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最新专利技术
  • 一种基于双谐振环频谱调制的光电混合通用逻辑门
    一种基于双谐振环频谱调制的光电混合通用逻辑门_南京大学_202510853515.4
    本发明公开了一种基于双谐振环频谱调制的光电混合通用逻辑门， 包括：第一谐振环和第二谐振环， 其中第一谐振环和第二谐振环通过不同的恒定电压进行初始化控制， 结合输入光信号叠加对第一谐振环进行共振波长调整， 第一谐振环耦合调整后， 对第一直波导...
    2026-01-31
  • 一种基于二氧化钒与砷化镓超表面的半加器
    一种基于二氧化钒与砷化镓超表面的半加器_桂林电子科技大学_202511231323.6
    本发明公开了一种基于二氧化钒与砷化镓超表面的半加器， 属于太赫兹通信调制技术领域。该多层结构由金衬底、环烯烃共聚物介质层与金—砷化镓—二氧化钒顶层图案组成。基于超材料吸收体原理， 本发明设计的超表面具有半加器的功能， 为今后太赫兹多功能逻辑...
    2026-01-31
  • 一种集成光学D锁存器、D触发器及计数器
    一种集成光学D锁存器、D触发器及计数器_华中科技大学_202510837384.0
    本发明属于光学计算相关技术领域， 其公开了一种集成光学D锁存器、D触发器及计数器， 其中， 在光学D锁存器中， PD1用于接收时钟光信号并控制MRR1， 将时钟信号编码到第一波导内的连续光上， PD2正偏接收光信号D并控制MRR2， PD3...
    2026-01-31
  • 摄影手柄及摄影套件
    摄影手柄及摄影套件_深圳市乐其创新股份有限公司_202511060055.6
    本发明公开一种摄影手柄及摄影套件， 该摄影手柄包括：持握件， 持握件设有容置腔；轴盘组件， 包括转轴和摩擦盘单元， 摩擦盘单元包括第一摩擦盘和第二摩擦盘， 第一摩擦盘与第二摩擦盘沿转轴的轴向方向相对设置于容置腔内， 第二摩擦盘与持握件连接，...
    2026-01-31
  • 显示装置
    显示装置_海信视像科技股份有限公司_202410370351.5
    本申请提供实施例提供一种显示装置， 属于显示技术领域， 旨在解决相关技术中显示装置所形成图像亮度低， 显示装置显示效果差的技术问题。该显示装置包括多个发光结构和合光器， 发光结构用于发出光束；至少一个发光结构包括多个发光组件和合光元件；多个...
    2026-01-31
  • 激光投影设备
    激光投影设备_海信视像科技股份有限公司_202510904673.8
    本申请一些实施例提供了一种激光投影设备， 该激光投影设备包括， 激光器、光源驱动电路和供电电路；光源驱动电路与激光器耦接， 被配置为向激光器输出激光器供电信号， 以控制激光器的发光状态；该供电电路与光源驱动电路耦接， 被配置为向光源驱动电路...
    2026-01-31
  • 掩模版
    掩模版_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202511113602.2
    本发明提供一种掩模版， 其在现有的掩模版的设计基础上进行改进， 一方面在目标图案中使用断续的第二透光间隔将第一遮光图形分割， 即使用分割出来的、断续的遮光图形块代替原来设计中连续的第一遮光图形， 从而使第一遮光图形的延伸方向上的偏振光产生的...
    2026-01-31
  • 版图处理方法、光刻方法、设备和存储介质
    版图处理方法、光刻方法、设备和存储介质_全芯智造技术有限公司_202511286887.X
    本公开的实施例涉及版图处理方法、光刻方法、设备和存储介质。在此提出的版图处理方法包括：获取目标版图；以及对目标版图进行划分， 以得到多个掩模的相应掩模版图， 其中多个掩模中第一掩模的掩模版图包括目标版图中对应于第一掩模的第一图案和目标版图中...
    2026-01-31
  • 一种基于纳米压印技术的高精度芯片制造方法
    一种基于纳米压印技术的高精度芯片制造方法_天津本来科技发展有限公司_202510832432.7
    本发明涉及半导体芯片制造中的纳米压印技术领域， 公开一种高精度芯片制造方法及设备。通过复合模板(石英/氮化硅/含氟硅烷)、实时填充监测的阶梯压印、低温‑超声‑摆动协同脱模、飞秒激光原位修复及超临界清洗再生技术， 解决模板寿命短、压印精度低、...
    2026-01-31
  • 一种粘附性好的ArF光刻胶组合物及其制备工艺
    一种粘附性好的ArF光刻胶组合物及其制备工艺_深圳中科宏伟技术研发有限公司_202511001833.4
    本发明涉及光刻胶技术领域， 特别是涉及一种粘附性好的ArF光刻胶组合物及其制备工艺， 包括三元共聚物树脂、光产酸剂、混合溶剂、光敏剂、表面活性剂、分散剂、吸湿剂、流平剂、碱性猝灭剂；三元共聚物树脂由2‑羧基‑6‑降冰片内酯‑5‑甲基丙烯酸酯...
    2026-01-31
  • 碱性显影型树脂组合物、其光固化性的干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板
    碱性显影型树脂组合物、其光固化性的干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板_太阳油墨(苏州)有限公司_202511081222.5
    本发明提供碱性显影型树脂组合物的印刷性(覆盖性、垂流)和稳定性(耐化锡性、耐水煮白化性)良好、能够形成耐冷热冲击性和高温保存性均优异的阻焊膜的碱性显影型树脂组合物、其光固化性的干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板。所述碱性显影型树脂组...
    2026-01-31
  • 碱性显影型树脂组合物、其光固化性的干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板
    碱性显影型树脂组合物、其光固化性的干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板_太阳油墨(苏州)有限公司_202511081236.7
    本发明提供碱性显影型树脂组合物的印刷性(覆盖性、垂流)和稳定性(耐化锡性、耐水煮白化性)良好、能够形成耐冷热冲击性和高温保存性均优异的阻焊膜的碱性显影型树脂组合物、其光固化性的干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板。所述碱性显影型树脂组...
    2026-01-31
  • 碱性显影型树脂组合物、其光固化性的干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板
    碱性显影型树脂组合物、其光固化性的干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板_太阳油墨(苏州)有限公司_202511081384.9
    本发明提供碱性显影型树脂组合物的印刷性(覆盖性、垂流)和稳定性(耐化锡性、耐水煮白化性)良好、能够形成耐冷热冲击性和高温保存性均优异的阻焊膜的碱性显影型树脂组合物、其光固化性的干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板。所述碱性显影型树脂组...
    2026-01-31
  • 一种ZrO2纳米粒子掺杂的负性光刻胶及其制备方法
    一种ZrO2纳米粒子掺杂的负性光刻胶及其制备方法_常州邦铭新材料科技有限公司_202511180508.9
    本发明涉及光刻胶技术领域， 公开了一种ZrO2纳米粒子掺杂的负性光刻胶及其制备方法。该负性光刻胶包括丙烯酸酯类光刻胶基体和分散于其中的改性ZrO2纳米粒子；所述改性ZrO2纳米粒子为表面接枝有草酸和丙烯酸酯基硅烷偶联剂的ZrO2纳米粒子。本...
    2026-01-31
  • 耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法
    耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法_江苏中德电子材料科技有限公司_202410245582.3
    本发明涉及一种耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法， 该光刻胶的组分及其重量百分数为：20‑40％线性酚醛环氧树脂、0.5‑1.5％环氧树脂的潜伏型固化剂、1‑15％线性酚醛树脂、3‑25％重氮类光敏剂、20‑65％溶剂、0‑2％其他助剂...
    2026-01-31
  • 匀胶机及光掩模涂胶方法
    匀胶机及光掩模涂胶方法_长沙韶光芯材科技有限公司_202511069486.9
    本发明公开了一种匀胶机及光掩模涂胶方法， 属于匀胶机领域， 匀胶机包括机台、放置板和定位机构， 放置板转动连接在机台内， 放置板用于供基板放置， 定位机构， 安装在放置板上， 定位机构包括第一定位板、第二定位板和牵引组件， 第一定位板和第二...
    2026-01-31
  • 一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置
    一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置_芯禾科技(江苏)有限公司_202511277750.8
    本发明公开了一种表面自清洁喷淋盘自动化喷涂装置， 本发明涉及喷射装置技术领域， 该喷涂装置包括箱体、总控模块、加热模块、搬运机械臂、涂显机构、旋转机构和夹持卡盘， 箱体上设有柜门和转孔， 涂显机构包括三轴位移模块和清理机构， 清理机构包括底...
    2026-01-31
  • 针对基于TMM算法计算反射率的验证方法、设备与产品
    针对基于TMM算法计算反射率的验证方法、设备与产品_深圳晶源信息技术有限公司_202510847372.6
    本发明提供了一种针对基于TMM算法计算反射率的验证方法、设备与产品。其中针对基于TMM算法计算反射率的验证方法包括：根据待制作的器件类型设计掩模和膜层堆叠结构；根据掩模和膜层堆叠结构的参数基于TMM算法得到每个膜层的第一反射率；将膜层堆叠结...
    2026-01-31
  • 基于衍射的叠加散射测量
    基于衍射的叠加散射测量_科磊股份有限公司_202511051445.7
    本发明涉及基于衍射的叠加散射测量。一种在制造过程中使用的监测叠加的方法， 其中连续层经逐层沉积以形成堆叠。每一层可包含例如衍射光栅的周期性结构以与另一层中的周期性结构对准。可照亮所述堆叠周期性结构， 以从所述周期性结构形成+及‑第一级衍射图...
    2026-01-31
  • 抗蚀剂的干式显影
    抗蚀剂的干式显影_朗姆研究公司_202510782019.4
    抗蚀剂的干式显影可使用于例如在高分辨率图案化中形成图案化掩模。干式显影可有利地通过半导体衬底的处理方法来实现， 该方法包括：在处理室中将已光图案化的抗蚀剂提供至半导体衬底上的衬底层上；以及通过以下方式对所述已光图案化的抗蚀剂进行干式显影：通...
    2026-01-31
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