和...
  • 本发明提供一种投影屏幕及投影系统, 投影屏幕包括显示膜片, 显示膜片具有投影受光面;支架单元, 支架单元包括支架本体和滚筒, 滚筒转动设置在支架本体上, 至少部分显示膜片卷设于滚筒外周;导向单元, 导向单元活动设置在支架本体上, 导向单元包...
  • 本申请实施例提供了一种镜头模组和电子设备, 镜头模组包括偏振模组和感光元件, 偏振模组包括:偏振组件, 偏振组件设置有至少两个叶片式偏振片、旋转支架和底座, 至少两个叶片式偏振片设置在该旋转支架上, 该旋转支架设置在该底座上;第一驱动组件,...
  • 本发明涉及光信息存储技术领域, 尤其涉及一种基于蓝晒工艺的深紫外灰度掩膜版的制备方法, 包括如下步骤:将蓝晒水溶液和明胶水溶液按体积比为2 : 5~4 : 5的比例混合, 得到蓝晒感光剂溶液;采用滴涂法或旋涂法, 使蓝晒感光剂溶液均匀覆盖于...
  • 本发明提供了一种改善光罩透过率的方法, 包括:提供光罩, 光罩包括由下至上依次堆叠的基底、硅化钼层和铬层, 铬层位于光罩的不透光区, 铬层暴露出部分硅化钼层和部分基底, 暴露的硅化钼层位于光罩的第一透光区, 暴露的基底位于光罩的第二透光区,...
  • 本公开的实施例涉及光学邻近校正模型的校准方法、电子设备及存储介质。该方法包括:基于版图中预定图形的仿真图形和对应于预定图形的晶圆图像确定光学邻近校正OPC模型的成本函数的值, 其中沿预定图形的第一方向以及与第一方向非垂直的第二方向设置的标尺...
  • 本申请公开了一种光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备, 其中, 该光学邻近效应修正方法包括根据预设规则在通孔层的目标图形周围放置SRAF;对目标图形进行OPC修正, 生成初始修正图形;获取每个目标图形与对应初始修正图形之间的第一距...
  • 本申请公开了一种基于分组合并的空间块汇聚方法、装置、存储介质及电子设备, 其中, 该基于分组合并的空间块汇聚方法包括将目标版图划分为多个区域;采用扫描线方法对每个区域内的图案进行水平扫描和竖直扫描, 生成多边形块, 并形成每个多边形块的空间...
  • 本发明涉及半导体制造领域, 具体涉及一种基于调控刻蚀副产物的刻蚀方法及掩模版, 刻蚀方法包括:S1, 在基底表面上形成铬吸收层, 在铬吸收层上形成图形化光刻胶层;S2, 将基底放入刻蚀设备内, 以图形化光刻胶层为掩蔽层, 刻蚀铬吸收层至基底...
  • 本公开公开了一种掩膜版的清洗方法、装置及计算机设备, 属于半导体技术领域。该掩膜版的清洗方法包括:确定清洗间隔片数和报废清洗次数, 清洗间隔片数指的是在相邻两次清洗作业的间隔内, 掩膜版的光刻作业次数, 报废清洗次数为掩膜版在报废之前所能够...
  • 本发明公开了一种用于reticle掩模版的缺陷检测方法, 涉及掩模版缺陷检测技术领域, 按指令倍率与掩模版名自动调取并固化检测参数;以光校准点灰度二次多项式拟合归一化矫正参考图;划分检测区后提取ORB特征, 经汉明距离与RANSAC得亚像素...
  • 本申请实施例涉及显示设备技术领域, 具体涉及一种成膜剂及其制备方法、色转换膜及其制备方法、显示模组以及显示装置。本申请实施例旨在解决色转换膜固化不完全, 显示模组的分辨率较低的问题。本申请实施例提供了一种成膜剂, 用于制备色转换膜, 包括第...
  • 提供一种低挥发性、且分散性、感光性、显影性等性能优异的碱性显影型树脂组合物, 其固化物的铅笔硬度和耐热性优异、其所形成的涂膜具有良好的指触干燥性。该碱性显影型树脂组合物含有:(A)环氧树脂、(B)含羧基乙烯基酯树脂、(C)光聚合引发剂、(D...
技术分类